1.一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：包括反應(yīng)腔（1）、進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和真空抽氣機(jī)構(gòu)，所述反應(yīng)腔（1）內(nèi)固定設(shè)置有用于將反應(yīng)腔（1）分為生長(zhǎng)室（3）和勻氣室（4）的勻氣篩（2），所述生長(zhǎng)室（3）內(nèi)固定設(shè)置有層層疊加的生長(zhǎng)基底（5），所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和真空抽氣機(jī)構(gòu)均通過電磁閥與勻氣室（4）連通。
2.如權(quán)利要求1所述的一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：所述勻氣室（4）的數(shù)量為兩個(gè)，所述生長(zhǎng)室（3）位于兩個(gè)勻氣室（4）之間，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)通過電磁閥與其中一個(gè)勻氣室（4）連通，所述真空抽氣機(jī)構(gòu)通過電磁閥與另一個(gè)勻氣室（4）連通。
3.如權(quán)利要求1所述的一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：所述勻氣室（4）的數(shù)量為兩個(gè)，所述生長(zhǎng)室（3）位于兩個(gè)勻氣室（4）之間，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)分別通過兩個(gè)電磁閥與兩個(gè)勻氣室（4）連通，所述真空抽氣機(jī)構(gòu)分別通過兩個(gè)電磁閥與兩個(gè)勻氣室（4）連通。
4.如權(quán)利要求1—3中任一項(xiàng)所述的一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)包括氣體室（8）、混氣室（9）和管道，所述混氣室（9）通過管道連接在氣體室（8）和勻氣室（4）之間，所述電磁閥位于混氣室（9）與勻氣室（4）之間。
5.如權(quán)利要求1—3中任一項(xiàng)所述的一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：所述真空抽氣機(jī)構(gòu)包括真空泵（6）、針閥（7）和管道，所述針閥（7）通過管道連接在真空泵（6）與勻氣室（4）之間，所述電磁閥位于針閥（7）與勻氣室（4）之間。
6.如權(quán)利要求1—3中任一項(xiàng)所述的一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：所述勻氣室（4）內(nèi)固定設(shè)置有氣流擋板（10）。
7.如權(quán)利要求6所述的一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：所述氣流檔板為弧形板。
8.如權(quán)利要求1所述的一種生長(zhǎng)石墨烯的裝置，其特征在于：所述生長(zhǎng)室（3）內(nèi)相鄰兩層生長(zhǎng)基底（5）之間的間距為5mm。