技術(shù)特征：

1.一種高硬度、高彈性模量的多組元氮化物涂層，其特征在于：其化學(xué)式為AlCrTiZrNbN，Al、Cr、Ti、Zr、Nb和N元素的原子比分別為8~12%：8~12%：8~12%：8~12%：8~12%：48~52%，所述涂層的厚度為2～5μm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、高彈性模量的多組元氮化物涂層，其特征在于：其中，Al、Cr、Ti、Zr、Nb和N元素按原子比計算為10%：10%：10%：10%：10%：50%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、高彈性模量的多組元氮化物涂層，其特征在于所述的涂層具有面心立方晶體結(jié)構(gòu)。

4.權(quán)利要求1所述的一種高硬度、高彈性模量的多組元氮化物涂層的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

1）一個對基體進(jìn)行清洗的步驟，將經(jīng)打磨鏡面拋光處理后的基體在酒精和丙酮中利用15～30kHz超聲波清洗10～15min；然后進(jìn)行離子清洗，在進(jìn)行離子清洗的過程中，將基體裝進(jìn)進(jìn)樣室，抽真空到3*10^-3Pa ~8*10^-3Pa后開Ar氣，維持真空度在2-4Pa，采用中頻的射頻對基體進(jìn)行20~40min的離子轟擊，功率為80-100W；

2）一個采用多靶磁控濺射儀，由摩爾比為1:1:1:1:1的AlCrTiZrNb合金靶材在基體上進(jìn)行磁控濺射反應(yīng)沉積的步驟；將清洗后的基體置入多靶磁控濺射儀并停留在AlCrTiZrNb合金靶材之前，上述的磁控濺射反應(yīng)沉積的條件為：氬氣流量：10-50sccm； N₂流量：5-30sccm；射頻電源功率:150-300W，自轉(zhuǎn)速度：10 r/min，時間：7200s；靶基距：3-7cm；總氣壓范圍0.2-0.8Pa；基片溫度范圍60-200℃，獲得高硬度、高彈性模量的多組元氮化物涂層。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高硬度、高彈性模量的多組元氮化物涂層的制備方法，其特征在于：所述的基體為金屬、硬質(zhì)合金或陶瓷基體。