本發(fā)明涉及量子點(diǎn)熒光粉材料領(lǐng)域,特別涉及一種耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料制備方法。
背景技術(shù):
量子點(diǎn)材料具有奇特的納米效應(yīng)和優(yōu)異的熒光性能,在顯示領(lǐng)域有半峰寬窄和色域廣等無法比擬的優(yōu)勢(shì),因此成為近年來最熱門的研究領(lǐng)域之一。但是市場(chǎng)上的量子點(diǎn)顯示產(chǎn)品還非常少,一方面由于量子點(diǎn)材料的價(jià)格昂貴,另外最主要的原因是量子點(diǎn)材料對(duì)空氣、溫度和濕度非常敏感,導(dǎo)致其光電器件穩(wěn)定性不佳,使用壽命不長(zhǎng)。
現(xiàn)有技術(shù)通常采用無機(jī)二氧化硅或者有機(jī)物包覆量子點(diǎn),這樣一方面可以改善量子點(diǎn)在后期封裝過程中與膠水的兼容性,另外一方面可以一定程度上降低空氣和濕度對(duì)量子點(diǎn)的影響。
二氧化硅包覆量子點(diǎn)通??梢酝ㄟ^stober法或者反相微乳液法進(jìn)行制備。stober法首先需要將油溶性量子點(diǎn)轉(zhuǎn)成水溶性量子點(diǎn),再通過酸/堿溶液催化teos水解,這兩個(gè)過程都極易造成量子點(diǎn)團(tuán)簇,最終導(dǎo)致產(chǎn)率急劇下降;反相微乳液法則成本高,過程繁瑣,條件精確,產(chǎn)量小,難以具有實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。有機(jī)物包覆常見的為pmma,peg,ps包覆,但是這些聚合物熔點(diǎn)低,無法在高溫下對(duì)量子點(diǎn)進(jìn)行持續(xù)保護(hù),因此難以達(dá)到滿意的包覆效果。
現(xiàn)有二氧化硅包覆量子點(diǎn)的技術(shù)工藝過程繁瑣,產(chǎn)量低,并且轉(zhuǎn)水相過程容易導(dǎo)致量子點(diǎn)團(tuán)簇和量子點(diǎn)產(chǎn)率降低。現(xiàn)有聚合物包覆技術(shù),常常包覆的聚合物熔點(diǎn)較低,在高溫下融化導(dǎo)致量子點(diǎn)裸露,無法持續(xù)保護(hù)量子點(diǎn)免受濕度和空氣的影響。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為解決上述問題,本發(fā)明提供一種耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料制備方法,包括如下步驟:
s110:制備量子點(diǎn)前驅(qū)液,將硒粉和有機(jī)溶劑混合形成量子點(diǎn)前驅(qū)液;
s120:制備耐高溫量子點(diǎn)溶液,將鎘源、鋅源、脂肪酸和有機(jī)溶劑混合,加入s110中制備的量子點(diǎn)前驅(qū)液,制備耐高溫cdznse@znse量子點(diǎn)原液;再通過乙醇離心提純耐高溫cdznse@znse量子點(diǎn)原液后,將經(jīng)過提純的耐高溫cdznse@znse量子點(diǎn)原液分散于己烷中,獲得耐高溫量子點(diǎn)溶液;
s130:制備聚硅氧烷預(yù)聚體,將有機(jī)硅氧烷、水和酸混合,制備獲得聚硅氧烷預(yù)聚體;
s140:制備量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物,將s120制備的耐高溫量子點(diǎn)溶液與s130制備的聚硅氧烷預(yù)聚體混合,經(jīng)過干燥固化,獲得量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物;
s150:制備量子點(diǎn)熒光粉:對(duì)s140制備的量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物進(jìn)行粉碎,獲得量子點(diǎn)熒光粉。
進(jìn)一步地,s120中制備耐高溫量子點(diǎn)溶液的方法為:取鎘源,鋅源,脂肪酸和有機(jī)溶劑置于三口燒瓶中,加熱至80-110℃抽氣30-40min,然后加熱至280-310℃,快速注入s110中制備的量子點(diǎn)前驅(qū)液;保溫5-15min,升溫至300-310℃,逐滴滴加量子點(diǎn)前驅(qū)液,保溫20-40min后,冷卻至室溫,得到耐高溫cdznse@znse量子點(diǎn)原液;往耐高溫cdznse@znse量子點(diǎn)原液加入乙醇離心提純后分散于己烷中,得到耐高溫量子點(diǎn)溶液。
進(jìn)一步地,s130中制備聚硅氧烷預(yù)聚體的方法為:取有機(jī)硅氧烷,加入水和ph為1-3的酸,50-100℃下攪拌水解1~5h,得到位于上層的酸液和位于下層的聚硅氧烷預(yù)聚體;下層聚硅氧烷預(yù)聚體采用去離子水清洗。
進(jìn)一步地,s140中制備量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物的方法為:將s120中制得的耐高溫量子點(diǎn)溶液,加入到s130中制得的聚硅氧烷預(yù)聚體中,攪拌5-10min,使耐高溫量子點(diǎn)溶液和聚硅氧烷預(yù)聚體混合均勻,同時(shí)使己烷完全揮發(fā);再將耐高溫量子點(diǎn)溶液和聚硅氧烷預(yù)聚體混合液置于真空干燥箱中,在100-200℃,0.01-0.1pa下,保溫抽氣0.5-5h,使得聚硅氧烷預(yù)聚體完全固化,冷卻,獲得量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物。
進(jìn)一步地,s150中制備量子點(diǎn)熒光粉的方法為:采用機(jī)械粉碎對(duì)s140制得的量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物進(jìn)行粉碎,粉碎時(shí)間0.5-4h,將粉碎的熒光粉過800目篩,過篩的熒光粉即為耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料。
進(jìn)一步地,所述鎘源為硬脂酸鎘、醋酸鎘、氧化鎘中的至少一種;所述鋅源為氧化鋅、硬脂酸鋅、醋酸鋅中的至少一種;所述脂肪酸為硬脂酸、油酸、十四烷酸中的至少一種;所述有機(jī)溶劑為液體石蠟、三辛基膦、十八烯或者十八烷。
進(jìn)一步地,所述酸為有機(jī)酸或無機(jī)酸;有機(jī)酸為甲酸、乙酸、乙二酸;無機(jī)酸為硝酸或者鹽酸;所述有機(jī)硅氧烷為甲基硅氧烷、苯基硅氧烷、乙烯基硅氧烷、巰丙基硅氧烷中的至少一種。
進(jìn)一步地,所述機(jī)械粉碎方式為冷凍粉碎、球磨粉碎或者剪切粉碎。
本發(fā)明提供的耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料制備方法對(duì)油溶性量子點(diǎn)進(jìn)行包覆,制備過程不僅條件溫和,避免了轉(zhuǎn)水相過程對(duì)量子點(diǎn)的表面配體和產(chǎn)率的影響,而且包覆物聚硅氧烷具有耐高溫和疏水性,可以在高溫高濕條件下持續(xù)保護(hù)量子點(diǎn)。采用本發(fā)明提供的耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料制備方法,方法簡(jiǎn)單易操作,產(chǎn)量高,適合量子點(diǎn)熒光粉的批量生產(chǎn)。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明提供的耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料制備方法流程圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例1、對(duì)比樣品1和對(duì)比樣品2在不同溫度下烘烤24h后產(chǎn)率下降比率;
圖3為本發(fā)明實(shí)施例2、對(duì)比樣品3和對(duì)比樣品4在不同溫度下烘烤24h后產(chǎn)率下降比率。
具體實(shí)施方式
為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
如圖1所示:本發(fā)明實(shí)施例提供一種耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料制備方法,其制備過程包括以下步驟:制備量子點(diǎn)前驅(qū)液;耐高溫量子點(diǎn)溶液的制備;聚硅氧烷預(yù)聚體的制備;量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物的制備和量子點(diǎn)熒光粉的制備。
優(yōu)選地,所述耐高溫量子點(diǎn)的制備過程為取0.1-0.5mmol鎘源,1-5mmol鋅源,5-15mmol脂肪酸和2-10ml有機(jī)溶劑置于三口燒瓶中,加熱至80-110℃抽氣30-40min,抽氣是為了抽去空氣,和溶劑中雜質(zhì),保持在純凈環(huán)境中進(jìn)行后續(xù)反應(yīng),繼續(xù)加熱至280-310℃,快速注入0.5-2ml量子點(diǎn)前驅(qū)液。保溫5-15min后,升溫至300-310℃,逐滴滴加0.5-2ml量子點(diǎn)前驅(qū)液,保溫20-40min后,冷卻至室溫,得到耐高溫cdznse@znse量子點(diǎn)原液;加入乙醇離心提純2-3次后分散在己烷中,得到耐高溫量子點(diǎn)溶液;
優(yōu)選地,聚硅氧烷預(yù)聚體的制備過程為取10-20ml有機(jī)硅氧烷,加入20-40ml水,0.5-1mlph為1-3的酸的水溶液,50-100℃下攪拌水解1-5h后,去除位于上層的酸液;位于下層的聚硅氧烷預(yù)聚體采用去離子水清洗2-3次即可得聚硅氧烷預(yù)聚體;
優(yōu)選地,量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物的制備過程為取1-5ml量子點(diǎn)溶液,加入到5-10g聚硅氧烷預(yù)聚體中,攪拌5-10min使得耐高溫量子點(diǎn)溶液和聚硅氧烷預(yù)聚體混合均勻,同時(shí)使己烷完全揮發(fā);再將耐高溫量子點(diǎn)溶液和聚硅氧烷預(yù)聚體混合液置于真空干燥箱中,100-200℃,0.01-0.1pa下,保溫抽氣0.5-5h,使得聚硅氧烷預(yù)聚體完全固化,冷卻后得到量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物;
優(yōu)選地,,量子點(diǎn)熒光粉的制備過程為將量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物采用機(jī)械粉碎成量子點(diǎn)熒光粉。粉碎時(shí)間0.5-4h,將粉碎的熒光粉過800目篩,即得到本專利所述耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料。
優(yōu)選地,所述鎘源為硬脂酸鎘、醋酸鎘、氧化鎘中的至少一種;所述鋅源為氧化鋅、硬脂酸鋅、醋酸鋅中的至少一種;所述脂肪酸為硬脂酸、油酸、十四烷酸中的至少一種;所述有機(jī)溶劑為液體石蠟、三辛基膦、十八烯或者十八烷。
優(yōu)選地,所述酸為有機(jī)酸或無機(jī)酸;有機(jī)酸為甲酸、乙酸、乙二酸;無機(jī)酸為硝酸或者鹽酸;所述有機(jī)硅氧烷為甲基硅氧烷、苯基硅氧烷、乙烯基硅氧烷、巰丙基硅氧烷中的至少一種。
優(yōu)選地,所述機(jī)械粉碎方式為冷凍粉碎、球磨粉碎或者剪切粉碎。
實(shí)施例一
量子點(diǎn)前驅(qū)液的制備:取0.16g硒粉,加入4ml十八烯,手動(dòng)振蕩均勻后超聲5min,記為前驅(qū)液a;
耐高溫量子點(diǎn)的制備:取0.25mmol氧化鎘,2.5mmol醋酸鋅置于三口燒瓶中,再加入2ml油酸,5ml十八烯,攪拌加熱至100℃,抽氣30min,去除三口瓶中的空氣和雜質(zhì)。進(jìn)一步加熱至280℃,快速注入2ml前驅(qū)液a,繼續(xù)升溫至300℃,逐滴滴加2ml前驅(qū)液a,310℃保溫30min后冷卻至室溫得到cdznse@znse量子點(diǎn)原液。取2ml量子點(diǎn)原液,加入2ml正己烷和4ml乙醇,振蕩均勻后以10000r/min轉(zhuǎn)速下離心10min,去除上層清液,將底層沉淀重新溶解;按照上述操作重復(fù)2次,得到的沉淀溶解在己烷中,得到提純后的cdznse@znse量子點(diǎn)溶液;
聚硅氧烷預(yù)聚體的制備:取10ml甲基三甲氧基硅烷,加入20ml水,0.5mlph=2的鹽酸溶液,攪拌均勻后,加熱至80℃保溫水解2h,去除位于上層的酸液,得到位于下層甲基三甲氧基硅烷預(yù)聚體。將甲基三甲氧基硅烷預(yù)聚體水洗2次,去除殘留的鹽酸;
取3mlcdznse@znse量子點(diǎn)溶液,加入5g甲基三甲氧基硅烷預(yù)聚體,攪拌均勻后,置于真空干燥箱中抽氣并加熱,抽氣是為了去除空氣,水汽,預(yù)聚產(chǎn)生的小分子物質(zhì)等,0.01pa氣壓下,150℃保溫4h,冷卻至室溫得到量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物;
將量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物用球磨機(jī)粉碎,轉(zhuǎn)速400r/min,球磨2h后,將得到的粉體過800目篩,過篩的粉體即為耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料。
本發(fā)明提供的耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料制備方法,聚硅氧烷預(yù)聚體和量子點(diǎn)共混過程中,量子點(diǎn)會(huì)嵌入到預(yù)聚體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),固化后起到包覆量子點(diǎn)的作用;另一方面,耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料的制備過程相比于量子點(diǎn)轉(zhuǎn)水相,不涉及到量子點(diǎn)表面配體的置換;同時(shí)量子點(diǎn)不和酸/堿直接接觸,量子點(diǎn)轉(zhuǎn)水相過程要加入少許酸/堿催化劑,相比而言,過程溫和,有利于保護(hù)量子點(diǎn),防止其熒光猝滅。
對(duì)比樣品1和對(duì)比樣品2分別為用pmma和ps包覆具體實(shí)施例一中的量子點(diǎn)制得的耐高溫量子點(diǎn)。采用pmma包覆和采用ps包覆類似,例如將pmma、氯仿、量子點(diǎn)三者溶解,混合均勻后,干燥固化,得到混合物粉碎,即得到pmma包覆的量子點(diǎn)熒光粉材料。
測(cè)試方法:將制得的量子點(diǎn)熒光粉材料在一定溫度下,保溫24h,測(cè)試其產(chǎn)率。與室溫下量子點(diǎn)熒光粉產(chǎn)率對(duì)比,得到產(chǎn)率下降比例。
從圖2中可以看出,由于pmma和ps的熔點(diǎn)較低,其包覆的量子點(diǎn)產(chǎn)率在100℃之前變化不大,但是溫度超過100℃后,隨著聚合物融化,量子點(diǎn)裸露至空氣中與水氣和氧氣接觸,導(dǎo)致量子點(diǎn)產(chǎn)率急劇下降。溫度為150℃是,pmma和ps包覆的量子點(diǎn)熒光粉產(chǎn)率分別下降至61%和53%。相比而言,本發(fā)明實(shí)施例一中采用聚甲基三甲氧基硅烷預(yù)聚體包覆,具有良好的耐熱性和疏水性,150℃下仍能保持其原有產(chǎn)率的94%,有良好的溫度濕度穩(wěn)定性。
實(shí)施例二
量子點(diǎn)前驅(qū)液的制備:取0.2g硒粉,加入1ml三辛基膦和3ml十八烯,振蕩至硒粉完全溶解得到量子點(diǎn)前驅(qū)液a;
耐高溫量子點(diǎn)的制備:取0.25mmol氧化鎘,2.5mmol醋酸鋅置于三口燒瓶中,再加入2ml油酸,5ml十八烯,攪拌加熱至100℃,抽氣30min。進(jìn)一步加熱至290℃,快速注入2ml量子點(diǎn)前驅(qū)液a;保溫10min后得到cdznse量子點(diǎn)核;繼續(xù)加熱升溫至310℃,逐滴滴加2ml量子點(diǎn)前驅(qū)液a,然后升溫至310℃保溫30min后冷卻至室溫得到cdznse@znse量子點(diǎn)原液;取2ml原液,加入2ml正己烷和4ml乙醇,振蕩均勻后于10000r/min轉(zhuǎn)速下離心10min,去除上層清液,將底層沉淀重新溶解;按照上述操作重復(fù)2次,得到的沉淀溶解在己烷中,得到提純后的cdznse@znse量子點(diǎn)溶液;
聚硅氧烷預(yù)聚體的制備:取5ml甲基三甲氧基硅烷和5ml苯基三甲氧基硅烷,加入20ml水,0.4mlph=2的鹽酸溶液,攪拌均勻后,加熱至70℃保溫水解2h,去除上層酸水,得到下層硅烷預(yù)聚體。將預(yù)聚體水洗2次,去除殘留的鹽酸;
量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物的制備:取3mlcdznse@znse量子點(diǎn)溶液,加入5g上述硅烷預(yù)聚體,攪拌均勻后,置于真空干燥箱中抽氣并加熱,0.01pa氣壓下,160℃保溫4h,冷卻至室溫得到量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物;
將量子點(diǎn)-聚硅氧烷復(fù)合物用球磨機(jī)粉碎,轉(zhuǎn)速400r/min,球磨2h后,將得到的粉體過800目篩,即得到本專利所述耐高溫疏水性量子點(diǎn)熒光粉材料。
對(duì)比樣品3和對(duì)比樣品4分別為用pmma和ps包覆具體實(shí)施例二中的量子點(diǎn)制得的耐高溫量子點(diǎn)。
從圖3中可以看出,由于pmma和ps的熔點(diǎn)較低,其包覆的量子點(diǎn)產(chǎn)率在100℃之前變化不大,但是溫度超過100℃后,隨著聚合物融化,量子點(diǎn)裸露至空氣中與水氣和氧氣接觸,導(dǎo)致量子點(diǎn)產(chǎn)率急劇下降。溫度為150℃是,pmma和ps包覆的量子點(diǎn)熒光粉產(chǎn)率分別下降至58%和56%。相比而言,具體實(shí)施例二中采用聚甲基三甲氧基硅烷和聚苯基三甲氧基硅烷包覆,具有良好的耐熱和疏水性性,150℃下仍能保持其原有產(chǎn)率的97%,有良好的溫度濕度穩(wěn)定性。
最后應(yīng)說明的是:以上各實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對(duì)其限制;盡管參照前述各實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對(duì)其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的范圍。