1.一種清洗裝置，用于清洗合成基錄井巖屑，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗主體包括外殼和內(nèi)膽，所述外殼與所述內(nèi)膽之間設(shè)有隔熱層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，所述外殼的開口處內(nèi)側(cè)設(shè)有連接邊，所述液體進(jìn)口(21)和所述巖屑進(jìn)樣口(24)均設(shè)置在所述連接邊上；所述連接邊的中心還設(shè)有透明觀察窗(22)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，所述加熱組件包括腔體加熱絲(5)和溫度傳感器(6)，所述腔體加熱絲(5)位于所述外殼和所述內(nèi)膽之間，并環(huán)繞在所述內(nèi)膽的外周部，所述溫度傳感器(6)安裝在所述內(nèi)膽的內(nèi)壁上，所述控制器與所述腔體加熱絲(5)和所述溫度傳感器(6)均連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，還包括排液口(15)，所述排液口(15)安裝有排液電磁閥(14)，所述控制器與所述排液電磁閥(14)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述超聲波組件包括超聲波控制器和超聲波換能器(10)，所述超聲波控制器設(shè)置于所述清洗主體的側(cè)壁上，所述超聲波換能器(10)位于所述清洗主體的底部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗裝置，其特征在于，所述超聲波控制器包括超聲波電源(1)、定時(shí)器(2)、溫控開關(guān)(3)和超聲波頻率設(shè)定部件(4)，所述超聲波電源(1)用于開啟或關(guān)閉所述超聲波換能器(10)，所述定時(shí)器(2)用于控制所述超聲波換能器(10)的開啟時(shí)長，所述溫控開關(guān)(3)用于控制所述加熱組件啟停，所述超聲波頻率設(shè)定部件(4)用于設(shè)定所述超聲波換能器(10)的發(fā)射頻率。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的清洗裝置，其特征在于，還包括進(jìn)氣管(19)以及安裝在所述進(jìn)氣管(19)上的氣壓計(jì)(16)、空氣加熱絲(17)、空氣電磁閥(18)和壓力調(diào)節(jié)閥(25)，所述進(jìn)氣管(19)與所述氣泡發(fā)生器(11)連通；所述氣壓計(jì)(16)用于檢測所述進(jìn)氣管(19)內(nèi)的氣體壓力，所述空氣加熱絲(17)用于加熱所述進(jìn)氣管(19)內(nèi)的氣體，所述空氣電磁閥(18)用于導(dǎo)通或閉合所述進(jìn)氣管(19)，所述壓力調(diào)節(jié)閥(25)用于調(diào)節(jié)所述進(jìn)氣管(19)內(nèi)的氣體壓力；所述控制器與所述氣壓計(jì)(16)、所述空氣加熱絲(17)、所述空氣電磁閥(18)和所述壓力調(diào)節(jié)閥(25)均連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的清洗裝置，其特征在于，所述氣泡發(fā)生器(11)包括內(nèi)層管(11-3)、中層管(11-2)和外層管(11-1)，所述內(nèi)層管(11-3)、所述中層管(11-2)和所述外層管(11-1)依次連通，并呈螺旋狀環(huán)繞在所述腔體的底部，所述內(nèi)層管(11-3)、所述中層管(11-2)和所述外層管(11-1)上均設(shè)置若干氣孔，且所述內(nèi)層管(11-3)、所述中層管(11-2)和所述外層管(11-1)中至少兩者的氣孔分別朝上或者朝下設(shè)置上。
10.一種清洗方法，采用如權(quán)利要求1至9任意一項(xiàng)所述的清洗裝置，其特征在于，包括以下步驟：