1.一種黑色矩陣光罩，其特征在于，所述黑色矩陣光罩包括多個不透光區(qū)域及位于多個不透光區(qū)域之間透光區(qū)域，在所述透光區(qū)域上且位于所述不透光區(qū)域周邊設(shè)置有像素編號，以標(biāo)識像素位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色矩陣光罩，其特征在于，所述不透光區(qū)域?qū)?yīng)基板上的顯示區(qū)域，所述透光區(qū)域?qū)?yīng)所述基板上的非顯示區(qū)域，所述像素編號由像素對應(yīng)的掃描線編號及數(shù)據(jù)線編號組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色矩陣光罩，其特征在于，所述像素編號為不透光的數(shù)字。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色矩陣光罩，其特征在于，所述黑色矩陣光罩為矩形，所述每一不透光區(qū)域為矩形。
5.一種應(yīng)用如權(quán)利要求1所述的黑色矩陣光罩制備黑色矩陣的方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一基板；
在所述基板上涂布黑色矩陣材料層；
使用所述黑色矩陣光罩對基板上的黑色矩陣材料層進(jìn)行曝光；
對曝光后的黑色矩陣材料層進(jìn)行顯影；
對顯影后的黑色矩陣材料層進(jìn)行烘烤，以在所述基板上形成具有像素編號的黑色矩陣。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備黑色矩陣的方法，其特征在于，所述“使用所述黑色矩陣光罩對基板上的黑色矩陣材料層進(jìn)行曝光”的步驟包括：通過黑色矩陣光罩將涂布有黑色矩陣薄膜層的基板的非顯示區(qū)域進(jìn)行曝光以形成曝光區(qū)域且在所述曝光區(qū)域上有遮光區(qū)域，遮光區(qū)域顯影后形成像素編號，將涂布有所述黑色矩陣薄膜層的基板的顯示區(qū)域進(jìn)行遮擋以形成遮光區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備黑色矩陣的方法，其特征在于，在所述基板的顯示區(qū)域形成有薄膜晶體管陣列和電極結(jié)構(gòu)；或者在所述基板的顯示區(qū)域形成有彩色樹脂結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備黑色矩陣的方法，其特征在于，所述像素編號在所述基板的黑色矩陣上且位于顯示區(qū)域的周邊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備黑色矩陣的方法，其特征在于，在所述基板的黑色矩陣上對應(yīng)于存儲電容的位置設(shè)置所述像素編號。
10.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，所述顯示面板的黑色矩陣按照權(quán)利要求5所述的方法進(jìn)行制備。