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一種真空微波加熱設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):12003428閱讀:394來(lái)源:國(guó)知局
一種真空微波加熱設(shè)備的制作方法與工藝

本實(shí)用新型涉及微波加熱領(lǐng)域,尤其涉及一種真空微波加熱設(shè)備。



背景技術(shù):

常規(guī)真空干燥方法傳熱速度慢,效率低,并且溫度控制難度大。常規(guī)的真空干燥設(shè)備都采用蒸汽進(jìn)行加熱,需要從里到外進(jìn)行加熱,加熱速度慢需要耗費(fèi)大量的煤,污染環(huán)境、成本相對(duì)比較高、溫度不容易控制、加熱時(shí)間長(zhǎng)、效率低。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種真空微波加熱設(shè)備,其能解決加熱速度慢、效率低問(wèn)題。

本實(shí)用新型的目的采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):

一種真空微波加熱設(shè)備,包括用于對(duì)物體加熱的干燥加熱箱體、PLC控制模塊、用于對(duì)干燥加熱箱體抽真空的真空泵和驅(qū)動(dòng)真空泵工作的真空泵電機(jī)M1、用于向干燥加熱箱體通入氣體的進(jìn)氣通道、以及第一交流接觸器、第二交流接觸器和第四交流接觸器,所述干燥加熱箱體內(nèi)安裝有多個(gè)磁控管、轉(zhuǎn)盤(pán)以及驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2,所述進(jìn)氣通道上安裝有電磁閥;所述真空微波加熱設(shè)備還包括為所述PLC控制模塊、真空泵電機(jī)M1、電磁閥、磁控管、轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2供電的三相交流電源;

所述第一交流接觸器包括接觸器線圈KM1以及與所述接觸器線圈KM1相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)KM1-1;所述第二交流接觸器包括接觸器線圈KM2以及與所述接觸器線圈KM2相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)KM2-1;所述第四交流接觸器包括接觸器線圈YA以及與所述接觸器線圈YA相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)YA-1;

所述磁控管均通過(guò)磁控管微波檢測(cè)電路連接于PLC控制模塊的輸入端,所述接觸器線圈KM1、接觸器線圈KM2和接觸器線圈YA分別連接至PLC控制模塊相應(yīng)的輸出端;

所述三相交流電源通過(guò)常開(kāi)觸點(diǎn)KM1-1與真空泵電機(jī)M1電性連接,所述三相交流電源中的任一相通過(guò)常開(kāi)觸點(diǎn)KM2-1與轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2電性連接;所述三相交流電源中的任一相依次通過(guò)開(kāi)關(guān)電源UG和常開(kāi)觸點(diǎn)YA-1與電磁閥電性連接。

優(yōu)選地,所述三相交流電源和PLC控制模塊之間還連接有一開(kāi)關(guān)電路,所述開(kāi)關(guān)電路包括斷路器QF3以及第三交流接觸器,所述第三交流接觸器包括接觸器線圈KM3以及與所述接觸器線圈KM3相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)KM3-1,其中,三相交流電源依次通過(guò)斷路器QF3、以及常開(kāi)觸點(diǎn)KM3-1后形成三相交流輸出電源,所述PLC控制模塊的電源端以及開(kāi)關(guān)電源UG的輸入端均連接于該三相交流輸出電源的任一相上,接觸器線圈KM3的一端連接至三相交流電源的中性線上,另一端通過(guò)總開(kāi)關(guān)按鈕SB1連接于斷路器QF3和常開(kāi)觸點(diǎn)KM3-1之間的三相交流電源的任一相上。

優(yōu)選地,所述接觸器線圈KM3兩端還并聯(lián)一指示燈2H。

優(yōu)選地,所述三相交流電源和常開(kāi)觸點(diǎn)KM1-1之間還連接一斷路器QF1,所述三相交流電源和常開(kāi)觸點(diǎn)KM2-1之間還連接一斷路器QF2。

優(yōu)選地,還包括人機(jī)界面模塊,所述人機(jī)界面模塊一端通過(guò)485總線與PLC控制模塊連接,另一端與開(kāi)關(guān)電源連接。

優(yōu)選地,還包括模擬擴(kuò)展模塊,所述模擬擴(kuò)展模塊一端與PLC控制模塊連接,另一端連接有紅外探測(cè)儀。

優(yōu)選地,所述開(kāi)關(guān)電源UG輸出24V直流電源。

優(yōu)選地,所述PLC控制模塊采用FX3U-32M芯片。

相比現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型的有益效果至少如下:采用微波加熱,無(wú)需傳熱媒介,直接加熱到物體內(nèi)部,升溫速度快,速度快、效率高、干燥周期大大縮短,能耗降低。由于微波加熱,是從內(nèi)到外對(duì)物料進(jìn)行同時(shí)加熱,物料的內(nèi)外溫差很小,不會(huì)產(chǎn)生常規(guī)加熱中出現(xiàn)的內(nèi)外加熱不一致的狀況,從而產(chǎn)生膨化的效果,利于粉碎,使干燥質(zhì)量大大提高。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型真空微波加熱設(shè)備主控部分的電路示意圖;

圖2是本實(shí)用新型真空微波加熱設(shè)備受控部分的電路示意圖。

具體實(shí)施方式

下面,結(jié)合附圖以及具體實(shí)施方式,對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述:

請(qǐng)參見(jiàn)圖1和圖2所示,本實(shí)用新型涉及一種真空微波加熱設(shè)備,其包括用于對(duì)物體加熱的干燥加熱箱體、PLC控制模塊、用于對(duì)干燥加熱箱體抽真空的真空泵和驅(qū)動(dòng)真空泵工作的真空泵電機(jī)M1、用于向干燥加熱箱體通入氣體的進(jìn)氣通道、以及第一交流接觸器、第二交流接觸器和第四交流接觸器,干燥加熱箱體內(nèi)安裝有多個(gè)磁控管、轉(zhuǎn)盤(pán)以及驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2,進(jìn)氣通道上安裝有電磁閥;真空微波加熱設(shè)備還包括為PLC控制模塊、真空泵電機(jī)M1、電磁閥、磁控管、轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2供電的三相交流電源;

第一交流接觸器包括接觸器線圈KM1以及與接觸器線圈KM1相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)KM1-1;第二交流接觸器包括接觸器線圈KM2以及與接觸器線圈KM2相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)KM2-1;第四交流接觸器包括接觸器線圈YA以及與接觸器線圈YA相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)YA-1;

磁控管均通過(guò)磁控管微波檢測(cè)電路連接于PLC控制模塊的輸入端,接觸器線圈KM1、接觸器線圈KM2和接觸器線圈YA分別連接至PLC控制模塊相應(yīng)的輸出端;

三相交流電源依次通過(guò)斷路器QF1(為三相聯(lián)動(dòng)斷路器)常開(kāi)觸點(diǎn)KM1-1(為三相聯(lián)動(dòng)常開(kāi)觸點(diǎn))與真空泵電機(jī)M1(為三相交流電機(jī))電性連接,三相交流電源中的任一相依次通過(guò)斷路器QF2常開(kāi)觸點(diǎn)KM2-1與轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2電性連接;三相交流電源中的任一相依次通過(guò)開(kāi)關(guān)電源UG和常開(kāi)觸點(diǎn)YA-1與電磁閥電性連接。

三相交流電源和PLC控制模塊之間還連接有一開(kāi)關(guān)電路,開(kāi)關(guān)電路包括斷路器QF3以及第三交流接觸器,第三交流接觸器包括接觸器線圈KM3以及與接觸器線圈KM3相配合的常開(kāi)觸點(diǎn)KM3-1,其中,三相交流電源依次通過(guò)斷路器QF3、以及常開(kāi)觸點(diǎn)KM3-1后形成三相交流輸出電源,PLC控制模塊的電源端以及開(kāi)關(guān)電源UG的輸入端均連接于該三相交流輸出電源的任一相上,接觸器線圈KM3的一端連接至三相交流電源的中性線上,另一端連接于斷路器QF3和常開(kāi)觸點(diǎn)KM3-1之間的三相交流電源的任一相上。接觸器線圈KM3兩端還并聯(lián)一指示燈2H。

在本實(shí)施例中,磁控微波檢測(cè)電路一端與PLC控制模塊連接,另一端通過(guò)互感器與磁控管連接。其中磁控微波檢測(cè)電路的第一至第六輸入端X1-X6與PLC控制模塊中的輸入端X1至X6一一對(duì)應(yīng)連接,磁控微波檢測(cè)電路的第一至第六輸出端T1-T6與互感器TA1-TA6一一對(duì)應(yīng)連接,每一個(gè)互感器連接一個(gè)磁控管,磁控管均與三相電源連接,在三相電源與各個(gè)磁控管之間均連接一磁控管控制開(kāi)關(guān),對(duì)磁控管控制開(kāi)關(guān)的控制也可以由PLC控制模塊完成(例如,可采用與對(duì)轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2的控制類(lèi)似的方式進(jìn)行)。

為了達(dá)到更好的技術(shù)效果,在本實(shí)施例中,還包括人機(jī)界面模塊,人機(jī)界面模塊一端通過(guò)485總線與PLC控制模塊連接,另一端與開(kāi)關(guān)電源UG連接;其中人機(jī)界面采用TM4513芯片。

為了達(dá)到更好的技術(shù)效果,在本實(shí)施例中,還包括模擬擴(kuò)展模塊,模擬擴(kuò)展模塊一端與PLC控制模塊連接,另一端連接有紅外探測(cè)儀;其中紅外探測(cè)儀用來(lái)檢測(cè)加熱箱體的溫度;其中模擬擴(kuò)展模塊采用FX2N-2AD芯片。

工作原理為:?jiǎn)?dòng)總開(kāi)關(guān)按鈕SB1并閉合斷路器QF1,指示燈2H點(diǎn)亮,接觸器線圈KM3勵(lì)磁,常開(kāi)觸點(diǎn)KM3-1閉合,使得PLC控制模塊啟動(dòng),將帶干燥物品放入干燥加熱箱體內(nèi)后,閉合斷路器QF3并通過(guò)人機(jī)界面模塊控制常開(kāi)觸點(diǎn)KM1-1閉合(通過(guò)對(duì)第二接觸線圈KM2的控制實(shí)現(xiàn))使得真空泵電機(jī)工作并驅(qū)動(dòng)真空泵對(duì)干燥加熱箱體內(nèi)進(jìn)行抽真空處理,以使真空吸緊干燥加熱箱體;然后閉合斷路器QF2并通過(guò)人機(jī)界面模塊控制常開(kāi)觸點(diǎn)KM2-1閉合,轉(zhuǎn)盤(pán)電機(jī)M2帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí),通過(guò)人機(jī)界面模塊對(duì)磁控管的工作數(shù)量進(jìn)行控制(通過(guò)控制磁控管控制開(kāi)關(guān)的閉合與否實(shí)現(xiàn))以適應(yīng)帶加熱物品的多少。磁控管產(chǎn)生微波通過(guò)波導(dǎo)輸送到加熱箱體內(nèi)部,加熱物體吸收微波后實(shí)現(xiàn)干燥過(guò)程。干燥完畢后,通過(guò)人機(jī)界面模塊控制磁控管不工作,并且向干燥加熱箱體內(nèi)通氣可打開(kāi)干燥加熱箱門(mén)。通氣的方式有三種,一是直接通過(guò)PLC控制模塊對(duì)磁控管的工作與否進(jìn)行檢測(cè)后輸出信號(hào)給接觸器線圈YA以控制電磁閥上的常開(kāi)觸點(diǎn)YA-1,二是通過(guò)人機(jī)界面模塊直接輸出信號(hào)給接觸器線圈YA以控制電磁閥上的常開(kāi)觸點(diǎn)YA-1;三是在電磁閥上并接一手動(dòng)閥,通過(guò)該手動(dòng)閥收到完成。

對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可根據(jù)以上描述的技術(shù)方案以及構(gòu)思,做出其它各種相應(yīng)的改變以及形變,而所有的這些改變以及形變都應(yīng)該屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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