專利名稱：電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本設(shè)備是應(yīng)用于有色冶煉行業(yè)的煉銻工程設(shè)備。
二背景技術(shù)：
電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備是對傳統(tǒng)煉銻工藝及設(shè)備的改進；我國大都采用反射爐-鼓風(fēng)爐系統(tǒng)煉銻；反射爐在生產(chǎn)的過程中由于爐型的限制，上料，扒渣，出渣，出銻不能采用機械化使得煙塵和灰塵到處飛揚污染工作環(huán)境，物料加入爐內(nèi)堆積成堆而沒有攪拌裝置使物料均勻攤開，難以進行化學(xué)反應(yīng)，從而增長物料的反應(yīng)時間，增加燃料然燒量，增加煙氣中的煙塵量，增加收塵系統(tǒng)工作量，相應(yīng)增加收塵系統(tǒng)的電能消耗量；鼓風(fēng)爐熔煉系統(tǒng)也存在上述反射爐密閉性差，工作環(huán)境惡劣，爐內(nèi)物料反應(yīng)·時間長，能耗高，機械化程度低等弊端；反射爐-鼓風(fēng)爐系統(tǒng)煉銻過程中每臺設(shè)備都需要各自的供風(fēng)，供料，供燃料系統(tǒng)，造成重復(fù)投資，占地面積龐大，投資成本高，環(huán)保性差，是將來淘汰的冶煉工藝及系統(tǒng)。
三、發(fā)明內(nèi)容針對上述問題，根據(jù)國家產(chǎn)業(yè)政策，發(fā)展循環(huán)經(jīng)濟，節(jié)能減排，保護環(huán)境，特提出以下技術(shù)方案電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，包括動態(tài)還原爐和靜態(tài)的電熱爐，二者之間有水平落差，通過溜槽連接而成。動態(tài)還原爐具有水平中心軸線旋轉(zhuǎn)的圓筒型爐體，爐體上配置有齒輪機電驅(qū)動裝置和滾圈，齒圈，爐體下有托輪組和底座支撐。爐體的底部或側(cè)部配置有氣體噴射器，將壓縮氣體噴入爐體。爐體的上部設(shè)有加料口、出煙口，爐體端下部設(shè)有出渣口。爐體和一端部設(shè)置有助燃燒嘴。電熱爐上部設(shè)置有電極和配電裝置。電熱爐側(cè)部設(shè)置有落差的出渣口，出銻口。采用上述技術(shù)方案，可實現(xiàn)一套電熱底吹還原直接煉銻設(shè)備可代替反射爐，鼓風(fēng)爐兩套熔煉系統(tǒng)，可節(jié)省一套熔煉設(shè)備和占地，與反射爐，鼓風(fēng)爐系統(tǒng)煉銻相比，投資節(jié)約30-40 %，生產(chǎn)成本減少30 %，工作環(huán)靜好，機械化程度高，連續(xù)生產(chǎn)性強等優(yōu)點，是銻冶煉行業(yè)首選的冶煉設(shè)備，也是國家鼓勵發(fā)展的冶煉裝備系統(tǒng)。
四
圖I為電熱底吹還原直接煉鋪工程設(shè)備配置圖；圖2為電熱底吹還原直接煉鋪工程設(shè)備配置俯視圖；其中，I.動態(tài)還原爐；2.溜槽；3.電熱爐；4.助燃燒嘴；5.加料口 ；6.氣體噴射器；7.出煙口 ；8.出渣口 ；9.電極；10.出渣口 ；11.出銻口 ；12.爐體；13.齒輪機電驅(qū)動裝置；14.滾圈；15.齒圈；16.托輪組；17.底座。
五具體實施方式
如附圖1-2所示，電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備是將動態(tài)還原爐(I)通過溜槽
(2)連接電熱爐(3)成為一體，使其在煉銻的過程中物料在作化學(xué)反應(yīng)具備有兩個不同環(huán)境，動態(tài)和靜態(tài)進行，更能使化學(xué)反應(yīng)進行徹底；在生產(chǎn)過程中，通過助燃燒嘴(4)烘還原爐(I)溫度至1350°C，將含銻物料從加料口(5)加入還原爐(I)內(nèi)，銻物料通過多種氣體噴射器(6)噴入爐內(nèi)的壓縮氣體和燃料的作用下作強烈化學(xué)反應(yīng)，煙氣從出煙口(7)進入收塵系統(tǒng)，銻的熔融物料從出渣口⑶通過溜槽⑵進入電熱爐⑶內(nèi)，調(diào)整電極(9)的電流強度使電熱爐(3)內(nèi)溫度適應(yīng)電熱爐(3)內(nèi)銻的熔融物料在靜態(tài)下完成在還原爐(I)未完成的化學(xué)反應(yīng)和沉淀分離，銻渣從電熱爐⑶出渣口(10)排出鑄錠，粗銻由電熱爐(3)出銻口(11)排出鑄錠，完成整個生產(chǎn)過程。以上實施例僅僅是為了使本發(fā)明敘述清晰而撰寫，并非唯一實施例，一切在權(quán)利要求書所要求保護范圍之內(nèi)的實施例均為本發(fā)明所要求保護之范圍。
權(quán)利要求1.電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，其特征是包括動態(tài)還原爐(I)和靜態(tài)的電熱爐(3)，二者之間有水平落差，通過溜槽(2)連接而成。
2.如權(quán)利要求I所述的電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，其特征是動態(tài)還原爐(I)具有水平中心軸線旋轉(zhuǎn)的圓筒型爐體(12)，爐體(12)上配置有齒輪機電驅(qū)動裝置(13)和滾圈(14)，齒圈(15)，爐體(12)下有托輪組(16)和底座(17)支撐。
3.如權(quán)利要求2所述的電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，其特征是爐體(12)的底部或側(cè)部配置有氣體噴射器出)，將壓縮氣體噴入爐體(12)。
4.如權(quán)利要求2所述的電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，其特征是爐體(12)的上部設(shè)有加料口(5)、出煙口(7)，爐體(12)端下部設(shè)有出渣口(8)。
5.如權(quán)利要求2所述的電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，其特征是爐體(12)和一端部設(shè)置有助燃燒嘴(4)。
6.如權(quán)利要求2所述的電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，其特征是電熱爐(3)上部設(shè)置有電極(9)和配電裝置。
7.如權(quán)利要求2所述的電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備，其特征是電熱爐(3)側(cè)部設(shè)置有落差的出渣口(10)，出銻口(11)。
專利摘要電熱底吹還原直接煉銻工程設(shè)備是有兩套之間有落差的動態(tài)還原爐和靜態(tài)的電熱爐組成；動態(tài)還原爐可繞水平中心軸線旋轉(zhuǎn)的圓筒型還原爐體，底部或側(cè)部可通入氣體進行攪動爐內(nèi)物料，增大爐內(nèi)物料化學(xué)反應(yīng)面積，加快反應(yīng)速度實現(xiàn)節(jié)能；而電熱爐是兩端有元弧，上部有電極，固定不動的，可隨時用電力對儲存熔融物料加熱或降溫，使熔融物料能在合適溫度下完成動態(tài)還原爐未完成的化學(xué)反應(yīng)和渣銻分離的設(shè)備；采用上述技術(shù)方案，可實現(xiàn)與反射爐，鼓風(fēng)爐系統(tǒng)煉銻相比，可節(jié)約一套熔煉設(shè)備，節(jié)約投資30-50％，節(jié)能30％，工作環(huán)靜好，機械化程度高，連續(xù)生產(chǎn)性強等優(yōu)點。
文檔編號C22B30/02GK202766603SQ201220236119
公開日2013年3月6日 申請日期2012年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月17日
發(fā)明者王國武, 王國富, 王杰, 陳建平 申請人:焦作華星礦冶機械有限公司, 河南華一礦冶工程有限公司