本發(fā)明涉及蒸鍍技術領域，尤其涉及一種基板承載機構及其使用方法、蒸鍍裝置。

背景技術：

真空蒸鍍是指在真空環(huán)境中，將待成膜物質(zhì)加熱蒸發(fā)或升華后，使其在低溫工件或基片表面凝結或沉積，形成鍍層的工藝。在有機顯示領域，有機半導體器件如有機發(fā)光二極管中的有機功能層大多是使用真空蒸鍍的方式進行加工制作，鍍膜工藝的好壞是影響有機顯示器件功能優(yōu)劣的關鍵因素。

現(xiàn)有技術中的蒸鍍設備通常將待蒸鍍基板水平放置在真空腔室內(nèi)，其中待蒸鍍基板的待蒸鍍面向下，在待蒸鍍基板的待蒸鍍面上貼合包含有待蒸鍍圖案的掩膜版，蒸鍍源設置在掩膜版的下方，蒸鍍源在激發(fā)狀態(tài)下將蒸鍍材料向上蒸發(fā)，其中，蒸鍍材料通過掩膜版上的待蒸鍍圖案中可透過的部分在待蒸鍍基板上沉積，從而在待蒸鍍基板上形成所需的蒸鍍圖案。

由于待蒸鍍基板的中心為待蒸鍍區(qū)域，為了避免對待蒸鍍區(qū)域的蒸鍍圖案造成影響，對待蒸鍍基板進行承載固定的基板承載機構只能夠與待蒸鍍基板的外側邊緣相接觸，這樣一來，待蒸鍍基板的中心就可能由于重力的作用發(fā)生下垂變形，從而影響到待蒸鍍基板與掩膜版之間的對位精度，進而影響到蒸鍍圖案的正確性和鍍膜層的均一性，甚至可能由于待蒸鍍基板的邊緣固定尺寸過小，導致待蒸鍍基板脫落的事故。

通過增加基板承載機構在待蒸鍍基板邊緣的支撐點能夠在一定程度上減小下垂變形量，降低待蒸鍍基板脫落的可能性，但是并不能解決上述問題，尤其是當待蒸鍍基板的尺寸較大時，下垂變形量也會相應增大，現(xiàn)有技術中還可以采用在待蒸鍍區(qū)域外用粘性膠對待蒸鍍基板進行粘貼的方式，將待蒸鍍基板背離蒸鍍源的一側與基板承載機構之間粘貼固定，但是這種方式的固定效果有限，待蒸鍍基板在蒸鍍過程中仍然有脫落的風險，而且在蒸鍍完成后基板與膠體分離時容易造成基板破損，增加次品率。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供一種基板承載機構及其使用方法、蒸鍍裝置，能夠解決待蒸鍍基板由于承載固定不牢固，而可能導致在蒸鍍過程中由于重力變形而發(fā)生脫落的問題。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術方案：

本發(fā)明實施例的一方面，提供一種基板承載機構，包括支撐架，承載件，承載件包括位于承載件前端的承載面，用于搭載待蒸鍍基板的邊緣，承載件的后端與支撐架固定連接。下壓件，下壓件的至少一部分設置于承載件的承載面之上，下壓件在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板的邊緣壓緊在承載件的承載面上。

進一步的，下壓件的后端與承載件的后端固定連接，下壓件由彈性材料制成，下壓件的前端在自由狀態(tài)下與承載件的前端之間留有用于置入待蒸鍍基板邊緣的間隙。

優(yōu)選的，承載件設置有一個，承載件的承載面沿支撐架的長度方向延伸為條狀；和/或，下壓件設置有一個，下壓件沿支撐架的長度方向延伸為條狀。

進一步的，在承載件的承載面上設置有防滑結構；和/或，在下壓件與待蒸鍍基板邊緣相接觸的表面設置有防滑結構。

進一步的，基板承載機構還包括驅動裝置，驅動裝置驅動下壓件向承載件的承載面移動。

優(yōu)選的，驅動裝置沿支撐架的長度方向設置有多個。

進一步的，基板承載機構還包括拉伸部件，拉伸部件連接設置在支撐架的后端，用于拉動支撐架向后移動。

本發(fā)明實施例的另一方面，提供一種基板承載機構的使用方法，包括，將待蒸鍍基板放置在承載件上，其中，待蒸鍍基板的邊緣搭載在承載件的承載面上；向下移動下壓件將待蒸鍍基板的邊緣壓緊。

進一步的，當下壓件由彈性材料制成，且下壓件的后端與承載件的后端固定連接時，向下移動下壓件將待蒸鍍基板的邊緣壓緊包括，向下移動下壓件的前端將待蒸鍍基板的邊緣壓緊；向下移動下壓件將待蒸鍍基板的邊緣壓緊之后，使用方法還包括，向后移動拉伸部件以拉動支撐架向后移動。

本發(fā)明實施例的再一方面，提供一種蒸鍍裝置，包括蒸鍍腔室，還包括上述任一項所述的基板承載機構，基板承載機構設置有至少一組，其中，每一組設置有兩個，且以相對的方向固定連接在蒸鍍腔室內(nèi)。

本發(fā)明實施例提供一種基板承載機構及其使用方法、蒸鍍裝置，包括支撐架，承載件，承載件包括位于承載件前端的承載面，用于搭載待蒸鍍基板的邊緣，承載件的后端與支撐架固定連接。下壓件，下壓件的至少一部分設置于承載件的承載面之上，下壓件在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板的邊緣壓緊在承載件的承載面上。將承載件的后端連接固定在支撐架上，在承載件之上設置下壓件，下壓件的至少一部分位于承載面之上，下壓件在下壓狀態(tài)下能夠將待蒸鍍基板的邊緣壓緊在承載件的承載面上，以降低待蒸鍍基板的邊緣由承載件的承載面上脫落的風險。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構的結構示意圖；

圖2為圖1的俯視圖之一；

圖3為圖1的俯視圖之二；

圖4為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構中下壓件前端為自由狀態(tài)時的結構示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構中下壓件前端為下壓狀態(tài)時的結構示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構中在下壓件與承載面上設置有防滑結構的結構示意圖；

圖7為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構中在下壓件與承載面上設置有驅動裝置的結構示意圖；

圖8為圖7的俯視圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構中在下壓件與承載面上設置有拉伸部件的結構示意圖；

圖10為圖9的俯視圖；

圖11為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構的使用方法的流程圖一；

圖12為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構的使用方法的流程圖二；

圖13為本發(fā)明實施例提供的一種基板承載機構的使用方法的流程圖三；

圖14為本發(fā)明實施例提供的一種蒸鍍裝置的結構示意圖。

附圖標記：

01-基板承載機構01；02-蒸鍍腔室；10-支撐架；20-承載件；201-承載面；30-待蒸鍍基板；40-下壓件；50-防滑結構；60-驅動裝置；70-拉伸部件；W-間隙。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本發(fā)明實施例提供一種基板承載機構，如圖1所示，包括支撐架10，承載件20，承載件20包括位于承載件20前端的承載面201，用于搭載待蒸鍍基板30的邊緣，承載件20的后端與支撐架10固定連接。下壓件40，下壓件40的至少一部分設置于承載件20的承載面201之上，下壓件40在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊在承載件20的承載面201上。

需要說明的是，第一，承載件20的承載面201用于對待蒸鍍基板30的邊緣進行搭載，在本發(fā)明實施例中定義承載件20靠近待蒸鍍基板30的一側為前，背離待蒸鍍基板30的一側為后，以下對于前、后的定義與此相同。

第二，本發(fā)明實施例中支撐架10指的是蒸鍍裝置內(nèi)用于與移動部如機械手相連接的支撐部件，支撐架10可活動的設置在蒸鍍裝置內(nèi)部，用于對基板承載機構的位置進行調(diào)整。因此，支撐架10的形狀應該理解為長條狀，支撐架10沿長條狀結構的長度方向將基板承載機構的承載件20后端固定，以保證能夠對承載整個待蒸鍍基板30的其中一側邊緣的基板承載機構進行固定和移位。由于下壓件40設置在承載件20的上方，為了能夠對整個基板承載機構進行同時移動，避免分別移動承載件20和下壓件40后，還需要重新對承載件20和下壓件40之間的相對關系進行調(diào)整確定，可以將下壓件40以可滑動連接的方式安裝在支撐架10上，以使得下壓件40在可上下移動的基礎上，能夠與支撐架10之間連接共同移動。

第三，承載件20至少包括位于前端的承載面201，本發(fā)明實施例中對于承載件20上的其他結構不做限定，而且對于承載件20的形狀也不做具體限定，舉例來說，如圖2所示，承載件20可以為塊狀，多個塊狀的承載件20的后端在支撐架10上均布排列固定，多個塊狀的承載件20的承載面201共同承載待蒸鍍基板30的一側邊緣?；蛘?，又例如，如圖3所示，承載件20可以為長條狀，長條狀的承載件20后端固定連接在支撐架10上，承載件20的承載面201承載待蒸鍍基板30的一側邊緣。

第四，下壓件40的下壓狀態(tài)指的是，下壓件40受到下壓的力并向下移動后的狀態(tài)。本發(fā)明實施例中對于下壓件40的具體形狀也未作限定，為了保證下壓件40對待蒸鍍基板30邊緣的下壓作用，下壓件40的至少一部分應該位于承載面201的垂直上方，以保證下壓件40在下壓狀態(tài)下能夠將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊在承載面上。與承載件20類似的，下壓件40也可以為如圖2所示的塊狀或如圖3所示的長條狀，且下壓件40的形狀并不限于圖2和圖3中所示的與承載件20的形狀相對應，也就是說，當承載件20為如圖2所示的多個塊狀時，下壓件40也可以為如圖3中所示的條狀，反之亦然，只要能夠保證下壓件40在下壓狀態(tài)下能夠向待蒸鍍基板30施加向下的力并將待蒸鍍基板30壓緊在承載面201上即可。

此外，由于下壓件40在下壓狀態(tài)下需要與承載面201共同將待蒸鍍基板30的邊緣夾緊，為了增大接觸面以減小局部壓強過大導致待蒸鍍基板30破損，通常下壓件40壓緊發(fā)蒸鍍基板30的部分設置為與承載面相對的平面。為了進一步降低待蒸鍍基板30破損的風險，同時提高待蒸鍍基板30的整條邊緣在承載面201上搭載以及在下壓件40下壓壓緊的過程中保持水平面上的高度一致，較為優(yōu)選的方案是如圖3所示的，承載件20與下壓件40均設置為條狀，即條狀的下壓件40將待蒸鍍基板30的整條邊緣壓緊在條狀的承載面201上，以下的實施例說明中均以此較為優(yōu)選的形狀結構進行說明。

本發(fā)明實施例提供一種基板承載機構，包括支撐架10，承載件20，承載件20包括位于承載件20前端的承載面201，用于搭載待蒸鍍基板30的邊緣，承載件20的后端與支撐架10固定連接。下壓件40，下壓件40的至少一部分設置于承載件20的承載面201之上，下壓件40在下壓狀態(tài)下可將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊在承載件20的承載面201上。將承載件20的后端連接固定在支撐架10上，在承載件20之上設置下壓件40，下壓件40的至少一部分位于承載面20之上，下壓件40在下壓狀態(tài)下能夠將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊在承載件20的承載面201上，以降低待蒸鍍基板30的邊緣由承載件20的承載面201上脫落的風險。

進一步的，如圖4所示，下壓件40的后端與承載件20的后端之間固定連接，下壓件40由彈性材料制成，下壓件40的前端在自由狀態(tài)下與承載件20的前端之間留有用于置入待蒸鍍基板30邊緣的間隙W。

下壓件40是由彈性材料制成，下壓件40受力后能夠發(fā)生一定程度的彈性形變，并且在撤銷受力后回彈至自由狀態(tài)，如圖4所示，下壓件40在自由狀態(tài)下后端與承載件20的后端固定連接且前端承載面201之間留有間隙W，間隙W的高度大于待蒸鍍基板30的厚度，待蒸鍍基板30由下壓件40前端與承載件20前端的間隙W水平放入，待蒸鍍基板30的兩相對側的邊緣分別置于相對設置的基板承載機構的承載面201上。在將待蒸鍍基板30置入間隙W內(nèi)之后，在下壓件40的上方對下壓件40的前端施加向下的壓力，下壓件40的前端受力向下移動，以壓緊待蒸鍍基板30的邊緣，如圖5所示，從而能夠有效降低待蒸鍍基板30由于中心部分的重力作用而發(fā)生下垂形變的程度，從而降低下垂形變過大時可能導致待蒸鍍基板30的邊緣由承載面201上脫落的風險。

這樣一來，由于下壓件40的后端固定連接在承載件20的后端不可移動，下壓件40的前端在受到下壓作用力時，能夠沿豎直方向向下移動，從而降低了下壓件40與承載件20之間不固定連接時，向下移動的過程中產(chǎn)生橫向位移的可能性，提高了下壓件40在下壓時運動軌跡的穩(wěn)定性。

進一步的，承載件20與支撐架10為一體結構。這樣能夠進一步提高承載件20后端與支撐架10之間的連接穩(wěn)定性。

優(yōu)選的，如圖3所示，承載件20設置有一個，承載件20的承載面201沿支撐架10的長度方向延伸為條狀；和/或，下壓件40設置有一個，下壓件40沿支撐架10的長度方向延伸為條狀。

在上述對本發(fā)明實施例的具體說明中，已經(jīng)說明了支撐架10應該理解為條狀結構，在此基礎上，較為優(yōu)選的，承載件20僅設置一個，承載件20的承載面201也設置為條狀(進一步優(yōu)選的，承載件20整體均為條狀)，并且條狀承載面201的長度方向與支撐架201的長度方向相同。同樣的，下壓件40也僅設置有一個，下壓件40設置為條狀，并且條狀下壓件40長度方向與支撐架201的長度方向相同。

這樣一來，一方面，由于支撐架10、承載件20和下壓件40均為條狀且支撐架10與承載件20之間、承載件20與下壓件40之間均沿長度方向固定連接，相互之間的固定穩(wěn)定性好；另一方面，承載面201和下壓件40與待蒸鍍基板30之間均為面接觸，進一步提高了待蒸鍍基板30夾緊在承載面201和下壓件40之間的邊緣整體受力均勻性。

進一步的，如圖6所示，在承載件20的承載面201上設置有防滑結構50；和/或，在下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面設置有防滑結構50。

需要說明的是，在本發(fā)明實施例中所述的防滑結構50，可以是在承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面上涂覆的防滑材料層，也可以是在承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面上加工的一層能夠起到增加摩擦力的結構層，例如，凹凸結構層。

通過在承載件20的承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面上設置防滑結構50，能夠提高待蒸鍍基板30在被壓緊的狀態(tài)下與承載件20的承載面201和/或下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面之間的摩擦阻力，從而進一步降低待蒸鍍基板30邊緣由于待蒸鍍基板30自身的重力下垂而由承載件20的承載面201和下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面之間花落的風險。

進一步的，如圖7所示，基板承載機構還包括驅動裝置60，驅動裝置60驅動下壓件40向承載件20的承載面201移動。

通過驅動裝置60驅動下壓件40的移動，能夠提高下壓件40移動方向的準確性和移動速度的穩(wěn)定性，降低由于下壓件40向下移動速度過快而可能對待蒸鍍基板30邊緣造成的碰傷或壓傷。

優(yōu)選的，驅動裝置60沿支撐架10的長度方向設置有多個。

例如，如圖8所示，驅動裝置60沿支撐架10的長度方向設置有4個。這樣一來，4個驅動裝置60同時驅動下壓件40的移動，能夠進一步提高下壓件40上各處的受力均一性，以使得下壓件40在向下移動至與待蒸鍍基板30的上表面接觸時為面接觸，從而降低下壓件40在待蒸鍍基板30上的局部壓力過大而導致對待蒸鍍基板30造成壓傷的風險。

需要說明的是，本發(fā)明實施例中對于驅動裝置60的具體選取不做限制，例如使用氣缸、液壓油缸、直線電機等均可，只要能夠實現(xiàn)對下壓件40在直線方向上勻速驅動即可。

進一步的，如圖9所示，基板承載機構還包括拉伸部件70，拉伸部件70連接設置在支撐架10的后端，用于拉動支撐架10向后移動。

如圖9所示，在下壓件40的后端與承載件20的后端固定連接的情況下，在支撐架10的后端連接設置拉伸部件70。其中優(yōu)選的，拉伸部件70可以與驅動裝置60選用相同的器件，例如氣缸、液壓油缸、直線電機等。

這樣一來，在下壓件40的前端下壓以將待蒸鍍基板30壓緊在承載面201上之后，驅動拉伸部件70工作，將支撐架10向后拉動，支撐架10會帶動承載件20以及與承載件20固定連接的下壓件40共同向后移動，此時，夾緊在承載面201和下壓件40與待蒸鍍基板30邊緣相接觸的表面之間的待蒸鍍基板30也隨之受到向后的拉力(如圖9中箭頭所示)，在拉力的作用下，待蒸鍍基板30中心的重力下垂作用力被抵消掉一部分，從而減小了下垂形變的程度。

優(yōu)選的，拉伸部件70沿所述支撐架10的長度方向設置有多個。

如圖10所示，拉伸部件70沿所述支撐架10的長度方向設置有3個。這樣一來，3個拉伸部件70同時驅動支撐架10的移動，能夠進一步提高支撐架10上各處的受力均一性，以使得支撐架10在向后移動的過程中，沿支撐架10的長度方向上的移動速度和移動距離相同，進而使得待蒸鍍基板30的邊緣上各處的受力以及受力后的移動距離相同，提高待蒸鍍基板30的移動精確度。

本發(fā)明實施例的另一方面，提供一種基板承載機構的使用方法，如圖11所示，包括，

S101、將待蒸鍍基板30放置在承載件20上，其中，待蒸鍍基板30的邊緣搭載在承載件20的承載面201上。

S102、向下移動下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊。

這樣一來，首先，將待蒸鍍基板30放置在承載件20上，以使得待蒸鍍基板30的邊緣搭載在承載件20的承載面201上，對待蒸鍍基板30的一側進行支撐。然后，向下移動下壓件40以使得下壓件40對待蒸鍍基板30的邊緣施加向下的壓力并進一步將待蒸鍍基板30的邊緣在承載面201與下壓件40之間壓緊。

如圖9所示，當在待蒸鍍基板30相對的兩個側邊均設置基板承載機構時，待蒸鍍基板30相對的兩側邊緣分別放置在相對設置的基板承載機構的承載面201上，以使得整個待蒸鍍基板30通過兩側邊的支撐而放置于蒸鍍腔室內(nèi)。此時，由于待蒸鍍基板30需要在蒸鍍腔室內(nèi)對其下表面進行蒸鍍，因此，基板承載機構對待蒸鍍基板30的支撐僅能夠施加在待蒸鍍基板30相對的兩邊緣位置(即蒸鍍區(qū)域以外的部分)，中間的蒸鍍區(qū)域部分的待蒸鍍基板30由于重力的原因會產(chǎn)生下垂變形，下垂變形會帶動待蒸鍍基板30邊緣在承載面201上的向前移動。由于下壓件40下壓后能夠將待蒸鍍基板30的邊緣在承載面201與下壓件40之間壓緊，這樣一來，待蒸鍍基板30由于重力作用下垂的力無法拉動待蒸鍍基板30的邊緣在承載面201上的向前移動，從而也就能夠有效的減輕待蒸鍍基板30由于重力作用而在中間的蒸鍍區(qū)域部分產(chǎn)生的下垂變形程度。

進一步的，當下壓件40由彈性材料制成，且下壓件40的后端與承載件20的后端固定連接時，如圖12所示，向下移動下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊包括，向下移動下壓件40的前端將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊；如圖13所示，向下移動下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊之后，使用方法還包括，向后移動拉伸部件70以拉動支撐架10向后移動。

由于下壓件40由彈性材料制成，且下壓件40的后端與承載件20的后端固定連接，因此，在此結構中，向下移動下壓件40將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊即為向下移動下壓件40的前端將待蒸鍍基板30的邊緣壓緊。

這樣一來，如圖9所示，在將待蒸鍍基板30的邊緣在承載面201與下壓件40之間壓緊之后，向后移動拉伸部件70以拉動支撐架10向后移動，能夠對待蒸鍍基板30施加向后的拉力，以使得待蒸鍍基板30的下垂變形量得到一定的恢復。

在上述對于基板承載機構的結構和工作方式的描述中，已經(jīng)對基板承載機構對于待蒸鍍基板30的承載、壓緊和拉伸方法進行了詳細的說明，此處不再贅述。

本發(fā)明實施例的再一方面，提供一種蒸鍍裝置，如圖14所示，包括蒸鍍腔室02，還包括上述任一項的基板承載機構01，基板承載機構01設置有至少一組，其中，每一組設置有兩個，且以相對的方向固定連接在蒸鍍腔室02內(nèi)(其中，基板承載機構01的固定連接方式在圖14中未示出，蒸鍍腔室02內(nèi)設置的其他蒸鍍部件，例如蒸鍍源等均為示出)。

可選的，還可以在蒸鍍腔室02中同一水平方向上設置相互垂直的兩組基板承載機構01，以對待蒸鍍基板30個相互垂直的兩個方向均進行拉伸以減小下垂形變量。兩組基板承載機構01的設置方式在以上實施例中已經(jīng)進行了詳細的說明，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。