本申請(qǐng)涉及驅(qū)動(dòng)裝置領(lǐng)域，具體而言，涉及一種電機(jī)及設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、采用氣浮軸承的電機(jī)，在氣浮軸承與推力盤(pán)之間填充高壓氣體，使得推力盤(pán)與氣浮軸承之間形成氣膜，使得推力盤(pán)在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，所受的阻力更低，進(jìn)而減少了推力盤(pán)與軸承之間的機(jī)械接觸，從而降低了磨損，提高了旋轉(zhuǎn)精度和壽命。

2、現(xiàn)有的氣浮軸承電機(jī)中，推力盤(pán)兩端通常采用相同的氣浮軸承，且兩個(gè)氣浮軸承在推力盤(pán)之間形成的氣膜面積幾乎相同，當(dāng)電機(jī)的軸向力過(guò)大時(shí)，兩個(gè)氣膜對(duì)推力盤(pán)施加相反方向的推力，且兩個(gè)推力大小相差較小，使得推力盤(pán)受到的合外力較大，最終可能導(dǎo)致推力盤(pán)將氣浮軸承壓壞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)的主要目的在于提供一種電機(jī)，以至少解決現(xiàn)有技術(shù)中電機(jī)的軸向力過(guò)大時(shí)，氣浮軸承被壓壞的問(wèn)題。

2、根據(jù)本申請(qǐng)的一個(gè)方面，提供了一種電機(jī)，包括：

3、機(jī)座；

4、轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在所述機(jī)座內(nèi)，且所述轉(zhuǎn)軸具有伸出于所述機(jī)座的驅(qū)動(dòng)端，所述驅(qū)動(dòng)端用于與被驅(qū)動(dòng)件連接；

5、推力盤(pán)，所述推力盤(pán)固定套設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸靠近所述驅(qū)動(dòng)端的一側(cè)；

6、氣浮軸承，所述氣浮軸承包括兩個(gè)，兩個(gè)所述氣浮軸承均套設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸外周，并分別位于所述推力盤(pán)的兩側(cè)，其中遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)端的所述氣浮軸承與所述推力盤(pán)之間具有第一間隙，遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)端的所述氣浮軸承具有與所述推力盤(pán)相對(duì)的第一承載面，其中靠近所述驅(qū)動(dòng)端的所述氣浮軸承與所述推力盤(pán)之間具有第二間隙，靠近所述驅(qū)動(dòng)端的所述氣浮軸承具有與所述推力盤(pán)相對(duì)的第二承載面，所述第一承載面的面積小于所述第二承載面的面積，所述推力盤(pán)的外徑大于或等于所述氣浮軸承的外徑，且過(guò)所述第一承載面的面心的中心線與過(guò)所述第二承載面的面心的中心線均在所述轉(zhuǎn)軸的軸線上；

7、供氣組件，所述供氣組件分別與所述第一間隙和所述第二間隙連通，并用于對(duì)所述第一間隙和所述第二間隙供氣。

8、進(jìn)一步地，所述氣浮軸承包括第一氣浮軸承和第二氣浮軸承，所述第一氣浮軸承與所述推力盤(pán)之間具有所述第一間隙，所述第二氣浮軸承與所述推力盤(pán)之間具有第二間隙，所述第一氣浮軸承的內(nèi)徑與所述第二氣浮軸承的內(nèi)徑相同，所述第一氣浮軸承的外徑小于所述第二氣浮軸承的外徑。

9、進(jìn)一步地，所述推力盤(pán)包括主體和第一環(huán)形凸臺(tái)，所述第一環(huán)形凸臺(tái)設(shè)置在所述主體靠近所述第一氣浮軸承的一側(cè)，所述第一環(huán)形凸臺(tái)圍設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸外周，且所述第一環(huán)形凸臺(tái)沿靠近所述第一氣浮軸承的方向凸起，所述第一氣浮軸承套設(shè)在所述第一環(huán)形凸臺(tái)上，并與所述主體之間具有所述第一間隙。

10、進(jìn)一步地，所述推力盤(pán)還包括第二環(huán)形凸臺(tái)，所述第二環(huán)形凸臺(tái)設(shè)置在所述主體靠近所述第一氣浮軸承的一側(cè)，所述第二環(huán)形凸臺(tái)與所述第一環(huán)形凸臺(tái)同軸設(shè)置，且所述第二環(huán)形凸臺(tái)圍設(shè)在所述第一環(huán)形凸臺(tái)的外周，所述第二環(huán)形凸臺(tái)沿靠近所述第一氣浮軸承的方向凸起，且所述第二環(huán)形凸臺(tái)的凸起高度低于所述第一環(huán)形凸臺(tái)的凸起高度，所述第一間隙位于所述第二環(huán)形凸臺(tái)與所述第一氣浮軸承之間。

11、進(jìn)一步地，所述電機(jī)還包括固定件，所述氣浮軸承通過(guò)所述固定件連接在所述機(jī)座上；

12、所述主體與所述第二環(huán)形凸臺(tái)之間具有避讓凹陷空間，所述避讓凹陷空間用于避讓所述固定件。

13、進(jìn)一步地，所述推力盤(pán)還包括第三環(huán)形凸臺(tái)，所述第三環(huán)形凸臺(tái)設(shè)置在所述主體靠近所述第二氣浮軸承的一側(cè)，所述第三環(huán)形凸臺(tái)與所述第一環(huán)形凸臺(tái)同軸設(shè)置，所述第三環(huán)形凸臺(tái)沿靠近所述第二氣浮軸承的方向凸起，所述第二氣浮軸承套設(shè)在所述第三環(huán)形凸臺(tái)上，并與所述主體之間具有所述第二間隙。

14、進(jìn)一步地，所述機(jī)座包括端蓋，所述端蓋設(shè)置在所述機(jī)座靠近所述推力盤(pán)的第一側(cè)，且所述端蓋靠近所述推力盤(pán)的一側(cè)上開(kāi)設(shè)有第一安裝凹槽，所述第一氣浮軸承安裝在所述第一安裝凹槽內(nèi)。

15、進(jìn)一步地，所述機(jī)座還包括密封板，所述密封板設(shè)置在所述機(jī)座靠近所述推力盤(pán)的第二側(cè)，且所述密封板與所述端蓋連接，所述密封板靠近所述推力盤(pán)的一側(cè)上開(kāi)設(shè)有第二安裝凹槽，所述第二氣浮軸承安裝在所述第二安裝凹槽內(nèi)。

16、進(jìn)一步地，遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)端的所述氣浮軸承開(kāi)設(shè)有第一進(jìn)氣孔，所述第一進(jìn)氣孔的第一端與所述供氣組件連接，所述第一進(jìn)氣孔的第二端與所述第一間隙連通；

17、靠近所述驅(qū)動(dòng)端的所述氣浮軸承開(kāi)設(shè)有第二進(jìn)氣孔，所述第二進(jìn)氣孔的第一端與所述供氣組件連接，所述第二進(jìn)氣孔的第二端與所述第二間隙連通。

18、另一方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N設(shè)備，所述設(shè)備包括上述的電機(jī)。

19、相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，本申請(qǐng)中第一承載面的面積小于第二承載面的面積，推力盤(pán)的外徑大于靠近驅(qū)動(dòng)端的氣浮軸承的外徑，且過(guò)第一承載面的面心的中心線與過(guò)第二承載面的面心的中心線均在轉(zhuǎn)軸的軸線上。這意味著，第一承載面、第二承載面以及轉(zhuǎn)軸同軸設(shè)置，且第一承載面與推力盤(pán)之間的第一間隙的面積小于第二承載面與推力盤(pán)之間的第二間隙的面積，在氣體壓強(qiáng)不變時(shí)，第一間隙內(nèi)的氣體對(duì)推力盤(pán)施加的外力與第二間隙內(nèi)的氣體對(duì)推力盤(pán)施加的外力之間具有較大的差距，因此氣體對(duì)推力盤(pán)施加的推力的合外力較大，且方向與電機(jī)的軸向力方向相反，從而在一定程度上抵消軸向力對(duì)推力盤(pán)的影響，進(jìn)而避免推力盤(pán)上軸向力過(guò)大將氣浮軸承壓壞。

技術(shù)特征：

1.一種電機(jī)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電機(jī)，其特征在于，所述氣浮軸承(40)包括第一氣浮軸承(41)和第二氣浮軸承(42)，所述第一氣浮軸承(41)與所述推力盤(pán)(50)之間具有所述第一間隙(71)，所述第二氣浮軸承(42)與所述推力盤(pán)(50)之間具有第二間隙(72)，所述第一氣浮軸承(41)的內(nèi)徑與所述第二氣浮軸承(42)的內(nèi)徑相同，所述第一氣浮軸承(41)的外徑小于所述第二氣浮軸承(42)的外徑。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電機(jī)，其特征在于，所述推力盤(pán)(50)包括主體(51)和第一環(huán)形凸臺(tái)(52)，所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)設(shè)置在所述主體(51)靠近所述第一氣浮軸承(41)的一側(cè)，所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)圍設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸(20)外周，且所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)沿靠近所述第一氣浮軸承(41)的方向凸起，所述第一氣浮軸承(41)套設(shè)在所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)上，并與所述主體(51)之間具有所述第一間隙(71)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電機(jī)，其特征在于，所述推力盤(pán)(50)還包括第二環(huán)形凸臺(tái)(53)，所述第二環(huán)形凸臺(tái)(53)設(shè)置在所述主體(51)靠近所述第一氣浮軸承(41)的一側(cè)，所述第二環(huán)形凸臺(tái)(53)與所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)同軸設(shè)置，且所述第二環(huán)形凸臺(tái)(53)圍設(shè)在所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)的外周，所述第二環(huán)形凸臺(tái)(53)沿靠近所述第一氣浮軸承(41)的方向凸起，且所述第二環(huán)形凸臺(tái)(53)的凸起高度低于所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)的凸起高度，所述第一間隙(71)位于所述第二環(huán)形凸臺(tái)(53)與所述第一氣浮軸承(41)之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電機(jī)，其特征在于，所述電機(jī)還包括固定件(60)，所述氣浮軸承(40)通過(guò)所述固定件(60)連接在所述機(jī)座(10)上；

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電機(jī)，其特征在于，所述推力盤(pán)(50)還包括第三環(huán)形凸臺(tái)(55)，所述第三環(huán)形凸臺(tái)(55)設(shè)置在所述主體(51)靠近所述第二氣浮軸承(42)的一側(cè)，所述第三環(huán)形凸臺(tái)(55)與所述第一環(huán)形凸臺(tái)(52)同軸設(shè)置，所述第三環(huán)形凸臺(tái)(55)沿靠近所述第二氣浮軸承(42)的方向凸起，所述第二氣浮軸承(42)套設(shè)在所述第三環(huán)形凸臺(tái)(55)上，并與所述主體(51)之間具有所述第二間隙(72)。

7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項(xiàng)所述的電機(jī)，其特征在于，所述機(jī)座(10)包括端蓋(11)，所述端蓋(11)設(shè)置在所述機(jī)座(10)靠近所述推力盤(pán)(50)的第一側(cè)，且所述端蓋(11)靠近所述推力盤(pán)(50)的一側(cè)上開(kāi)設(shè)有第一安裝凹槽(110)，所述第一氣浮軸承(41)安裝在所述第一安裝凹槽(110)內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電機(jī)，其特征在于，所述機(jī)座(10)還包括密封板(12)，所述密封板(12)設(shè)置在所述機(jī)座(10)靠近所述推力盤(pán)(50)的第二側(cè)，且所述密封板(12)與所述端蓋(11)連接，所述密封板(12)靠近所述推力盤(pán)(50)的一側(cè)上開(kāi)設(shè)有第二安裝凹槽(120)，所述第二氣浮軸承(42)安裝在所述第二安裝凹槽(120)內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的電機(jī)，其特征在于，遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)端(21)的所述氣浮軸承(40)開(kāi)設(shè)有第一進(jìn)氣孔，所述第一進(jìn)氣孔的第一端與所述供氣組件連接，所述第一進(jìn)氣孔的第二端與所述第一間隙(71)連通；

10.一種設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的電機(jī)。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種電機(jī)，包括機(jī)座、轉(zhuǎn)軸、推力盤(pán)、氣浮軸承以及供氣組件。轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在機(jī)座內(nèi)，且轉(zhuǎn)軸具有伸出于機(jī)座的驅(qū)動(dòng)端。推力盤(pán)固定套設(shè)在轉(zhuǎn)軸靠近驅(qū)動(dòng)端的一側(cè)。兩個(gè)氣浮軸承均套設(shè)在轉(zhuǎn)軸外周，并分別位于推力盤(pán)的兩側(cè)，兩個(gè)氣浮軸承分別與推力盤(pán)的兩側(cè)之間具有第一間隙和第二間隙，遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)端的氣浮軸承具有與推力盤(pán)相對(duì)的第一承載面，靠近驅(qū)動(dòng)端的氣浮軸承具有與推力盤(pán)相對(duì)的第二承載面，第一承載面的面積小于第二承載面的面積，推力盤(pán)的外徑大于或等于氣浮軸承的外徑，且過(guò)第一承載面的面心的中心線與過(guò)第二承載面的面心的中心線均在轉(zhuǎn)軸的軸線上。本申請(qǐng)解決了現(xiàn)有技術(shù)中電機(jī)的軸向力過(guò)大時(shí)，氣浮軸承被壓壞的問(wèn)題。

技術(shù)研發(fā)人員：舒靜,劉軍鋒,鄭艷文,鄧春志,張亞龍,李毅斌,關(guān)紅艷,張艷,張勇,何宗格,魏超
受保護(hù)的技術(shù)使用者：臥龍電氣驅(qū)動(dòng)集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240627
技術(shù)公布日：2025/5/15