本發(fā)明屬于真空蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種蒸發(fā)源。

背景技術(shù)：

在真空蒸鍍過程中，需要通過蒸發(fā)源將蒸鍍材料蒸發(fā)(或升華)為蒸氣，蒸氣在待蒸鍍物體表面凝結(jié)后形成膜層。因此，蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸氣是否均勻，對所形成的膜層的質(zhì)量是十分重要的。蒸發(fā)源通常為“線源”形式，其包括長條形的腔室，腔室頂部均勻開設(shè)有多個出氣孔，底部則連接坩堝，坩堝用于盛放蒸鍍材料并將其蒸發(fā)，產(chǎn)生的蒸氣進入腔室后并從出氣孔排出。

一種現(xiàn)有的蒸發(fā)源如圖1所示，其腔室1底部多個不同位置分別連接坩堝2。這種蒸發(fā)源的腔室1不同位置的氣壓不同，正對坩堝2處氣壓高，相應出氣孔19的出氣量也大，遠離坩堝2的出氣孔19的出氣量則小，由此導致蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸氣均勻性差。

另一種現(xiàn)有的蒸發(fā)源如圖2所示，其腔室1底部連接有一個長條形的大坩堝2。但是，由于該坩堝2為長度較大的長條形，故向其中加入蒸鍍材料時難以保證加料均勻，且也難以保證坩堝2所有位置的加熱均勻，故這樣的蒸發(fā)源同樣存在產(chǎn)生的蒸氣均勻性差的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明至少部分解決現(xiàn)有的蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸氣均勻性差的問題，提供一種可產(chǎn)生均勻的蒸氣的蒸發(fā)源。

解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種蒸發(fā)源，其包括：

腔室，其分為多個區(qū)域，每個區(qū)域中設(shè)有至少一個出氣孔以及至少一個氣壓傳感器；

多個與所述腔室相連的坩堝，每個所述坩堝用于向腔室的至少一個區(qū)域供應蒸氣。

優(yōu)選的是，所述腔室內(nèi)部通過隔墻分割為多個互不連通的隔間，每個所述隔間為一個區(qū)域。

優(yōu)選的是，每個所述坩堝用于為多個區(qū)域提供蒸氣；所述坩堝和與其對應的每個區(qū)域間通過一條輸氣管相連。

進一步優(yōu)選的是，與同一坩堝相連的多條輸氣管的結(jié)構(gòu)相同。

進一步優(yōu)選的是，每個所述坩堝用于為2至3個區(qū)域提供蒸氣。

進一步優(yōu)選的是，所述蒸發(fā)源還包括：用于調(diào)節(jié)所述輸氣管中氣體流量的調(diào)節(jié)機構(gòu)。

進一步優(yōu)選的是，所述調(diào)節(jié)機構(gòu)為管狀，連接在所述腔室與輸氣管之間，其包括：第一固定端和第二固定端，二者中的一個與腔室相連，另一個與輸氣管相連；旋轉(zhuǎn)部，連接在第一固定端和第二固定端之間，并能相對第一固定端和第二固定端旋轉(zhuǎn)；第一擋片，設(shè)于第一固定端內(nèi)側(cè)與旋轉(zhuǎn)部相連處，擋住第一固定端內(nèi)通道的一部分；第二擋片，設(shè)于旋轉(zhuǎn)部內(nèi)側(cè)與第一固定端相連處，擋住旋轉(zhuǎn)部內(nèi)通道的一部分。

優(yōu)選的是，所述蒸發(fā)源還包括：控制單元，與各氣壓傳感器和坩堝連接，用于根據(jù)各所述氣壓傳感器的檢測結(jié)果控制各坩堝的加熱溫度。

優(yōu)選的是，所述蒸發(fā)源包括2至3個坩堝。

優(yōu)選的是，每個所述區(qū)域設(shè)有2至3個出氣孔。

本發(fā)明的蒸發(fā)源包括多個坩堝，每個坩堝主要向腔室的部分位置(一個或多個區(qū)域)提供蒸氣，每個區(qū)域中設(shè)有用于檢測氣壓的氣壓傳感器，而氣壓體現(xiàn)了相應區(qū)域中蒸氣的流量，也就是體現(xiàn)了相應出氣孔的出氣量。由此，只要根據(jù)氣壓傳感器的檢測結(jié)果對相應區(qū)域的供氣進行調(diào)節(jié)(如調(diào)節(jié)相應坩堝的加熱溫度，或調(diào)節(jié)坩堝向區(qū)域的氣體流量等)，即可提高蒸發(fā)源整體(即多個不同區(qū)域)產(chǎn)生的蒸氣的均勻性。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的一種蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有的另一種蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明的實施例的一種蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明的實施例的一種蒸發(fā)源中調(diào)節(jié)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明的實施例的一種蒸發(fā)源中調(diào)節(jié)機構(gòu)的擋片在不同重疊狀況時的示意圖；

其中，附圖標記為：1、腔室；11、區(qū)域；19、出氣孔；2、坩堝；3、輸氣管；5、氣壓傳感器；6、調(diào)節(jié)機構(gòu)；61、第一固定端；62、第二固定端；63、旋轉(zhuǎn)部；651、第一擋片；652、第二擋片。

具體實施方式

為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細描述。

實施例1：

如圖3至圖5所示，本實施例提供一種蒸發(fā)源，該蒸發(fā)源用于在真空蒸鍍系統(tǒng)中產(chǎn)生蒸鍍用的蒸氣。

具體的，以上蒸發(fā)源包括：

腔室1，其分為多個區(qū)域11，每個區(qū)域11中設(shè)有至少一個出氣孔19以及至少一個氣壓傳感器5；

多個與腔室1相連的坩堝2，每個坩堝2用于向腔室1的至少一個區(qū)域11供應蒸氣。

本實施例的蒸發(fā)源包括多個坩堝2，每個坩堝2主要向腔室1的部分位置(一個或多個區(qū)域11)提供蒸氣，每個區(qū)域11中設(shè)有用于檢測氣壓的氣壓傳感器5，而氣壓體現(xiàn)了相應區(qū)域11中蒸氣的流量，也就是體現(xiàn)了相應出氣孔19的出氣量。由此，只要根據(jù)氣壓傳感器5的檢測結(jié)果對相應區(qū)域11的供氣進行調(diào)節(jié)(如調(diào)節(jié)相應坩堝2的加熱溫度，或調(diào)節(jié)坩堝2向區(qū)域11的氣體流量等)，即可提高蒸發(fā)源整體(即多個不同區(qū)域11)產(chǎn)生的蒸氣的均勻性。

優(yōu)選的，腔室1為長條形；多個區(qū)域11沿腔室1的長度方向依次排布；各出氣孔19沿腔室1的長度方向依次排布。

也就是說，如圖3所示，本實施例的蒸發(fā)源優(yōu)選為“線源”的形式，其整體為長條形，而各出氣孔19也沿其長度方向排布。

優(yōu)選的，蒸發(fā)源包括2至3個坩堝2。

雖然坩堝2數(shù)量越多越有利于提高蒸氣的均勻性，但若坩堝2太多，則難以對所有坩堝2進行準確控制，且坩堝2間距離太近，容易相互影響，故總共有2至3個坩堝2是比較優(yōu)選的。

優(yōu)選的，每個區(qū)域11設(shè)有2至3個出氣孔19。

根據(jù)氣壓傳感器5的反饋進行調(diào)節(jié)，可實現(xiàn)不同區(qū)域11間蒸氣量的均勻，但如果一個區(qū)域11過大，其中的出氣孔19過多，則這些出氣孔19的出氣量也會存在不均勻，故優(yōu)選每個區(qū)域11僅對應2至3個出氣孔19，且每個區(qū)域11的形狀太小完全一致。

優(yōu)選的，腔室1內(nèi)部通過隔墻分割為多個互不連通的隔間，每個隔間為一個區(qū)域11。

顯然，如果腔室1的不同區(qū)域11是相互連通的，則雖然各坩堝2是為不同區(qū)域11供氣，但不同區(qū)域11間仍會存在氣體流動，故一個區(qū)域11氣壓的變化會對其它區(qū)域11產(chǎn)生影響，故難以準確對各區(qū)域11的氣壓進行調(diào)節(jié)。因此，優(yōu)選如圖3所示，腔室1的各區(qū)域11是相互不導通的隔間，這樣各隔間(區(qū)域11)中的氣壓相互獨立，可實現(xiàn)更準確的調(diào)節(jié)。

優(yōu)選的，每個坩堝2用于為多個區(qū)域11提供蒸氣；坩堝2和與其對應的每個區(qū)域11間通過一條輸氣管3相連。

顯然，當一個坩堝2對應多個區(qū)域11時，各區(qū)域11與坩堝2的相對位置必然存在一定的差別，故仍可能存在靠近坩堝2的區(qū)域11中蒸氣量大，遠離坩堝2的區(qū)域11中蒸氣量小的問題。為此，可如圖3所示，讓每個坩堝2通過輸氣管3與多個區(qū)域11(如隔間)相連，顯然，坩堝2中產(chǎn)生的蒸氣會比較均勻的進入各條輸氣管3，由此，與不同輸氣管3相連的區(qū)域11雖然與坩堝2的距離相差較大，但各自獲得的蒸氣量卻很接近，可進一步提高蒸發(fā)源的產(chǎn)生的蒸氣均勻性。

更優(yōu)選的，與同一坩堝2相連的多條輸氣管3的結(jié)構(gòu)相同。

也就是說，與同一坩堝2相連的多條輸氣管3優(yōu)選具有相同的材質(zhì)、內(nèi)徑、外徑、長度等，從而保證它們結(jié)構(gòu)相同，這樣更有利于保證進入每條輸氣管3中的蒸氣量相同。

更優(yōu)選的，每個坩堝2用于為2至3個區(qū)域11提供蒸氣。

如圖3所示，雖然是通過輸氣管3傳輸蒸氣，但由于各區(qū)域11與坩堝2的相對位置不同，故相應的輸氣管3也不可能完全相同，如果一個坩堝2連接的輸氣管3過多，則不同輸氣管3的狀況相差太大，進而使輸氣管3中的蒸氣量差別很大，也不利于提高蒸氣的均勻性，故每個坩堝2對應2至3個區(qū)域11是優(yōu)選的。

優(yōu)選的，蒸發(fā)源還包括控制單元，與各氣壓傳感器5和坩堝2連接，用于根據(jù)各氣壓傳感器5的檢測結(jié)果控制各坩堝2的加熱溫度。

也就是說，各坩堝2的加熱狀況(如通入加熱絲的電流)是由控制單元(圖中未示出)控制的，而控制單元則根據(jù)各氣壓傳感器5的檢測結(jié)果控制坩堝2的加熱。具體的，若發(fā)現(xiàn)對應某個坩堝2的多個區(qū)域11中的氣壓都偏大(如偏差2％以上)，則降低相應坩堝2的加熱溫度，反之則提高相應坩堝2的加熱溫度，從而實現(xiàn)自動的根據(jù)氣壓的反饋控制。

更優(yōu)選的，蒸發(fā)源還包括用于調(diào)節(jié)輸氣管3中氣體流量的調(diào)節(jié)機構(gòu)6。

顯然，若一個坩堝2對應多個區(qū)域11，則調(diào)節(jié)坩堝2的加熱溫度必然對與其相應的所有區(qū)域11都造成影響，而無法消除這些區(qū)域11之間的氣壓不均。為此，對于以上每個坩堝2通過輸氣管3與多個區(qū)域11(如隔間)相連的例子，則可設(shè)置調(diào)節(jié)機構(gòu)6調(diào)節(jié)各輸氣管3中的氣體流量，當與同一個坩堝2對應的多個區(qū)域11中的氣壓不同(如偏差2％以上)時，則對相應的輸氣管3中的氣體流量進行調(diào)節(jié)，從而實現(xiàn)對與同一坩堝2相連的多個區(qū)域11的氣壓的獨立的調(diào)節(jié)。

進一步優(yōu)選的，調(diào)節(jié)機構(gòu)6為管狀，連接在腔室1與輸氣管3之間，其包括：第一固定端61和第二固定端62，二者中的一個與腔室1相連，另一個與輸氣管3相連；旋轉(zhuǎn)部63，連接在第一固定端61和第二固定端62之間，并能相對第一固定端61和第二固定端62旋轉(zhuǎn)；第一擋片651，設(shè)于第一固定端61內(nèi)側(cè)與旋轉(zhuǎn)部63相連處，擋住第一固定端61內(nèi)通道的一部分；第二擋片652，設(shè)于旋轉(zhuǎn)部63內(nèi)側(cè)與第一固定端61相連處，擋住旋轉(zhuǎn)部63內(nèi)通道的一部分。

如圖4所示，調(diào)節(jié)機構(gòu)6整體上是連接在腔室1與輸氣管3之間的管子，調(diào)節(jié)機構(gòu)6的一個固定端連接腔室1，另一個固定端連接輸氣管3，且而兩個固定端之間設(shè)有可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)部63，第一固定端61與旋轉(zhuǎn)部63相接處有第一擋片651，旋轉(zhuǎn)部63內(nèi)側(cè)與第一固定端61相接處有第二擋片652。這樣，如圖5所示，當旋轉(zhuǎn)部63相對第一固定端61旋轉(zhuǎn)時，第一擋片651和第二擋片652的重疊面積也隨之改變，即調(diào)節(jié)機構(gòu)6內(nèi)可通過氣的通道的截面積變化，從而改變輸氣管3中的氣體流量。

其中，坩堝2和調(diào)節(jié)機構(gòu)6可均位于真空蒸鍍設(shè)備的真空腔內(nèi)，從而在真空蒸鍍過程中可只檢測氣壓，而在真空蒸鍍結(jié)束后的保養(yǎng)過程中再相應的旋轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)部63進行調(diào)節(jié)?；蛘?，也可以將坩堝2和調(diào)節(jié)機構(gòu)6設(shè)于真空腔外，而只有腔室1設(shè)于真空腔內(nèi)，從而可在真空蒸鍍過程中實時的手動旋轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)部63進行調(diào)節(jié)?；蛘?，也可設(shè)置驅(qū)動器(如電機等)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)部63旋轉(zhuǎn)(這樣調(diào)節(jié)機構(gòu)6可位于真空腔內(nèi)，也可位于真空腔外)，而驅(qū)動器也受控制單元控制，從而可在真空蒸鍍過程中自動的實時旋轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)部63進行調(diào)節(jié)。

當然，調(diào)節(jié)機構(gòu)6的具體形式并不限于此。例如，若輸氣管3是由柔性材料構(gòu)成的，則調(diào)節(jié)機構(gòu)6也可為夾在輸氣管3上的夾子，通過對輸氣管3施加不同的夾持力使輸氣管3產(chǎn)生不同的變形，也可改變其中的氣體流量。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。