技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種蒸發(fā)源，屬于真空蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，其可至少部分解決現(xiàn)有的蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸氣均勻性差的問題。本發(fā)明的蒸發(fā)源包括：腔室，其分為多個(gè)區(qū)域，每個(gè)區(qū)域中設(shè)有至少一個(gè)出氣孔以及至少一個(gè)氣壓傳感器；多個(gè)與所述腔室相連的坩堝，每個(gè)所述坩堝用于向腔室的至少一個(gè)區(qū)域供應(yīng)蒸氣。

技術(shù)研發(fā)人員：張鑫狄;崔偉;付文悅;張峰杰;孫俊民
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司
文檔號碼：201611129547
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.09
技術(shù)公布日：2017.02.15