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半導(dǎo)體裝置、功率轉(zhuǎn)換裝置及移動(dòng)體的制作方法

文檔序號(hào):41950404發(fā)布日期:2025-05-16 14:09閱讀:4來(lái)源:國(guó)知局
半導(dǎo)體裝置、功率轉(zhuǎn)換裝置及移動(dòng)體的制作方法

本公開(kāi)涉及半導(dǎo)體裝置、功率轉(zhuǎn)換裝置及移動(dòng)體。


背景技術(shù):

1、在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了一種半導(dǎo)體裝置,該半導(dǎo)體裝置具有包含螺釘孔的樹(shù)脂殼體、安裝有半導(dǎo)體芯片的絕緣基板、以及包含散熱板貫通孔并搭載有絕緣基板的散熱板。金屬制攻絲螺釘通過(guò)散熱板貫通孔和螺釘孔,將樹(shù)脂殼體與散熱板卡合。形成在樹(shù)脂殼體和金屬制攻絲螺釘之間的螺釘孔內(nèi)的空隙由高耐電壓樹(shù)脂填充。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1:日本專利特開(kāi)2006-32392號(hào)公報(bào)


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題

2、隨著半導(dǎo)體裝置的小型化及高密度化的發(fā)展,螺釘與絕緣基板的距離變短。因此,需要改善局部放電耐量和絕緣破壞耐量。例如,如果用攻絲螺釘對(duì)殼體和散熱板等進(jìn)行螺釘緊固,則在螺釘周邊容易產(chǎn)生空隙。由于該空隙,局部放電耐量有可能降低。

3、對(duì)此,在專利文獻(xiàn)1中,在殼體和螺釘?shù)拈g隙填充樹(shù)脂,改善放電耐量。但是,由于樹(shù)脂的填充,制造工序增加,作業(yè)性有可能惡化。

4、本公開(kāi)的目的在于得到能夠提高放電耐量的半導(dǎo)體裝置、功率轉(zhuǎn)換裝置及移動(dòng)體。

5、用于解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)手段

6、第一公開(kāi)所涉及的半導(dǎo)體裝置包括:底板;半導(dǎo)體芯片,該半導(dǎo)體芯片設(shè)置在所述底板上方的區(qū)域;殼體,該殼體設(shè)置在所述底板上,包圍所述半導(dǎo)體芯片,具有外側(cè)面和與所述外側(cè)面相反側(cè)的內(nèi)側(cè)面,且在所述外側(cè)面形成有凹部;螺母,該螺母被壓入所述殼體的所述凹部,且形成有沿上下方向延伸的螺釘孔;以及螺釘,該螺釘從所述底板的下方插入所述螺母。

7、第二公開(kāi)所涉及的半導(dǎo)體裝置包括:底板;半導(dǎo)體芯片,該半導(dǎo)體芯片設(shè)置在所述底板上方的區(qū)域;殼體,該殼體設(shè)置在所述底板上并包圍所述半導(dǎo)體芯片;螺母,該螺母是在被所述殼體包圍的區(qū)域中、設(shè)置在所述殼體上且朝下方開(kāi)口的袋螺母;以及螺釘,該螺釘從所述底板的下方插入所述螺母。

8、發(fā)明效果

9、在第一、第二公開(kāi)所涉及的半導(dǎo)體裝置中,能夠抑制在螺釘與成為高電壓的基板上的構(gòu)件之間形成空隙。因此,能夠提高放電耐量。



技術(shù)特征:

1.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于,包括:

2.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于,包括:

3.如權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,

4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,所述螺母在俯視時(shí)呈多邊形。

5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,所述半導(dǎo)體芯片由寬帶隙半導(dǎo)體形成。

6.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,

7.一種功率轉(zhuǎn)換裝置,其特征在于,

8.一種移動(dòng)體,其特征在于,


技術(shù)總結(jié)
本公開(kāi)所涉及的半導(dǎo)體裝置包括:底板;半導(dǎo)體芯片,該半導(dǎo)體芯片設(shè)置在所述底板上方的區(qū)域;殼體,該殼體設(shè)置在所述底板上,包圍所述半導(dǎo)體芯片,具有外側(cè)面和與所述外側(cè)面相反側(cè)的內(nèi)側(cè)面,且在所述外側(cè)面形成有凹部;螺母,該螺母壓入所述殼體的所述凹部,形成有沿上下方向延伸的螺釘孔;以及螺釘,該螺釘從所述底板的下方插入所述螺母。

技術(shù)研發(fā)人員:伊達(dá)龍?zhí)?br/>受保護(hù)的技術(shù)使用者:三菱電機(jī)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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