一種可降解支架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及醫(yī)療器械領(lǐng)域，特別涉及一種可降解支架。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)階段市場(chǎng)上的主流支架產(chǎn)品均由金屬材料制成，這種類型的支架在植入完成以后將永久存留在人體內(nèi)。而永久性金屬支架會(huì)削弱血管的磁共振成像(MagneticResonance Imaging,MRI)或是電子計(jì)算機(jī)斷層掃描(Computed Tomography,CT)影像。此夕卜，永久性金屬支架還存在干擾外科血運(yùn)重建，阻礙側(cè)枝循環(huán)的形成，抑制血管正性重塑的一些不足?；谶@樣的問題，一種植入體之后，再被人體完全吸收的生物可降解支架成為新的研宄方向。
[0003]生物可降解支架由可降解的材料做成，在植入病變位置后可以在短期內(nèi)起到支撐血管的作用。在治療完成以后，支架在人體環(huán)境內(nèi)降解成為可被人體吸收、代謝的產(chǎn)物，最終消失不見。
[0004]但是，這類可降解支架一般由高分子聚合物材料制備而成，而高分子材料在X射線下是無法顯影的，這會(huì)給支架植入過程中的定位，植入后的檢查以及植入后期隨訪帶來諸多不便。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)中針對(duì)可降解支架的顯影問題，主要的解決方案是在支架桿內(nèi)鑲嵌顯影點(diǎn)或者在支架表面添加顯影層，但現(xiàn)有鑲嵌顯影點(diǎn)的位置會(huì)影響支架整體推送性能、而且在壓握中易出現(xiàn)不整齊的問題，支架表面添加顯影層這一方法，隨著支架的降解過程，顯影層消失，植入后期支架無法顯影。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種可降解支架，解決現(xiàn)有技術(shù)中可降解支架的顯影方法存在缺陷的問題。
[0007]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種可降解支架，包括支架本體，所述支架本體包括:縱向平行均布排列的多個(gè)波形環(huán)，每個(gè)所述波形環(huán)包括周向依次交替設(shè)置的多個(gè)波峰和多個(gè)波谷；
[0008]相鄰排列的所述波形環(huán)的波峰頂點(diǎn)之間或波谷底點(diǎn)之間通過連接桿橋接；
[0009]其中至少一所述波形環(huán)與所述連接桿橋接以外的位置上設(shè)置有至少一金屬顯影點(diǎn)。
[0010]其中，所述金屬顯影點(diǎn)設(shè)置有安裝孔，所述安裝孔內(nèi)嵌有金屬球；
[0011 ] 所述金屬球的材料為金、鉑、鈀、鉑銥合金、鉑鎢合金或鉭。
[0012]其中，所述金屬球的直徑在0.005英寸到0.015英寸之間。
[0013]其中，相鄰排列的所述波形環(huán)的波峰頂點(diǎn)之間通過連接桿橋接，所述連接桿隔行隔列設(shè)置；
[0014]且縱向排列的多個(gè)所述波形環(huán)中，第一列波形環(huán)的第一位置和最后一列波形環(huán)的第二位置上分別設(shè)置有至少一所述金屬顯影點(diǎn)；
[0015]所述第一位置與所述第二位置相對(duì)于所述支架本體的中心對(duì)稱。
[0016]其中，所述第一位置位于所述第一列波形環(huán)上相鄰的第一波峰和第一波谷之間，所述第一位置上設(shè)置有兩個(gè)所述金屬顯影點(diǎn)；
[0017]所述第二位置位于所述最后一列波形環(huán)上相鄰的第二波峰和第二波谷之間，所述第二位置上設(shè)置有兩個(gè)所述金屬顯影點(diǎn)。
[0018]其中，所述第一位置位于所述第一列波形環(huán)上相鄰的第三波谷和第四波谷之間，所述第三波谷和所述第四波谷之間具有第三波峰；
[0019]所述第三波峰與所述第三波谷之間設(shè)置有第一金屬顯影點(diǎn)，所述第三波峰與所述第四波谷之間設(shè)置有第二金屬顯影點(diǎn)；
[0020]所述第二位置位于所述最后一列波形環(huán)上相鄰的第五波谷和第六波谷之間，所述第五波谷和所述第六波谷之間具有第四波峰；
[0021]所述第四波峰和所述第五波谷之間設(shè)置有第三金屬顯影點(diǎn)，所述第四波峰和所述第六波谷之間設(shè)置有第四金屬顯影點(diǎn)。
[0022]其中，所述第三波峰和所述第四波峰分別與所述連接桿橋接。
[0023]其中，所述第三波峰和所述第四波峰均未與所述連接桿橋接。
[0024]其中，所述第一金屬顯影點(diǎn)和所述第二金屬顯影點(diǎn)相對(duì)于所述第三波峰所在的軸線對(duì)稱設(shè)置；
[0025]所述第三金屬顯影點(diǎn)和所述第四金屬顯影點(diǎn)相對(duì)于所述第四波峰所在的軸線對(duì)稱設(shè)置。
[0026]本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案的有益效果如下:
[0027]本實(shí)用新型實(shí)施例的可降解支架，包括支架本體，該支架本體包括縱向平行均布排列的多個(gè)波形環(huán)，每個(gè)波形環(huán)包括周向依次交替設(shè)置的多個(gè)波峰和多個(gè)波谷；相鄰排列的波形環(huán)的波峰頂點(diǎn)之間或波谷底點(diǎn)之間通過連接桿橋接；其中至少一波形環(huán)與連接桿橋接以外的位置上設(shè)置有至少一金屬顯影點(diǎn)。通過將金屬顯影點(diǎn)設(shè)置于波形環(huán)處，使支架在壓握過程中整體機(jī)械性能不產(chǎn)生影響，也為壓握形態(tài)的一致性留出了合適的空間。提高了結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和一致性，有效解決了現(xiàn)有可降解支架后期無法顯影、影響支架推送性能的冋題。
【附圖說明】
[0028]圖1為現(xiàn)有可降解支架添加顯影層的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖2為現(xiàn)有可降解支架連接桿顯影展開的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖3為圖2中Al處壓握后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖4為本實(shí)用新型可降解支架第一具體實(shí)施例展開的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖5為圖4中BI處壓握后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖6為本實(shí)用新型可降解支架第二具體實(shí)施例展開的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖7為圖6中B2處壓握后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖8為本實(shí)用新型可降解支架第三具體實(shí)施例展開的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖9為圖8中B3處壓握后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖10為本實(shí)用新型可降解支架第四具體實(shí)施例展開的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖11為圖10中B4處壓握后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖12為本實(shí)用新型可降解支架第五具體實(shí)施例展開的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖13為圖12中B5處壓握后的結(jié)構(gòu)示意圖；。
[0041]附圖標(biāo)記說明:
[0042]1-支架本體，11-波形環(huán)，111-第一列波形環(huán)，112-最后一列波形環(huán)，121-第一波峰，122-第二波峰，123-第三波峰，124-第四波峰，131-第一波谷，132-第二波谷，133-第三波谷，134-第四波谷，135-第五波谷，136-第六波谷，14-連接桿，2-金屬顯影點(diǎn)，21-第一金屬顯影點(diǎn)，22-第二金屬顯影點(diǎn)，23-第二金屬顯影點(diǎn)，24-第四金屬顯影點(diǎn)，3-顯影層。
【具體實(shí)施方式】
[0043]為使本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0044]現(xiàn)有技術(shù)1，如圖1所示，通過在支架本體I表面添加顯影層3來解決可降解支架無法顯影的問題，但隨著植入時(shí)間的推移，支架逐步進(jìn)入降解周期，顯影層也隨之脫落，存在后期隨訪以及復(fù)查無法跟蹤支架的問題。
[0045]現(xiàn)有技術(shù)2，如圖2-3所示，通過在連接波形環(huán)11的連接桿14內(nèi)鑲嵌顯影點(diǎn)來解決可降解支架無法顯影的問題，但由于支架的連接桿是支架壓握過程中重疊較多的區(qū)域，將顯影點(diǎn)置于該區(qū)域會(huì)使支架的直徑profile增大，進(jìn)而影響到支架整體的推送性能。且該區(qū)域的橋聯(lián)加寬才能有足夠的尺寸鑲嵌顯影點(diǎn)，使得支架在壓握過程中，該區(qū)域容易出現(xiàn)不整齊。
[0046]本實(shí)用新型實(shí)施例的可降解支架，將顯影點(diǎn)置于波形環(huán)處，在支架降解周期不會(huì)隨之脫落，有效解決了現(xiàn)有顯影層后期無法顯影的問題。且不會(huì)增大支架的直徑，對(duì)支架在壓握過程中整體機(jī)械性能不會(huì)產(chǎn)生影響，有效解決了現(xiàn)有連接桿內(nèi)鑲嵌顯影點(diǎn)影響支架推送性能，容易出現(xiàn)不整齊的問題。
[0047]如圖4-13所示，本實(shí)用新型實(shí)施例的可降解支架，包括支架本體I，所述支架本體I包括:縱向平行均布排列的多個(gè)波形環(huán)11，每個(gè)所述波形環(huán)11包括周向依次交替設(shè)置的多個(gè)波峰和多個(gè)波谷；
[0048]相鄰排列的所述波形環(huán)11的波峰頂點(diǎn)之間或波谷底點(diǎn)之間通過連接桿14橋接；
[0049]其中至少一所述波形環(huán)11與所述連接桿14橋接以外的位置上設(shè)置有至少一金屬顯影點(diǎn)2。
[0050]本實(shí)用新型實(shí)施例的可降解支架，通過將金屬顯影點(diǎn)2設(shè)置于波形環(huán)11處，使支架在壓握過程中整體機(jī)械性能不產(chǎn)生影響，也為壓握形態(tài)的一致性留出了合適的空間。提高了結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和一致性，且有效解決了現(xiàn)有可降解支架后期無法顯影、影響支架推送性能的問題。
[0051]本實(shí)用新型的具體實(shí)施例中，所述金屬顯影點(diǎn)2設(shè)置有安裝孔，所述安裝孔內(nèi)嵌有金屬球；
[0052]所述金屬球的材料為金、鉑、鈀、鉑銥合金、鉑鎢合金或鉭。
[0053]此時(shí)，通過在金屬顯影點(diǎn)2鑲嵌不透射線的金屬球，為支架植入過程的定位、植入后的檢查及植入后期的隨訪帶來了便利，且有效解決了現(xiàn)有顯影層脫落導(dǎo)致后期隨訪及復(fù)查無法跟蹤支架的情況。
[0054]具體的，可采用激光切割的方式預(yù)先在金屬顯影點(diǎn)2切割一微孔，然后通過能夠精確壓平的工裝，將金屬球鑲嵌于微孔內(nèi)。以實(shí)現(xiàn)金屬球與支架完好的結(jié)合。
[0055]其中，上述金屬球的材料僅僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，任何可以實(shí)現(xiàn)不透射線的金屬材料都可以應(yīng)用于本實(shí)用新型實(shí)施例的金屬顯影點(diǎn)2中，在此不一一舉例。
[0056]優(yōu)選的，所述金屬球的直徑在0.005英寸到0.015英寸之間。
[0057]此時(shí)，金屬球具有很好的顯影效果，且較小的尺寸使對(duì)支架的影響降低到最小化，有效提高了支架結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和一致性。
[0058]本實(shí)用新型的具體實(shí)施例中，相鄰排列的所述波形環(huán)11的波峰頂點(diǎn)之間通過連接桿14橋接，所述連接桿14隔行隔列設(shè)置；
[0059]且縱向排列的多個(gè)所述波形環(huán)11中，第一列波形環(huán)111的第一位置和最后一列波形環(huán)112的第二位置上分別設(shè)置有