技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種防輻射的低熔點(diǎn)高彈性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO2、10.6～15.6%的P2O5、13.4～22.4%的Al2O3、0.1～1%的ZrO2、10.1～15.1%的Na2O、1～5%的K2O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助劑，所述助劑為NaNO3、NaF、CeO2與SnO2的混合物；SiO2與P2O5作為網(wǎng)絡(luò)形成體氧化物，構(gòu)建玻璃網(wǎng)絡(luò)構(gòu)架，P2O5能夠提高玻璃基板在紫外區(qū)域的透過率；Al2O3與ZrO2作為網(wǎng)絡(luò)中間體氧化物，增加玻璃基板的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性，Na2O、K2O、CaO與MgO作為網(wǎng)絡(luò)外體氧化物，改善玻璃性能；助劑能夠在玻璃基板的制造中起到澄清、脫色與助熔的作用；按本發(fā)明原料配比所制得的玻璃基板不僅防輻射，而且具有較高的彈性模量、耐劃傷，能夠在復(fù)雜環(huán)境長期使用，并且由于熔化溫度低，能夠降低生產(chǎn)難度、滿足規(guī)模制造的需求。

技術(shù)研發(fā)人員：彭壽;曹欣
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蚌埠玻璃工業(yè)設(shè)計(jì)研究院;中國建材國際工程集團(tuán)有限公司
文檔號(hào)碼：201611188411
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.21
技術(shù)公布日：2017.05.10