技術總結(jié)
本發(fā)明公開一種黑色矩陣光罩、黑色矩陣制作方法及顯示面板。所述黑色矩陣光罩，包括多個不透光區(qū)域及位于多個不透光區(qū)域之間的透光區(qū)域，在所述透光區(qū)域上且位于所述不透光區(qū)域周邊設置有像素編號，以標識像素位置，以此實現(xiàn)在面板內(nèi)即可根據(jù)所述像素編號快速查找到對應的掃描線及數(shù)據(jù)線，也可根據(jù)所述像素編號快速找到對應像素，進而快速定位缺陷位置。

技術研發(fā)人員：張蒙蒙;陳帥
受保護的技術使用者：深圳市華星光電技術有限公司
文檔號碼：201611005288
技術研發(fā)日：2016.11.11
技術公布日：2017.02.15