本發(fā)明涉及琺瑯彩陶瓷燒制，具體是指一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法。
背景技術：
1、釉下琺瑯彩是結合了高溫釉下彩陶瓷的制作方式，以錐拱堆雕的方式，和釉上彩的審美特點發(fā)明的一種全新的陶瓷裝飾技法。
2、傳統(tǒng)陶瓷技術的優(yōu)點和缺陷：
3、傳統(tǒng)的高溫釉下彩技術，是在陶瓷坯胎上直接繪畫，然后罩以釉料燒造。優(yōu)點是：第一，高溫(1300以上)燒成的釉層堅固透明，釉水潤澤，富有材質美感，第二，彩料在釉層以下，可以長期保存，耐磨抗氧化，色彩與圖案輪廓可長久保存，數百上千年仍不受侵襲，第三，是高溫1300度燒成的釉層通體罩于器物表面，化學性質穩(wěn)定，沒有有害物質析出，安全可靠，可以用于餐飲用具生產。缺點是：表面平滑，只有平面的色彩圖案，沒有立體的裝飾肌理。
4、傳統(tǒng)的釉上彩技術，是一種釉上彩，先以高溫(1300度)燒造純白無底色坯胎，坯胎燒成后，繪制白描畫稿，再以一種無色的玻璃白料，根據創(chuàng)作意圖，在關鍵部位進行堆填，使陶瓷表面隆起，再使用彩色顏料繪畫，然后以低溫(600-800度)燒制彩料而成，優(yōu)點是色彩種類豐富，圖案的表面有立體凹凸的隆起，不但在視覺上有豐富的美感，在觸感上，也隨著圖案的變化高低起伏，富有多種變化。
5、同時，傳統(tǒng)琺瑯彩技術的缺點是：第一，彩色顏料是以低溫燒成，堅固程度不高，俗稱“軟彩”，極易被外力摩擦損傷；第二，彩色顏料繪畫部分沒有陶瓷釉層保護，礦物彩料長期暴露在空氣中，材料會出現氧化、開裂、變色等現象，難以保持陶瓷藝術品的創(chuàng)作原貌；第三，彩料以上沒有釉層，表面無光澤，干澀暗淡；第四，某些傳統(tǒng)的礦物彩料含有鉛、鎘等重金屬元素，如果用于飲食器具，與酸堿性食品飲料接觸，會出現重金屬析出，造成食品安全問題。
6、傳統(tǒng)的錐拱堆雕技術，是在坯胎燒造前，在陶瓷生坯上用化妝土進行堆雕，以淺浮雕的方式制作，然后罩以透明釉水高溫(1300度)燒造，燒成之后，在器物表面有雕刻出的凹凸有致的紋飾肌理，但堆雕部分的圖案只有留白，沒有彩色裝飾，色彩單一，藝術表現力欠缺色彩的部分。
技術實現思路
1、本發(fā)明要解決的技術問題是，克服以上技術缺陷，提供一種方便操作應用，既有釉上彩的表面肌理又有釉下彩罩以釉層的特點的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法。
2、為解決上述技術問題，本發(fā)明提供的技術方案為：一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，包括以下步驟：步驟1：原料準備，進行拉坯得到瓷坯；步驟2：在瓷坯上貼覆以玻璃白料所屬的釉料；步驟3：在釉料上繪圖得到裝飾花紋圖案；步驟4：調配釉水對瓷坯表面吹制完成吹釉；步驟5：送入窯爐進行燒造；步驟6：維持高溫成瓷。
3、優(yōu)選的，所述步驟1中瓷坯原料為高嶺土，在拉坯完成后進行陰干。
4、優(yōu)選的，所述釉料包括二氧化硅、三氧化二鋁、三氧化二鐵、氧化鎂、氧化鈣、氧化鈉、氧化鉀、二氧化鈦、氧化錳、三氧化硫、氧化銣、五氧化二磷、氧化鋇、三氧化二鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鍶、二氧化鋯、氟、氧化銫的組合物。
5、優(yōu)選的，所述釉料的灼燒減量為3～4％；
6、物質比為二氧化硅68-69％、三氧化二鋁20-21％、三氧化二鐵0-1％、氧化鎂0-1％、氧化鈣1-2％、氧化鈉1-2％、氧化鉀1-2％、二氧化鈦0-1％、氧化錳0-1％、三氧化硫0-1％、氧化銣0-1％、五氧化二磷0-1％、氧化鋇<0.02％、三氧化二鉻<0.005％、氧化鎳<0.002％、氧化銅<0.002％、氧化鍶0-1％、二氧化鋯0-1％、氟0-1％、氧化銫0-1％。
7、優(yōu)選的，所述釉料層厚度大于彩繪所需厚度。
8、優(yōu)選的，所述步驟4中吹釉包括將釉水加入吹釉筒中，向瓷坯表面吹制，直到釉水全面覆蓋瓷坯。
9、優(yōu)選的，所述窯爐溫度大于1300℃。
10、優(yōu)選的，所述陰干溫度為20～25℃至瓷坯表面發(fā)白、質地堅硬。
11、優(yōu)選的，所述釉料原料使用球磨機進行粉碎至一百六十至兩百目。
12、本發(fā)明與現有技術相比的優(yōu)點在于：本發(fā)明結合了傳統(tǒng)釉下彩、釉上彩和錐拱堆雕技術的優(yōu)勢于一體，用堆雕在生坯上塑造雕刻肌理，同時在堵雕部分加彩，然后罩以透明釉層，在1300度高溫下燒制，克服了以往傳統(tǒng)裝飾技法的局限性，令瓷器即有高溫瓷器的安全性，又有凹凸有致的裝飾肌理，在表現五彩斑斕的色彩同時，耐腐蝕、耐氧化，更好的保護了瓷器裝飾圖案的色彩，使用在餐飲器具上，也同時保證了飲食安全問題不再出現，是一種有突破性的創(chuàng)造發(fā)明。
1.一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：包括以下步驟：
2.根據權利要求1所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述步驟1中瓷坯原料為高嶺土，在拉坯完成后進行陰干。
3.根據權利要求1或2所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述釉料包括二氧化硅、三氧化二鋁、三氧化二鐵、氧化鎂、氧化鈣、氧化鈉、氧化鉀、二氧化鈦、氧化錳、三氧化硫、氧化銣、五氧化二磷、氧化鋇、三氧化二鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鍶、二氧化鋯、氟、氧化銫的組合物。
4.根據權利要求3所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述釉料的灼燒減量為3～4％；
5.根據權利要求4所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述釉料層厚度大于彩繪所需厚度。
6.根據權利要求1所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述步驟4中吹釉包括將釉水加入吹釉筒中，向瓷坯表面吹制，直到釉水全面覆蓋瓷坯。
7.根據權利要求1所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述窯爐溫度大于1300℃。
8.根據權利要求2所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述陰干溫度為20～25℃至瓷坯表面發(fā)白、質地堅硬。
9.根據權利要求4所述的一種高溫釉下琺瑯彩陶瓷制作方法，其特征在于：所述釉料原料使用球磨機進行粉碎至一百六十至兩百目。