本發(fā)明涉及器件加工方法,尤其是一種二維材料的加工方法。
背景技術:
作為一種典型的二維材料,石墨烯在2004年首次被發(fā)現(xiàn)并因為其獨特的性質了引發(fā)人們廣泛而持續(xù)的關注。英國曼徹斯特大學物理學家安德烈?蓋姆和康斯坦丁?諾沃肖洛夫也因為發(fā)現(xiàn)石墨烯而獲得2010年的諾貝爾物理學獎。在石墨烯研究熱潮的帶動下其他二維材料如硫化鉬、氮化硼等也相繼被研發(fā)出來并實現(xiàn)器件化應用,表現(xiàn)出獨特優(yōu)異的器件性能。為了實現(xiàn)二維材料的器件化應用往往需要結合一定的圖形化工藝,實現(xiàn)諸如石墨烯納米帶、納米孔洞等結構,以完成器件制備和性能實現(xiàn)。光刻是一種常用的圖形化方法,但其復雜的工藝流程往往會在二維材料表面引入雜質,從而極大地影響器件性能。激光直寫技術可以避免化學物質的使用和界面污染,但其圖形化制備成本較高,大規(guī)模實現(xiàn)也受制于較低的直寫速率。
技術實現(xiàn)要素:
為了解決現(xiàn)有技術存在的不足,本發(fā)明提供了一種操作簡單、使用方便的實現(xiàn)二維材料圖形化的方法。該方法利用KrF準分子激光器,選用一維或二維位相光柵可分別在二維材料上實現(xiàn)條紋或孔洞結構。該方法不需要復雜的儀器和工藝,操作簡單,且對二維材料具有普適性,可實現(xiàn)二維材料的器件化應用。
本發(fā)明中的一種實現(xiàn)二維材料圖形化的方法,采用儀器包括襯底、二維材料薄膜、位相光柵和激光;襯底是二維材料薄膜的生長或轉移模板,位相光柵是用于產生空間干涉圖形的光學元件,激光為波長248nm的KrF準分子激光;二維材料薄膜為單層石墨烯;實現(xiàn)二維材料圖形化包括如下步驟:
1)將轉移過單層石墨烯材料的二氧化硅/硅襯底放置在操作臺上;
2)將位相光柵放置在樣品上方,根據(jù)需求可選擇一維或二維位相光柵實現(xiàn)石墨烯納米帶或納米孔洞結構;
3)使用激光照射位相光柵和樣品;激光通過位相光柵發(fā)生相干現(xiàn)象形成激光能量的空間分布,照射到石墨烯上實現(xiàn)大規(guī)模的圖形化結構。
作為優(yōu)選,所述襯底材料為硬質襯底或柔性襯底。所述硬質襯底為二氧化硅、硅、藍寶石或玻璃。所述柔性襯底為聚合物膜。
作為優(yōu)選,所述二維材料膜為石墨烯、硫化鉬或氮化硼制成。
本發(fā)明的有益效果:1、采用非接觸方式,快速、大規(guī)模實現(xiàn)二維材料的圖形化,避免復雜流程對二維材料的污染;2、襯底選擇的多樣性。適用于硬質的襯底(如二氧化硅/硅、藍寶石、玻璃等)以及柔性襯底(聚合物膜)等;3、材料選擇的多樣性。可用于實現(xiàn)圖形化的材料包括石墨烯、硫化鉬、氮化硼等二維材料及其他有機、無機薄膜材料。
附圖說明
圖1為一種實現(xiàn)二維材料圖形化的方法的流程示意圖。
圖2為二維材料轉移到襯底上的示意圖。
圖3為一維位相光柵實現(xiàn)的納米帶結構示意圖。
圖4為二維位相光柵實現(xiàn)的納米網(wǎng)結構示意圖。
圖5為條紋狀石墨烯納米帶結構的掃描電子顯微鏡圖像。
圖6為孔洞狀石墨烯納米網(wǎng)結構的掃描電子顯微鏡圖像。
圖中標記:11、襯底,12、二維材料薄膜,13、位相光柵,14、激光,21、襯底,31、襯底。
具體實施方式
下面結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明,但不應將此理解為本發(fā)明的上述主題的范圍僅限于上述實施例。
如圖1-4所示,一種實現(xiàn)二維材料圖形化的方法,采用儀器包括襯底11、二維材料薄膜12、位相光柵13和激光14;襯底11是二維材料薄膜12的生長或轉移模板,位相光柵13是用于產生空間干涉圖形的光學元件,激光14為波長248nm的KrF準分子激光;襯底11材料為二氧化硅或硅,二維材料薄膜12為單層石墨烯;實現(xiàn)二維材料圖形化包括如下步驟:
1)將轉移過單層石墨烯材料的二氧化硅/硅襯底放置在操作臺上;
2)將位相光柵放置在樣品上方,根據(jù)需求可選擇一維或二維位相光柵實現(xiàn)石墨烯納米帶或納米孔洞結構;
3)使用激光照射位相光柵和樣品;激光通過位相光柵發(fā)生相干現(xiàn)象形成激光能量的空間分布,照射到石墨烯上實現(xiàn)大規(guī)模的圖形化結構。
如圖5-6所示,從圖中可以看到大規(guī)模圖形化的條狀納米帶和孔洞狀納米網(wǎng)結構,圖形周期約為2um。
本發(fā)明中實現(xiàn)二維材料圖形化的方法的有益效果:1、采用非接觸方式,快速、大規(guī)模實現(xiàn)二維材料的圖形化,避免復雜流程對二維材料的污染;2、襯底選擇的多樣性。適用于硬質的襯底(如二氧化硅/硅、藍寶石、玻璃等)以及柔性襯底(聚合物膜)等;3、材料選擇的多樣性??捎糜趯崿F(xiàn)圖形化的材料包括石墨烯、硫化鉬、氮化硼等二維材料及其他有機、無機薄膜材料。