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一種導(dǎo)模包芯摻雜晶體生長方法與流程

文檔序號:41954830發(fā)布日期:2025-05-16 14:20閱讀:8來源:國知局
一種導(dǎo)模包芯摻雜晶體生長方法與流程

本發(fā)明涉及一種晶體生長領(lǐng)域,具體地說涉及一種導(dǎo)模包芯摻雜晶體生長方法。


背景技術(shù):

1、激光技術(shù)被稱作是20世紀的四項重大發(fā)明之一。激光及激光應(yīng)用技術(shù)是發(fā)展極快的高新技術(shù),激光作為新型光源,具有方向性好、亮度高、單色性好及高能量密度等特點;

2、激光晶體是固體激光器的核心部件。作為產(chǎn)生受激輻射躍遷的工作物質(zhì),激光晶體中的摻雜離子能級結(jié)構(gòu)決定了激光器的波長,基質(zhì)的晶格結(jié)構(gòu)及其宏觀物理、化學(xué)性能決定了激光器的輸出性能。因此,激光晶體在很大程度上影響著固體激光器的發(fā)展,也是激光技術(shù)發(fā)展的核心和基礎(chǔ)。由于固體激光器產(chǎn)生的激光具備波長范圍大,覆蓋從200nm紫外到3μm等波長,能夠?qū)崿F(xiàn)大能量、高功率和高重復(fù)頻率運轉(zhuǎn),峰值功率高,以及使用成本低等方面的特點,固體激光技術(shù)廣泛應(yīng)用于切割、焊接、標刻和雕刻等材料加工、醫(yī)療美容、軍事及科研等領(lǐng)域,是目前應(yīng)用范圍最廣泛、技術(shù)最成熟的激光技術(shù);

3、晶體生長方法有主要以cz法(提拉法),efg法(導(dǎo)模法);在需要高功率、高效率和高光束質(zhì)量的光纖激光器、放大器以及其他光纖通信和傳感系統(tǒng)中需要一種在晶體內(nèi)部不同濃度不同摻雜的晶體,而傳統(tǒng)導(dǎo)模法生長組分單一,無法制備出包芯摻雜晶體。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、針對上述問題,本發(fā)明設(shè)計了一種導(dǎo)模包芯摻雜晶體生長方法,包括s1:將生長原料放入容器內(nèi),將模具與吊桿連接,將吊桿固定到爐膛內(nèi),將模具放置在容器內(nèi);將籽晶固定在籽晶桿一端,所述籽晶桿與伸縮機構(gòu)連接;將籽晶通過籽晶桿位于模具正上方10-30mm處,所述模具設(shè)有柱狀腔體和環(huán)狀腔體,所述柱狀腔體設(shè)置在環(huán)狀腔體的內(nèi)部;

2、所述容器包括第一坩堝、第二坩堝,所述柱狀腔體與第一坩堝內(nèi)腔連通;所述環(huán)狀腔體直接或間接與第二坩堝內(nèi)腔連通;

3、s2:對爐膛內(nèi)抽真空、然后充入惰性氣體;

4、s3:進行排氣處理;

5、s4:將第一坩堝、第二坩堝內(nèi)溫度升高到第一溫度,將第一坩堝、第二坩堝內(nèi)生長原料熔化;

6、s5:通過籽晶桿將籽晶下降到與模具上表面接觸后,再次升溫將坩堝內(nèi)溫度升高到第二溫度,然后通過籽晶桿將籽晶拉升;

7、s6:將籽晶縮徑提拉≥5mm,且籽晶上生長的晶體寬度為籽晶寬度的1/3至1/2時,開始一次降溫,使生長的晶體寬度與模具寬度相同停止降溫,并記錄模具內(nèi)部溫度t1;

8、s7:晶體繼續(xù)生長,等徑后的溫度控制根據(jù)傳感器反饋的數(shù)據(jù)在t1的溫度基礎(chǔ)上調(diào)整,晶體生長結(jié)束后溫度為t2,此時t2+10℃等待10-20min后,將整體晶體脫離模具;

9、s8:降溫后進行退火處理。

10、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果為:通過若干個不同的坩堝能夠?qū)崿F(xiàn)晶體在豎直方向同一分布下的不同濃度摻雜,使晶體濃度可控,通過模具設(shè)有柱狀腔體和環(huán)狀腔體,使柱狀腔體和環(huán)狀腔體與第一坩堝、第二坩堝內(nèi)腔連通,從而制備出包芯摻雜的晶體,能夠控制包芯摻雜的晶體外表面具有低的粗糙度,使泵浦光能夠在包芯摻雜的晶體內(nèi)以較高的強度傳導(dǎo),使泵浦光能夠更有效地被傳輸?shù)焦饫w的核心區(qū)域;包芯摻雜的晶體作為增益介質(zhì),有助于提高激光器的輸出功率和光束質(zhì)量,內(nèi)部的包芯單晶其增益特性使得它能夠在較小的體積內(nèi)產(chǎn)生高功率的激光輸出,通過對爐膛內(nèi)的溫度控制、配合合理的提拉速度、不同濃度的摻雜和模具的設(shè)計,使外部的粗糙度低,提高了晶體的生長質(zhì)量,可以實現(xiàn)高效的光-光轉(zhuǎn)換,從而提高激光器的整體性能。

11、進一步的,所述第一坩堝、第二坩堝的外側(cè)設(shè)置有第一加熱裝置;

12、所述模具包括中心模具、外環(huán)模具和導(dǎo)引模具,所述中心模具部分套設(shè)在外環(huán)模具內(nèi),所述柱狀腔體設(shè)置在中心模具內(nèi),所述環(huán)狀腔體設(shè)置在外環(huán)模具內(nèi);所述導(dǎo)引模具內(nèi)部設(shè)有導(dǎo)引腔體;所述導(dǎo)引腔體與所述環(huán)狀腔體連通;

13、所述導(dǎo)引模具設(shè)有容置空間。

14、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:通過第一加熱裝置為坩堝和晶體生長提供熱量,使導(dǎo)引模具的導(dǎo)引腔體與外環(huán)模具的環(huán)狀腔體連通,柱狀腔體設(shè)置在中心模具內(nèi),中心模具部分套設(shè)在外環(huán)模具內(nèi),使環(huán)狀腔體設(shè)置在柱狀腔體的外部,能夠使晶體外部和內(nèi)部的摻雜濃度不同,從而能夠制備外部粗糙度低的晶體,能夠提高泵浦光的傳導(dǎo)效率。

15、進一步的,所述第一坩堝位于導(dǎo)引模具設(shè)有的容置空間內(nèi);所述中心模具遠離外環(huán)模具一端伸入第一坩堝內(nèi);

16、所述導(dǎo)引模具遠離外環(huán)模具的一端位于第二坩堝內(nèi);

17、所述環(huán)狀腔體通過導(dǎo)引腔體與第二坩堝內(nèi)腔連通。

18、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:通過使導(dǎo)引腔體將坩堝內(nèi)的生長原料引入到環(huán)狀腔體內(nèi),柱狀腔體底部將不同坩堝內(nèi)的生長原料引入到柱狀腔體與籽晶接觸處,從而制備包芯結(jié)構(gòu)的晶體。

19、進一步的,所述第一坩堝、第二坩堝的底部分別設(shè)置有第一坩堝托、第二坩堝托,所述第一坩堝托、第二坩堝托分別連接有第一升降裝置、第二升降裝置;

20、優(yōu)選的,所述柱狀腔體與環(huán)狀腔體的縫隙均為0.1-1mm。

21、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:通過升降裝置調(diào)節(jié)坩堝的升降,使坩堝上升至晶體生長位置,同時能方便更換原料;通過柱狀腔體與環(huán)狀腔體的縫隙均為0.1-1mm,從而使內(nèi)部的包芯單晶直徑小于1mm,其增益特性使得它能夠在較小的體積內(nèi)產(chǎn)生高功率的激光輸出。

22、進一步的,所述吊桿上設(shè)置有導(dǎo)熱環(huán),所述導(dǎo)熱環(huán)設(shè)置有中心孔,所述導(dǎo)熱環(huán)的中心孔位于模具的上方,所述導(dǎo)熱環(huán)設(shè)置在晶體的外側(cè)。

23、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:通過導(dǎo)熱環(huán)能夠?qū)ё呔w生長時散出來的熱量,給晶體生長提供生長驅(qū)動力,同時避免晶體生長長度較長時因外界作用產(chǎn)生晃動的情況,為晶體生長方向提供了限制。

24、進一步,所述籽晶桿上設(shè)置有支撐桿,所述吊桿上設(shè)置有滑軌,所述支撐桿與滑軌滑動配合;

25、所述支撐桿內(nèi)設(shè)置有第二加熱裝置;

26、所述支撐桿與滑軌接觸的一端和遠離模具的一端為隔熱材料。

27、優(yōu)選的,所述支撐桿內(nèi)設(shè)置有熱絲,所述籽晶桿設(shè)置有通道,所述通道內(nèi)設(shè)置有與熱絲連接的電線。

28、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:籽晶桿帶動籽晶上下移動,從而帶動支撐桿上下移動,通過第二加熱裝置能夠控制籽晶周圍的溫度,提高了籽晶帶動晶體生長的驅(qū)動力,提高了晶體的生長質(zhì)量;通過支撐桿與滑軌滑動配合,增加了籽晶桿上下移動的穩(wěn)定性,有利于進一步提高晶體生長的質(zhì)量;通過支撐桿與滑軌接觸的一端和遠離模具的一端為隔熱材料,能夠避免籽晶與晶體接觸的周圍熱量散失。進一步的,所述s1中生長原料為氧化鋁;所述s2中抽真空至10pa以內(nèi),所述惰性氣體為氬氣、氮氣,所述惰性氣體流速為0.5-5l/min;所述s3中排氣處理的氣壓低于1kpa-100kpa時,停止排氣處理;通過加熱裝置將坩堝內(nèi)溫度加熱到2050-2200℃,在2050-2200℃恒溫下保持25-35min。

29、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:通過充入氬氣、氮氣在10pa以下,有效抑制了晶體受熱后的氧化揮發(fā),避免氧化揮發(fā)污染生長原料,避免晶體內(nèi)部產(chǎn)生雜質(zhì),提高了晶體表面的光滑度;通過排氣處理在高溫時帶走配件受熱中揮發(fā)出來的雜質(zhì),進而提高了晶體的質(zhì)量。

30、進一步的,所述s4中升溫到第一溫度升溫時間為4-10h,升溫速率為80-300℃/h,所述第一溫度為2050-2200℃;

31、s4過程中通過第二加熱裝置控制上籽晶周圍溫度為1750-1950℃;

32、所述s5中第二溫度比第一溫度高20-150℃,達到第二溫度后保溫5-60min后通過籽晶桿將籽晶拉升,所述拉升速度為5-100mm/h;

33、s5過程中通過第二加熱裝置控制上籽晶周圍溫度為1800-2000℃。

34、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:溫度到達2050-2200℃,熱對流把坩堝內(nèi)的氧化鋁原料融化變成熔體;通過第二加熱裝置控制上籽晶周圍溫度為1750-1950℃,能夠使籽晶接近熔化溫度,通過籽晶桿將籽晶拉升,提拉晶體進行縮徑,把晶體內(nèi)的氣泡初步釋放出來,避免出現(xiàn)晶體成品鼓泡的現(xiàn)象,提高了晶體的生長質(zhì)量,提高晶體成品的表面光滑度,通過第二加熱裝置控制上籽晶周圍溫度為1800-2000℃,能夠使籽晶接近晶體生長溫度,有利于籽晶拉升晶體。

35、進一步的,所述s6中一次降溫當?shù)慕禍厮俾蕿?-50℃/h;記錄模具內(nèi)部溫度t1;

36、s7:將模具內(nèi)部溫度固定為t1直至晶體結(jié)束后,將整體晶體脫離模具。

37、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:通過縮徑,使晶體慢慢放肩至于模具同樣寬度后進行等徑生長,進入等徑階段后,通過重量傳感器判斷晶體的生長速率,通過控制生長速率的大小完成晶體生長過程,有利于晶體的完善發(fā)育。

38、進一步的,所述s7中晶體結(jié)束后,將坩堝內(nèi)溫度提高9-11℃,然后以拉升速度為1000mm/h通過籽晶桿將晶體拉升并脫離模具;

39、所述s8中晶體脫離模具后,通過加熱裝置進行降溫,在晶體脫離模具時溫度的基礎(chǔ)上降溫180-220℃;

40、降溫后保溫后1-4h,完成退火;退火處理后通過加熱裝置分別以100-400℃/h的降溫速率進行降溫,然后放置10-24h后取出。

41、采用上述進一步技術(shù)方案的有益效果為:在模具內(nèi)部以提拉速度為950-1100mm/h使晶體脫離模具,完成晶體生長,提拉脫離模具后,晶體生長完成開始降溫,降溫后晶體進入退火狀態(tài),冷卻后將晶體取出,能夠控制包芯摻雜的晶體外表面具有低的粗糙度,有助于提高激光器的輸出功率和光束質(zhì)量,包芯摻雜的晶體在光纖激光器中將泵浦光轉(zhuǎn)換為信號光的作用,可以實現(xiàn)高效的光-光轉(zhuǎn)換,從而提高激光器的整體性能。

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