專利名稱：一種制氧設(shè)備及制氧方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及氣體分離設(shè)備領(lǐng)域，更具體說，是涉及關(guān)于分子篩吸附的 氣體分離設(shè)備。
背景技術(shù)：
變壓吸附制氧是采用物理吸附的方法，使用的吸附劑是沸石分子篩
(zeolite molecular sieve)。空氣中的主要成分是氮?dú)?、氧氣及其它?有氣體，它們的分子極性各不相同，其中氮?dú)獾臉O性較氧氣的極性要大。 沸石分子篩是一種極性吸附劑，在等溫條件下，當(dāng)吸附壓力增加時(shí)，它對(duì) 氮?dú)獾钠胶馕搅恳妊鯕庠黾雍芏?；?dāng)吸附壓力減少時(shí)，它對(duì)氮?dú)獾钠?衡吸附量比氧氣減少很多。利用沸石分子篩的這一特性，可采用加壓吸附， 減壓解吸循環(huán)操作的方法制取氧氣。
目前大部分PSA制氧設(shè)備都采用兩塔吸附的方式對(duì)氧氣進(jìn)行分離，均 采用"增壓吸附一降壓解吸一反吹清洗"的工藝流程，潔凈而干燥的壓縮 空氣經(jīng)由電磁閥的啟閉輪流進(jìn)入吸附塔內(nèi)，當(dāng)壓縮空氣流入一個(gè)吸附塔進(jìn) 行氮?dú)馕?、輸出氧氣時(shí)，另一個(gè)吸附塔則通過降低壓力而使沸石分子篩 將吸附的氮?dú)忉尫牛欧诺酱髿庵?，?dāng)塔內(nèi)的壓力降至大氣壓時(shí)，掃氣回 路的電磁閥開啟將一部分氧氣引入進(jìn)行么反吹洗，促進(jìn)分子篩的解吸再 生。當(dāng)吸附床中的分子篩達(dá)到最大吸附量之前，通過電磁閥動(dòng)作將空氣切 換到另一吸附床中進(jìn)行分離，兩個(gè)吸附塔交替工作，就完成了生產(chǎn)的連續(xù) 進(jìn)行。這樣的制氧流程，其制氧時(shí)進(jìn)氣和排氣都是非連續(xù)的，在反吹清洗 階段，由于需要較大氣量使反吹時(shí)間過長(zhǎng)，不能迅速提高吸附塔中的壓力，而導(dǎo)致制備好的氧氣沒被充分利用，并且還需要為系統(tǒng)配置較大體積的空 氣和氧氣儲(chǔ)罐，該方法的缺點(diǎn)就是操作周期時(shí)間長(zhǎng)，分離效率低，產(chǎn)品能 耗大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是在于提供一種制氧設(shè)備，它能克服上述缺陷，極大提 高其制氧分離效率。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的 一種制氧設(shè)備，其包含兩個(gè)裝填有沸石 分子篩的吸附塔A和吸附塔B，所述吸附塔A的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電 磁閥V4、氮?dú)馀欧殴苈吩O(shè)置有單向電磁閥V7、氧氣輸出管路設(shè)置有止逆 閥CV1，所述吸附塔B的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電磁閥V5、氮?dú)馀欧殴苈?設(shè)置有單向電磁閥V8、氧氣輸出管路設(shè)置有止逆閥CV2，各所述氮?dú)馀?放管與進(jìn)氣管均連在吸附塔的進(jìn)氣端，各所述氧氣輸出管連在吸附塔的出 氣端，所述制氧設(shè)備還包含有第三個(gè)裝填有沸石分子篩的吸附塔C，所述 吸附塔C的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電磁閥V6、氮?dú)馀欧殴苈吩O(shè)置有單向電 磁閥V9、氧氣輸出管路設(shè)置有止逆閥CV3;吸附塔A出氣端和吸附塔B 出氣端之間的掃氣增壓管路設(shè)置有雙向電磁閥VI,吸附塔B出氣端和吸 附塔C出氣端之間的掃氣增壓管路設(shè)置有雙向電磁閥V2,吸附塔C出氣 端和吸附塔A出氣端之間的掃氣增壓管路設(shè)置有雙向電磁閥V3;吸附塔 A、 B、 C的進(jìn)氣管路均接入總進(jìn)氣管路l，吸附塔A、 B、 C的氮?dú)馀欧?管路均接入總氮?dú)馀欧殴苈?;吸附塔A、 B、 C的氧氣輸出管路均接入 總氧氣輸出管路3。
所述制氧設(shè)備還有設(shè)置用導(dǎo)線與上述電磁閥VI至V9電連接的程序控制器。
本發(fā)明的另一 目的是提供一種使用上述制氧設(shè)備的制氧方法，其技術(shù) 方案是
干燥壓縮空氣進(jìn)入總進(jìn)氣管路1后，由程序控制器控制各電磁閥定時(shí) 啟閉，連續(xù)和周期性地包括以下步驟進(jìn)行制氧
(1) 電磁閥V1、 V4、 V9開啟，A塔進(jìn)氣，B塔向A塔加壓直至壓力平衡，
C塔排氮，持續(xù)時(shí)間為tl;
(2) 電磁閥V2、 V4、 V9開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向C塔反沖，C塔排氮， 持續(xù)時(shí)間為t2;
(3) 電磁閥V2、 V4開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向C塔加壓直至壓力平衡， 持續(xù)時(shí)間為t3;
(4) 電磁閥V3、 V4、 V8開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向C塔加壓，為C塔建 立吸附壓力，B塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t4;
(5) 電磁閥V3、 V6、 V8開啟，C塔進(jìn)氣，A塔向C塔加壓直至壓力平衡， B塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t5;
(6) 電磁閥V1、 V6、 V8開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向B塔反沖，B塔排氮， 持續(xù)時(shí)間為t6;
(7) 電磁閥V1、 V6開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向B塔加壓直至壓力平衡， 持續(xù)時(shí)間為t7;
(8) 電磁闊V2、 V6、 V7開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向B塔加壓，為B塔建 立吸附壓力，A塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t8;
(9) 電磁閥V2、 V5、 V7開啟，B塔進(jìn)氣，C塔向B塔加壓直至壓力平衡，A塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t9;
(10) 電磁閥V3、 V5、 V7開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向A塔反沖，A塔排 氮，持續(xù)時(shí)間為tlO;
(11) 電磁閥V3、 V5開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向A塔加壓直至壓力平衡， 持續(xù)時(shí)間為tll;
(12) 電磁闊V1、 V5、 V9開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向A塔加壓，為A塔 建立吸附壓力，C塔排氮，持續(xù)時(shí)間為tl2。
根據(jù)tl至t12各階段的時(shí)間，由程序控制器控制電磁閥VI至V9的 啟閉，使吸附塔周期交替地進(jìn)行輪流工作將氮、氧分離制取氧氣。
所述的制氧方法，由于使用了三個(gè)分子篩吸附塔，能使進(jìn)氣和排氣過 程的循環(huán)時(shí)間周期縮短，提高了吸附劑的利用率。
本發(fā)明的有益效果是，實(shí)現(xiàn)制氧流程進(jìn)氣和排氣都是連續(xù)的，因而還 可以去除氣體儲(chǔ)罐，從而提高產(chǎn)氧效率，降低了產(chǎn)品的能耗，大大降低制 氧系統(tǒng)的占地面積與成本。


圖1為所述制氧設(shè)備的制氧流程圖； 圖2為所述制氧方法的工作時(shí)序圖。
具體實(shí)施例方式
下面以實(shí)施例結(jié)合附圖作分析說明
如圖1所示，本發(fā)明包含三個(gè)裝填有沸石分子篩的吸附塔A、吸附塔 B和吸附塔C,在管路上設(shè)置有雙向電磁閥VI、 V2、 V3和單向電磁閥 V4、 V5、 V6、 V7、 V8、 V9及止逆閥CV1、 CV2、 CV3。吸附塔A的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電磁閥V4,吸附塔B的進(jìn)氣管路設(shè) 置有單向電磁閥V5，吸附塔C的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電磁閥V6;吸附 塔A、 B、 C的進(jìn)氣管路均接入總進(jìn)氣管路l。
吸附塔A的氮?dú)馀欧殴苈吩O(shè)置有單向電磁閥V7，吸附塔B的氮?dú)馀?放管路設(shè)置有單向電磁閥V8，吸附塔C的氮?dú)馀欧殴苈吩O(shè)置有單向電磁 閥V9，吸附塔A、 B、 C的氮?dú)馀欧殴苈肪尤肟偟獨(dú)馀欧殴苈?。
吸附塔A的氧氣輸出管路設(shè)置有止逆閥CV1，吸附塔B的氧氣輸出 管路設(shè)置有止逆閥CV2，吸附塔C的氧氣輸出管路設(shè)置有止逆閥CV3， 吸附塔A、 B、 C的氧氣輸出管路均接入總氧氣輸出管路3。
各所述氮?dú)馀欧殴芘c進(jìn)氣管均連在吸附塔的進(jìn)氣端，各所述氧氣輸出 管連在吸附塔的出氣端。
吸附塔A出氣端和吸附塔B出氣端之間設(shè)置有掃氣增壓管路4，掃 氣增壓管路4上設(shè)置有雙向電磁閥VI，當(dāng)電磁閥V1導(dǎo)通時(shí)，吸附塔A 和吸附塔B相連通；吸附塔B出氣端和吸附塔C出氣端之間設(shè)置有掃氣 增壓管路5，掃氣增壓管路5上設(shè)置有雙向電磁閥V2，當(dāng)電磁閥V2導(dǎo)通 時(shí)，吸附塔B和吸附塔C相連通；吸附塔C出氣端和吸附塔A出氣端之 間設(shè)置有掃氣增壓管路6，掃氣增壓管路6上設(shè)置有雙向電磁閥V3，當(dāng) 電磁閥V3導(dǎo)通時(shí)，吸附塔C和吸附塔A相連通。
電磁閥VI至V9通過導(dǎo)線與程序控制器電連接。
下面以使用16升的吸附塔、產(chǎn)氧量為5mVhr的制氧設(shè)備舉例說明制 氧方法。
如圖2所示，橫坐標(biāo)上tl至tl2代表l個(gè)周期中各階段時(shí)間，縱坐標(biāo)上VI至V9代表電磁閥的啟閉狀態(tài)。
使用上述實(shí)施例制氧設(shè)備的制氧方法工作流程如下干燥壓縮空氣從 總進(jìn)氣管路l進(jìn)入，由程序控制器控制電磁閥V1至V9的定時(shí)啟閉，連 續(xù)和周期性地按以下步驟進(jìn)行制氧-
1. 流程tl階段電磁閥V1、 V4、 V9開啟，A塔進(jìn)氣，B塔向A塔加壓直 至壓力平衡，C塔排氮。此時(shí)，電磁閥V4開啟，吸附塔A的進(jìn)氣管路 導(dǎo)通，壓縮空氣進(jìn)入吸附塔A制氧；同時(shí)，電磁閥V1開啟，吸附塔A 與吸附塔B的掃氣增壓管路導(dǎo)通，B塔內(nèi)較高的氣壓流向A塔進(jìn)行加 壓直到平衡，快速為A塔建立吸附壓力，A塔經(jīng)止逆閥CV1輸出氧氣； 同時(shí)，電磁閥V9開啟，吸附塔C的氮?dú)馀欧殴苈穼?dǎo)通，C塔排出氮 氣。
本階段的持續(xù)時(shí)間tl為2.5秒。
2. 流程t2階段電磁閥V2、 V4、 V9開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向C塔反 沖，C塔排氮。此時(shí)，電磁閥V4開啟，壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔A制 氧，經(jīng)止逆閥CV1輸出氧氣；同時(shí)，電磁閥V9開啟，C塔繼續(xù)排出氮 氣至壓力接近大氣壓；同時(shí)，電磁閥V2開啟，吸附塔B與吸附塔C 的掃氣增壓管路導(dǎo)通，B塔內(nèi)較高的氣壓向C塔進(jìn)行反沖，將C塔內(nèi) 部的氮?dú)馊繏叱觥?br> 本階段的持續(xù)時(shí)間t2為6. 7秒。
3. 流程t3階段電磁閥V2、 V4開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向C塔加壓直 至壓力平衡。此時(shí)，電磁閥V4繼續(xù)開啟，壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔A 制氧，經(jīng)止逆閥CV1輸出氧氣；電磁閥V9關(guān)閉，C塔氮?dú)庖雅疟M并停止向外排氣；同時(shí)，電磁閥V2繼續(xù)開啟，B塔氣體繼續(xù)向C塔快速增
壓，直至該兩塔的壓力平衡。
本階段的持續(xù)時(shí)間t3為5秒。
4. 流程t4階段電磁閥V3、 V4、 V8開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向C塔 加壓，為C塔建立吸附壓力，B塔排氮。此時(shí)，電磁閥V4繼續(xù)開啟， 壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔A制氧，經(jīng)止逆閥CV1輸出氧氣，使A塔達(dá) 到工作壓力的最高值；同時(shí)，電磁閥V8開啟，吸附塔B的氮?dú)馀欧殴?路導(dǎo)通，B塔排出氮?dú)?；同時(shí)，電磁閥V3開啟，吸附塔A與吸附塔C 的掃氣增壓管路導(dǎo)通，A塔內(nèi)較高的氣壓向C塔進(jìn)行加壓，快速為C 塔建立吸附壓力做準(zhǔn)備。 本階段的持續(xù)時(shí)間t4為3.3秒。
5. 流程t5階段電磁閥V3、 V6、 V8開啟，C塔進(jìn)氣，A塔向C塔加壓直 至壓力平衡，B塔排氮。此時(shí)，電磁閥V6開啟，吸附塔C的進(jìn)氣管路 導(dǎo)通，壓縮空氣進(jìn)入吸附塔C制氧；同時(shí)，電磁閥V3開啟，吸附塔C 與吸附塔A的掃氣增壓管路導(dǎo)通，A塔內(nèi)較高的氣壓繼續(xù)向C塔進(jìn)行 加壓直到平衡，快速為C塔建立吸附壓力，C塔經(jīng)止逆閥CV3輸出氧 氣；同時(shí)，電磁閥V8開啟，吸附塔B的氮?dú)馀欧殴苈穼?dǎo)通，B塔排 出氮?dú)狻?br> 本階段的持續(xù)時(shí)間t5為2. 5秒。
6. 流程t6階段電磁閥V1、 V6、 V8開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向B塔反 沖，B塔排氮。此時(shí)，電磁閥V6幵啟，壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔C制 氧，經(jīng)止逆閥CV3輸出氧氣；同時(shí)，電磁閥V8開啟，B塔繼續(xù)排出氮?dú)庵翂毫咏髿鈮?；同時(shí)，電磁閥V1開啟，吸附塔A與吸附塔B 的掃氣增壓管路導(dǎo)通，A塔內(nèi)較高的氣壓向B塔進(jìn)行反沖，將B塔內(nèi) 部的氮?dú)馊繏叱觥?本階段的持續(xù)時(shí)間t6為6. 7秒。
7. 流程t7階段電磁閥V1、 V6開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向B塔加壓直 至壓力平衡。此時(shí)，電磁閥V6繼續(xù)開啟，壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔C 制氧，經(jīng)止逆閥CV3輸出氧氣；電磁閥V8關(guān)閉，B塔氮?dú)饧号疟M并停 止向外排氣；同時(shí)，電磁閥V1繼續(xù)開啟，A塔氣體繼續(xù)向B塔快速增 壓，直至該兩塔的壓力平衡。 本階段的持續(xù)時(shí)間t7為5秒。
8. 流程t8階段電磁閥V2、 V6、 V7開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向B塔 加壓，為了B塔建立吸附壓力，A塔排氮。此時(shí)，電磁閥V6繼續(xù)開啟， 壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔C制氧，經(jīng)止逆閥CV3輸出氧氣，使C塔達(dá) 到工作壓力的最高值；同時(shí)，電磁閥V7開啟，吸附塔A的氮?dú)馀欧?管路導(dǎo)通，A塔排出氮?dú)猓煌瑫r(shí)，電磁閥V2開啟，吸附塔B與吸附塔 C的掃氣增壓管路導(dǎo)通，C塔內(nèi)較高的氣壓向B塔進(jìn)行加壓，快速為B 塔建立吸附壓力做準(zhǔn)備。
本階段的持續(xù)時(shí)間t8為3. 3秒。
9. 流程t9階段電磁閥V2、 V5、 V7開啟，B塔進(jìn)氣，C塔向B塔加壓直 至壓力平衡，A塔排氮。此時(shí)，電磁閥V5開啟，吸附塔B的進(jìn)氣管路 導(dǎo)通，壓縮空氣進(jìn)入吸附塔B制氧；同時(shí)，電磁閥V2開啟，吸附塔B 與吸附塔C的掃氣增壓管路導(dǎo)通，C塔內(nèi)較高的氣壓繼續(xù)向B塔進(jìn)行加壓直到平衡，快速為B塔建立吸附壓力，B塔經(jīng)止逆閥CV2輸出氧 氣；同時(shí)，電磁閥V7開啟，吸附塔A的氮?dú)馀欧殴苈穼?dǎo)通，A塔排 出氮?dú)狻?br> 本階段的持續(xù)時(shí)間t9為2. 5秒。
10. 流程t10階段電磁閥V3、 V5、 V7開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向A 塔反沖，A塔排氮。此時(shí)，電磁閥V5開啟，壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔 B制氧，經(jīng)止逆閥CV2輸出氧氣；同時(shí)，電磁閥V7開啟，A塔繼續(xù)排 出氮?dú)庵翂毫咏髿鈮?；同時(shí)，電磁閥V3開啟，吸附塔C與吸附塔 A的掃氣增壓管路導(dǎo)通，C塔內(nèi)較高的氣壓向A塔進(jìn)行反沖，將A塔 內(nèi)部的氮?dú)馊繏叱觥?br> 本階段的持續(xù)時(shí)間t10為6. 7秒。
11. 流程tll階段電磁閥V3、 V5開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向A塔加壓 直至壓力平衡。此時(shí)，電磁閥V5繼續(xù)開啟，壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔 B制氧，經(jīng)止逆閥CV2輸出氧氣；電磁閥V7關(guān)閉，A塔氮?dú)庖雅疟M并 停止向外排氣；同時(shí)，電磁閥V3繼續(xù)開啟，C塔氣體繼續(xù)向A塔快速 增壓，直至該兩塔的壓力平衡。
本階段的持續(xù)時(shí)間tll為5秒。
12. 流程tl2階段電磁閥V1、 V5、 V9開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向A 塔加壓，為A塔建立吸附壓力，C塔排氮。此時(shí)，電磁閥V5繼續(xù)開 啟，壓縮空氣繼續(xù)進(jìn)入吸附塔B制氧，經(jīng)止逆閥CV2輸出氧氣，使 B塔達(dá)到工作壓力的最高值；同時(shí)，電磁閥V9開啟，吸附塔C的氮 氣排放管路導(dǎo)通，C塔排出氮?dú)?；同時(shí)，電磁閥V1開啟，吸附塔B與吸附塔A的掃氣增壓管路導(dǎo)通，B塔內(nèi)較高的氣壓向A塔進(jìn)行加壓， 快速為A塔建立吸附壓力做準(zhǔn)備。 本階段的持續(xù)時(shí)間"2為3. 3秒。
上述12個(gè)流程階段為1個(gè)周期，其總持續(xù)時(shí)間T為52. 5秒。 一個(gè)周期的總持續(xù)時(shí)間T及各分段持續(xù)時(shí)間tl至t12，可根據(jù)使用
不同容積的吸附塔制氧設(shè)備和產(chǎn)氧量的大小，對(duì)程序控制器進(jìn)行不同的時(shí)
間設(shè)定。
所述的制氧方法，實(shí)現(xiàn)了吸附塔進(jìn)氣和排氣都是連續(xù)的，管路的電磁 閥在程序控制器的控制下定時(shí)啟閉，使運(yùn)作周期交替進(jìn)行，各吸附塔輪流 工作將氮、氧分離制取氧氣。
權(quán)利要求
1、一種制氧設(shè)備，其包含兩個(gè)裝填有沸石分子篩的吸附塔A和吸附塔B，所述吸附塔A的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電磁閥V4、氮?dú)馀欧殴苈吩O(shè)置有單向電磁閥V7、氧氣輸出管路設(shè)置有止逆閥CV1，所述吸附塔B的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電磁閥V5、氮?dú)馀欧殴苈吩O(shè)置有單向電磁閥V8、氧氣輸出管路設(shè)置有止逆閥CV2，各所述氮?dú)馀欧殴芘c進(jìn)氣管均連在吸附塔的進(jìn)氣端，各所述氧氣輸出管連在吸附塔的出氣端，其特征在于，還包含有第三個(gè)裝填有沸石分子篩的吸附塔C，所述吸附塔C的進(jìn)氣管路設(shè)置有單向電磁閥V6、氮?dú)馀欧殴苈吩O(shè)置有單向電磁閥V9、氧氣輸出管路設(shè)置有止逆閥CV3；吸附塔A出氣端和吸附塔B出氣端之間的掃氣增壓管路設(shè)置有雙向電磁閥V1，吸附塔B出氣端和吸附塔C出氣端之間的掃氣增壓管路設(shè)置有雙向電磁閥V2，吸附塔C出氣端和吸附塔A出氣端之間的掃氣增壓管路設(shè)置有雙向電磁閥V3；吸附塔A、B、C的進(jìn)氣管路均接入總進(jìn)氣管路(1)，吸附塔A、B、C的氮?dú)馀欧殴苈肪尤肟偟獨(dú)馀欧殴苈?2)；吸附塔A、B、C的氧氣輸出管路均接入總氧氣輸出管路(3)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的制氧設(shè)備，其特征在于，設(shè)置用導(dǎo)線與所 述電磁閥VI至V9電連接的程序控制器。
3、 一種使用權(quán)利要求1或2所述制氧設(shè)備的制氧方法，干燥壓縮空 氣進(jìn)入總進(jìn)氣管路(1)后，其特征是，連續(xù)和周期性地包括以下步驟進(jìn)行制氧(1) 電磁閥V1、 V4、 V9開啟，A塔進(jìn)氣，B塔向A塔加壓直至壓力 平衡，C塔排氮，持續(xù)時(shí)間為tl;(2) 電磁閥V2、 V4、 V9開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向C塔反沖，C 塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t2;(3) 電磁閥V2、 V4開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向C塔加壓直至壓力 平衡，持續(xù)時(shí)間為t3;(4) 電磁閥V3、 V4、 V8開啟，A塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向C塔加壓，為 C塔建立吸附壓力，B塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t4;(5) 電磁閥V3、 V6、 V8開啟，C塔進(jìn)氣，A塔向C塔加壓直至壓力 平衡，B塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t5;(6) 電磁閥V1、 V6、 V8開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向B塔反沖，B 塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t6;(7) 電磁閥V1、 V6開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，A塔向B塔加壓直至壓力 平衡，持續(xù)時(shí)間為t7;(8) 電磁閥V2、 V6、 V7開啟，C塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向B塔加壓，為 B塔建立吸附壓力，A塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t8;(9) 電磁閥V2、 V5、 V7開啟，B塔進(jìn)氣，C塔向B塔加壓直至壓力 平衡，A塔排氮，持續(xù)時(shí)間為t9;(10) 電磁閥V3、 V5、 V7開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向A塔反沖，A 塔排氮，持續(xù)時(shí)間為tl0;(11) 電磁閥V3、 V5開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，C塔向A塔加壓直至壓力平衡，持續(xù)時(shí)間為tll;(12)電磁閥V1、 V5、 V9開啟，B塔繼續(xù)進(jìn)氣，B塔向A塔加壓， 為A塔建立吸附壓力，C塔排氮，持續(xù)時(shí)間為tl2。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種制氧設(shè)備及制氧方法，它是包含三個(gè)裝填有沸石分子篩的吸附塔A、吸附塔B和吸附塔C，在管路上設(shè)置有雙向電磁閥V1、V2、V3和單向電磁閥V4、V5、V6、V7、V8、V9及止逆閥CV1、CV2、CV3；所述制氧方法由程序控制器控制電磁閥V1至V9的定時(shí)啟閉，連續(xù)和周期性地包括12個(gè)階段步驟進(jìn)行制氧。由于使用了三個(gè)分子篩吸附塔，能使進(jìn)氣和排氣過程的循環(huán)時(shí)間周期縮短，提高了吸附劑的利用率，從而提高產(chǎn)氧效率，降低了產(chǎn)品的能耗，大大減少了制氧系統(tǒng)的占地面積與成本，可將氧氣的分離效率提高20％以上。
文檔編號(hào)B01D53/047GK101434383SQ20071003138
公開日2009年5月20日 申請(qǐng)日期2007年11月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月14日
發(fā)明者秦伏秋 申請(qǐng)人:珠海和佳醫(yī)療設(shè)備股份有限公司