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一種光學(xué)玻璃拋光工作盤的制作方法

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一種光學(xué)玻璃拋光工作盤的制作方法與工藝

本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)玻璃拋光工作盤,屬于玻璃研磨拋光技術(shù)領(lǐng)域。



背景技術(shù):

光學(xué)玻璃的表面平整度對(duì)其質(zhì)量非常重要,因此需要對(duì)其表面進(jìn)行拋光以去除玻璃表面的細(xì)微波度。拋光分為單側(cè)拋光(即玻璃的僅一個(gè)表面被拋光)和雙側(cè)拋光(即玻璃的兩個(gè)表面均被拋光),現(xiàn)有的拋光裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜,且拋光墊或板的整個(gè)面積不能對(duì)玻璃施加均勻的力,造成較多不合格產(chǎn)品。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種光學(xué)玻璃拋光工作盤,該拋光工作盤結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,拋光效率高,拋光后的玻璃表面質(zhì)量好。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:

一種光學(xué)玻璃拋光工作盤,包括:

上料盤,所述上料盤下部裝有若干待磨玻璃,所述上料盤與第一動(dòng)力裝置相連;

下磨盤,所述下磨盤上表面固有拋光墊,所述下磨盤底部連有第二動(dòng)力裝置,所述第二動(dòng)力裝置帶動(dòng)所述下磨盤自傳,在所述第一動(dòng)力裝置的帶動(dòng)下,所述上料盤的待磨玻璃貼合所述拋光墊做環(huán)繞運(yùn)動(dòng)或直線運(yùn)動(dòng);

拋光漿池,所述下磨盤置于所述拋光漿池中。

優(yōu)選地,所述上料盤包括盤殼和載具,所述載具部分容置于盤殼內(nèi),所述載具表面粘接有若干待磨玻璃。

優(yōu)選地,所述拋光墊上設(shè)有縱橫排列的溝槽。

優(yōu)選地,所述盤殼具有向其內(nèi)壁延伸的膠條,所述載具通過(guò)所述膠條與所述載具固定。

優(yōu)選地,所述殼體沿周向均設(shè)至少三個(gè)固定孔,所述載具利用緊固件通過(guò)所述固定孔固定。

優(yōu)選地,所述拋光漿池底部為中間高四周低圓盤形。

本實(shí)用新型所達(dá)到的有益效果:

拋光時(shí),上料盤的待磨玻璃與下磨盤上的拋光墊相接觸,待磨玻璃和拋光墊上均布有拋光漿,第二動(dòng)力裝置帶動(dòng)下磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí),第一動(dòng)力裝置帶動(dòng)上料盤做直線運(yùn)動(dòng)或環(huán)繞運(yùn)動(dòng),以此完成玻璃片的拋光;

待磨玻璃片通過(guò)膠粘固定于載具上,載具上可以固定多個(gè)大小形狀相同或不同的待磨玻璃片,簡(jiǎn)單實(shí)用,提高加工效率。

附圖說(shuō)明

圖1是優(yōu)選實(shí)施例中拋光夾具的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是圖1中上料盤的下部結(jié)構(gòu)示意圖;其中:

1. 上料盤,11. 盤殼,12. 載具,13. 筒狀連接部,2. 下磨盤,21. 拋光墊,3. 拋光漿池,4. 膠條,5.待磨玻璃。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案,而不能以此來(lái)限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

如圖1-2所示,一種光學(xué)玻璃拋光工作盤,包括:

-上料盤1,所述上料盤1下部裝有若干待磨玻璃5,所述上料盤1與第一動(dòng)力裝置相連;

-下磨盤2,所述下磨盤2上表面固有拋光墊21,下磨盤2底部連有第二動(dòng)力裝置,所述第二動(dòng)力裝置帶動(dòng)下磨盤2自傳,在第一動(dòng)力裝置的帶動(dòng)下,上料盤1的待磨玻璃5貼合拋光墊21做環(huán)繞運(yùn)動(dòng)或直線運(yùn)動(dòng);

-拋光漿池3,所述下磨盤2置于拋光漿池3中。

具體地,上料盤1包括盤殼11和載具12,盤殼11外部中心具有凸出的筒狀連接部13,用來(lái)與第一動(dòng)力裝置相連。載具12部分容置于盤殼11內(nèi),載具12表面粘接有若干待磨玻璃5,盤殼11具有向其內(nèi)壁延伸的膠條4,載具12通過(guò)膠條4與載具12固定。除此之外,載具12還可通過(guò)螺釘?shù)染o固件固定,具體:殼體沿周向均設(shè)至少三個(gè)固定孔,載具12利用緊固件通過(guò)所述固定孔固定。

拋光墊21上設(shè)有縱橫排列的溝槽。拋光漿池3底部為中間高四周低圓盤形。

以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和變形,這些改進(jìn)和變形也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

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