本發(fā)明涉及顯示器制作技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光機(jī)及遮光葉片。

背景技術(shù)：

在顯示技術(shù)領(lǐng)域，液晶顯示器(liquidcrystaldisplay，lcd)與有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(organiclightemittingdiode，oled)等平板顯示器已經(jīng)逐步取代crt顯示器，廣泛的應(yīng)用于液晶電視、手機(jī)、個人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、計算機(jī)屏幕或筆記本電腦屏幕等。

在液晶顯示器的array制程等平板顯示器的制程過程中，經(jīng)常會使用曝光機(jī)進(jìn)行曝光制程，以圖案化相應(yīng)的膜層?，F(xiàn)有的曝光機(jī)一般包括：光罩載臺、對應(yīng)光罩載臺設(shè)置的光源、設(shè)于所述光罩載臺下方的放大光路、設(shè)于所述放大光路下方的基板載臺、設(shè)于所述光罩載臺與放大光路之間的第一遮光葉片(ymaskingblade)以及設(shè)于所述基板載臺與放大光路之間的第二遮光葉片(xmaskingblade)，在曝光前第一遮光葉片與第二遮光葉片會移動到曝光程序(recipe)設(shè)定的位置，遮擋出曝光程序設(shè)定的曝光區(qū)域，避免已涂布成膜(coating)的基板其他區(qū)域被曝光，導(dǎo)致圖形缺失。

如圖1所示，現(xiàn)有的曝光機(jī)中設(shè)有沿水平方向相對設(shè)置的第一前遮光葉片101(ymaskingbladefront)和第一后遮光葉片102(ymaskingbladerear)，所述第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102均位于光罩載臺200的下方，工作時，光罩300設(shè)于所述光罩載臺200靠近所述第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102的一側(cè)，且所述光罩300遠(yuǎn)離所述光罩載臺200的一側(cè)設(shè)有光罩保護(hù)膜400(maskpellicle)。由于光罩保護(hù)膜400的底部與第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102的頂部距離極小(通常為3mm)，在第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102運(yùn)動時可能會引起光罩保護(hù)膜400與第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102之間的氣壓減小，進(jìn)而導(dǎo)致光罩保護(hù)膜400向下彎曲刮蹭到所述第一前遮光葉片101和第一后遮光葉片102的頂部，導(dǎo)致光罩保護(hù)膜400損壞，影響曝光制程質(zhì)量。尤其是在所述曝光機(jī)進(jìn)行光罩光學(xué)自動對焦傳感器校正(maskopafsensorcalibration)時，第一前遮光葉片101需要快速移動到第一后遮光葉片102的一側(cè)，這種大范圍的快速移動導(dǎo)致的氣壓下降很大，光罩保護(hù)膜400向下彎曲也更嚴(yán)重，出現(xiàn)刮蹭的風(fēng)險也越大。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種曝光機(jī)，能夠減少第一前遮光葉片移動時第一前遮光葉片與光罩保護(hù)膜之間的氣壓下降，避免光罩保護(hù)膜被刮蹭，保證曝光質(zhì)量。

本發(fā)明的目的還在于提供一種遮光葉片，能夠減少遮光葉片移動時遮光葉片與光罩保護(hù)膜之間的氣壓下降，避免光罩保護(hù)膜被刮蹭，保證曝光質(zhì)量。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種曝光機(jī)，包括：光罩載臺、光罩、光罩保護(hù)膜、第一前遮光葉片及第一后遮光葉片；

所述光罩設(shè)于所述光罩載臺的下方，所述光罩保護(hù)膜遮擋所述光罩遠(yuǎn)離所述光罩載臺的一側(cè)表面，所述第一前遮光葉片及第一后遮光葉片位于所述光罩保護(hù)膜遠(yuǎn)離所述光罩的一側(cè)并與所述光罩保護(hù)膜間隔，且所述第一前遮光葉片及第一后遮光葉片沿水平方向相對設(shè)置；

所述第一前遮光葉片包括：豎直部、與所述豎直部的底邊相連并往遠(yuǎn)離所述第一后遮光葉片的一側(cè)延伸的第一水平部以及與所述豎直部的頂邊相連并往靠近所述第一后遮光葉片的一側(cè)延伸的第二水平部，所述豎直部上設(shè)有開口，所述開口的頂部及側(cè)部均設(shè)有遮光片。

所述開口的形狀為矩形，所述遮光片包括：一沿所述開口的頂邊設(shè)置的水平的頂遮光片以及兩分別沿所述開口的兩側(cè)邊設(shè)置的豎直的側(cè)遮光片；所述頂遮光片和側(cè)遮光片均往遠(yuǎn)離所述第一后遮光葉片的一側(cè)延伸。

還包括：設(shè)于所述光罩載臺上方的光源、設(shè)于所述光源與光罩載臺之間的弧形狹縫單元、設(shè)于所述弧形狹縫單元與光罩載臺之間的校準(zhǔn)示波器、設(shè)于光罩載臺下方的基板載臺以及設(shè)于所述光罩載臺與基板載臺之間的放大光路；所述第一前遮光葉片及第一后遮光葉片位于所述光罩載臺與放大光路之間。

還包括：分別與所述第一前遮光葉片及第一后遮光葉片傳動連接的兩脈沖馬達(dá)。

所述脈沖馬達(dá)與所述第一前遮光葉片及第一后遮光葉片之間通過齒輪齒條傳動連接。

在所述基板載臺與放大光路之間還設(shè)有兩沿水平方向相對設(shè)置的第二遮光葉片，兩第二遮光葉片能夠在其所在的平面內(nèi)沿第一方向移動，所述第一前遮光葉片與第一后遮光葉片能夠在其所在的平面內(nèi)沿第二方向移動，所述第一方向與第二方向垂直，。

所述光罩保護(hù)膜的厚度為6.7mm至7.3mm，所述光罩保護(hù)膜靠近所述第一前遮光葉片的一側(cè)表面與所述第一前遮光葉片的頂部之間間隔的距離為2.4mm至3.6mm。

本發(fā)明還提供一種遮光葉片，包括：豎直部、與所述豎直部的底邊相連的第一水平部以及與所述豎直部的頂邊相連的第二水平部，所述第一水平部和第二水平部的延伸方向相反，所述豎直部上設(shè)有開口，所述開口的頂部及側(cè)部均設(shè)有遮光片。

所述開口的形狀為矩形，所述遮光片包括：一沿所述開口的頂邊設(shè)置的水平的頂遮光片、以及兩分別沿所述開口的兩側(cè)邊設(shè)置的豎直的側(cè)遮光片；所述頂遮光片和側(cè)遮光片延伸方向與所述第一水平部的延伸方向相同。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，該曝光機(jī)通過在第一前遮光葉片的豎直部中設(shè)置開口，使得第一前遮光葉片移動時空氣可通過所述開口流動，進(jìn)而減少第一前遮光葉片移動時第一前遮光葉片與光罩保護(hù)膜之間的氣壓下降，避免光罩保護(hù)膜被刮蹭，并通過在所述開口的頂部和側(cè)部設(shè)置遮光板，避免曝光所用的紫外光從所述開口泄漏出去，保證第一前遮光葉片的遮光效果和曝光機(jī)的曝光效果，防止圖形異常。本發(fā)明還提供一種遮光葉片，能夠減少遮光葉片移動時遮光葉片與光罩保護(hù)膜之間的氣壓下降，避免光罩保護(hù)膜被刮蹭，保證曝光質(zhì)量。

附圖說明

為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。

附圖中，

圖1為現(xiàn)有的曝光機(jī)中第一遮光葉片區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明的曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明的曝光機(jī)中第一前遮光葉片暨本發(fā)明的遮光葉片的結(jié)構(gòu)圖；

圖4為本發(fā)明的曝光機(jī)中第一前遮光葉片和第一后遮光葉片區(qū)域的放大示意圖。

具體實施方式

為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。

請參閱圖2至圖4，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，包括：光罩載臺10、光罩61、光罩保護(hù)膜62、第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22；

所述光罩61設(shè)于所述光罩載臺10的下方，所述光罩保護(hù)膜62遮擋所述光罩61遠(yuǎn)離所述光罩載臺10的一側(cè)表面，所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22位于所述光罩保護(hù)膜62遠(yuǎn)離所述光罩61的一側(cè)并與所述光罩保護(hù)膜62間隔，且所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22沿水平方向相對設(shè)置；

如圖3所示，所述第一前遮光葉片21包括：豎直部211、與所述豎直部211的底邊相連并往遠(yuǎn)離所述第一后遮光葉片22的一側(cè)延伸的第一水平部212以及與所述豎直部211的頂邊相連并往靠近所述第一后遮光葉片22的一側(cè)延伸的第二水平部213，所述豎直部211上設(shè)有開口214，所述開口214的頂部及側(cè)部均設(shè)有遮光片215。

優(yōu)選地，如圖3所示，所述開口214的形狀為矩形，所述遮光片215包括：一沿所述開口214的頂邊設(shè)置的水平的頂遮光片2151以及兩分別沿所述開口214的兩側(cè)邊設(shè)置的豎直的側(cè)遮光片2152；所述頂遮光片2151和側(cè)遮光片2152均往遠(yuǎn)離所述第一后遮光葉片22的一側(cè)延伸。詳細(xì)地，如圖3所示，所述側(cè)遮光片2152的形狀為三角形。

具體地，所述曝光機(jī)還包括：設(shè)于所述光罩載臺10上方的光源30、設(shè)于所述光源30與光罩載臺10之間的弧形狹縫單元40、設(shè)于所述弧形狹縫單元40與光罩載臺10之間的校準(zhǔn)示波器60、設(shè)于光罩載臺10下方的基板載臺50以及設(shè)于所述光罩載臺10與基板載臺50之間的放大光路70；所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22位于所述光罩載臺10與放大光路70之間。

進(jìn)一步地，在所述基板載臺50與放大光路70之間還設(shè)有兩沿水平方向相對設(shè)置的第二遮光葉片(未圖示)，兩第二遮光葉片能夠在其所在的平面內(nèi)沿第一方向移動，所述第一前遮光葉片21與第一后遮光葉片22能夠在其所在的平面內(nèi)沿第二方向移動，所述第一方向與第二方向垂直，所述第二遮光片葉片與所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22配合遮擋出recipe設(shè)定的曝光區(qū)域。

具體地，所述曝光機(jī)的光傳播路徑為：所述光源30發(fā)出的光線依次經(jīng)過弧形狹縫單元40、校準(zhǔn)示波器60、光罩61、光罩保護(hù)膜62和放大光路70照射到基板載臺50上的待曝光的基板上。優(yōu)選地，所述放大光路70中設(shè)有一梯形透鏡、一凸透鏡以及凹透鏡。

具體地，所述曝光機(jī)還包括：分別與所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22傳動連接的兩脈沖馬達(dá)23。優(yōu)選地，所述脈沖馬達(dá)23與所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22之間通過齒輪齒條傳動連接。

進(jìn)一步地，所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22上分別設(shè)有一齒條，所述兩脈沖馬達(dá)23的旋轉(zhuǎn)軸上分別設(shè)有一與所述齒條配合的齒輪，進(jìn)而通過所述脈沖馬達(dá)23的旋轉(zhuǎn)帶動所述第一前遮光葉片21及第一后遮光葉片22移動。

優(yōu)選地，所述光罩保護(hù)膜62的厚度為6.7mm至7.3mm，所述光罩保護(hù)膜62靠近所述第一前遮光葉片21的一側(cè)表面與所述第一前遮光葉片21的頂部之間間隔的距離為2.4mm至3.6mm。

需要說明的是，請參閱圖4，本發(fā)明通過在第一前遮光葉片21的豎直部中設(shè)置開口214，使得第一前遮光葉片21移動時空氣可通過所述開口214流動，相比現(xiàn)有技術(shù)增加了新的空氣流動通道，能夠減少第一前遮光葉片21移動時第一前遮光葉片21與光罩保護(hù)膜62之間的氣壓下降，降低因氣壓下降導(dǎo)致的光罩保護(hù)膜62彎曲程度，減少光罩保護(hù)膜62被刮蹭的風(fēng)險，并通過在所述開口214的頂部和側(cè)部設(shè)置遮光板215，避免曝光所用的紫外光從所述開口214泄漏出去，保證第一前遮光葉片21的遮光效果和曝光機(jī)的曝光效果，防止圖形異常。

請參閱圖3，本發(fā)明還提供一種遮光葉片，所述遮光葉片應(yīng)用于曝光機(jī)中，包括：豎直部211、與所述豎直部211的底邊相連的第一水平部212以及與所述豎直部211的頂邊相連的第二水平部213，所述第一水平部212和第二水平部213的延伸方向相反，所述豎直部211上設(shè)有開口214，所述開口214的頂部及側(cè)部均設(shè)有遮光片215。

優(yōu)選地，所述開口214的形狀為矩形，所述遮光片215包括：一沿所述開口214的頂邊設(shè)置的水平的頂遮光片2151以及兩分別沿所述開口214的兩側(cè)邊設(shè)置的豎直的側(cè)遮光片2152；所述頂遮光片2151和側(cè)遮光片2152延伸方向與所述第一水平部212的延伸方向相同。

具體地，所述遮光葉片為與光罩保護(hù)膜相鄰設(shè)置的第一前遮光葉片，通過在遮光葉片的豎直部211中設(shè)置開口214，能夠減少遮光葉片移動時遮光葉片與光罩保護(hù)膜之間的氣壓下降，避免光罩保護(hù)膜被刮蹭，保證曝光質(zhì)量。

綜上所述，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，該曝光機(jī)通過在第一前遮光葉片的豎直部中設(shè)置開口，使得第一前遮光葉片移動時空氣可通過所述開口流動，進(jìn)而減少第一前遮光葉片移動時第一前遮光葉片與光罩保護(hù)膜之間的氣壓下降，避免光罩保護(hù)膜被刮蹭，并通過在所述開口的頂部和側(cè)部設(shè)置遮光板，避免曝光所用的紫外光從所述開口泄漏出去，保證第一前遮光葉片的遮光效果和曝光機(jī)的曝光效果，防止圖形異常。本發(fā)明還提供一種遮光葉片，能夠減少遮光葉片移動時遮光葉片與光罩保護(hù)膜之間的氣壓下降，避免光罩保護(hù)膜被刮蹭，保證曝光質(zhì)量。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。