本技術(shù)涉及半導(dǎo)體設(shè)備，尤其涉及一種濕法清洗裝置。

背景技術(shù)：

1、濕法清洗設(shè)備中的刷片機(jī)，在工藝制程里主要使用二氧化碳水對(duì)晶圓表面進(jìn)行沖洗，用于去除晶圓表面的顆粒。但在遇到晶圓表面附著有尺寸較大的顆粒，特別是附著力較強(qiáng)的頑固顆粒時(shí)，則容易被水流沖擊形成線性或扇形分布的圖形缺陷。

2、因此，有必要提供一種新型的濕法清洗裝置以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，提供一種濕法清洗裝置。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

3、本實(shí)用新型提供一種濕法清洗裝置，包括：設(shè)于腔體中的轉(zhuǎn)臺(tái)和圍繞所述轉(zhuǎn)臺(tái)設(shè)置的槽體，以及設(shè)于所述槽體上的超聲振蕩模塊；

4、所述槽體用于裝載循環(huán)流動(dòng)的介質(zhì)液體，并在進(jìn)行清洗工藝之前，使所述介質(zhì)液體的液面上升至將放置在所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部上的處理對(duì)象浸沒(méi)；

5、所述轉(zhuǎn)臺(tái)用于使浸沒(méi)在所述介質(zhì)液體中的所述處理對(duì)象旋轉(zhuǎn)；

6、所述超聲振蕩模塊用于使浸沒(méi)在所述介質(zhì)液體中并旋轉(zhuǎn)的所述處理對(duì)象振動(dòng)。

7、進(jìn)一步地，所述槽體上設(shè)有進(jìn)液口和排液口，所述進(jìn)液口用于向所述槽體中通入所述介質(zhì)液體，所述排液口用于將所述槽體中的所述介質(zhì)液體排出。

8、進(jìn)一步地，所述進(jìn)液口設(shè)于所述槽體的底部上，所述進(jìn)液口上設(shè)有流量控制閥，所述排液口包括設(shè)于所述槽體底部上的第一排液口，和自下而上依次設(shè)于所述槽體側(cè)壁上的第二排液口、第三排液口，所述第一排液口上設(shè)有第一開(kāi)關(guān)閥，所述第二排液口上設(shè)有第二開(kāi)關(guān)閥，所述第三排液口上設(shè)有第三開(kāi)關(guān)閥；其中，待機(jī)時(shí)，所述流量控制閥打開(kāi)，所述第一開(kāi)關(guān)閥關(guān)閉，所述第二開(kāi)關(guān)閥打開(kāi)，用于使通入的所述介質(zhì)液體的液面保持于空置的所述轉(zhuǎn)臺(tái)的頂部以下，進(jìn)行清洗工藝之前，所述流量控制閥打開(kāi)，所述第一開(kāi)關(guān)閥和所述第二開(kāi)關(guān)閥關(guān)閉，所述第三開(kāi)關(guān)閥打開(kāi)，用于使通入的所述介質(zhì)液體的液面上升至將傳送并放置在所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部上的所述處理對(duì)象浸沒(méi)，進(jìn)行清洗工藝時(shí)，所述流量控制閥關(guān)閉，所述第一開(kāi)關(guān)閥和所述第二開(kāi)關(guān)閥打開(kāi)，用于使所述槽體中的所述介質(zhì)液體的液面下降至處于所述轉(zhuǎn)臺(tái)的頂部以下，以對(duì)表面露出的所述處理對(duì)象進(jìn)行清洗。

9、進(jìn)一步地，所述第二排液口設(shè)于所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部以下的所述槽體的側(cè)壁上，所述第三排液口設(shè)于所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部以上的所述槽體的側(cè)壁上，并位于放置有所述處理對(duì)象時(shí)的所述處理對(duì)象表面上方的位置。

10、進(jìn)一步地，還包括防濺罩，所述防濺罩設(shè)于所述腔體中，并圍繞所述轉(zhuǎn)臺(tái)設(shè)置，所述槽體位于所述防濺罩的內(nèi)側(cè)，所述防濺罩的頂部高度高于所述槽體的頂部高度；和/或，所述超聲振蕩模塊包括設(shè)于所述槽體底部的超聲波振蕩器；和/或，所述轉(zhuǎn)臺(tái)的頂部上設(shè)有夾具，用于對(duì)傳送至的所述處理對(duì)象進(jìn)行夾持固定。

11、進(jìn)一步地，沿水平方向，所述防濺罩包括一至多層，且當(dāng)所述防濺罩為多層時(shí)，各層所述防濺罩的頂部高度自內(nèi)向外依次增加。

12、進(jìn)一步地，所述轉(zhuǎn)臺(tái)為升降轉(zhuǎn)臺(tái)，所述升降轉(zhuǎn)臺(tái)用于在進(jìn)行清洗工藝時(shí)升起，使放置的所述處理對(duì)象處于所述槽體的頂部與所述防濺罩的頂部之間。

13、進(jìn)一步地，所述槽體內(nèi)設(shè)有液位傳感器，所述液位傳感器分設(shè)于所述第二排液口的上下兩側(cè)和所述第三排液口的上側(cè)。

14、進(jìn)一步地，所述進(jìn)液口設(shè)有二氧化碳發(fā)生器。

15、進(jìn)一步地，所述槽體內(nèi)設(shè)有水阻計(jì)。

16、由上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型通過(guò)在腔體中設(shè)置圍繞轉(zhuǎn)臺(tái)的槽體，用于在槽體中裝載循環(huán)流動(dòng)的介質(zhì)液體，可在處理對(duì)象(例如晶圓)被傳送至轉(zhuǎn)臺(tái)頂部上進(jìn)行清洗之前，先通過(guò)使介質(zhì)液體的液面上升，將處理對(duì)象的表面浸沒(méi)，并使轉(zhuǎn)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)和超聲振蕩模塊工作，使浸沒(méi)在介質(zhì)液體中并旋轉(zhuǎn)的處理對(duì)象產(chǎn)生振動(dòng)，能夠使處理對(duì)象表面上附著的尺寸較大的顆粒以及附著力較強(qiáng)的頑固顆粒，在超聲振動(dòng)力和介質(zhì)液體浮力的共同作用下，被震碎并浮起而脫離處理對(duì)象，進(jìn)而被循環(huán)流動(dòng)的介質(zhì)液體帶出腔體，從而達(dá)到去除表面顆粒的增強(qiáng)效果，避免了在處理對(duì)象表面上造成線性或扇形分布的圖形缺陷。

技術(shù)特征：

1.一種濕法清洗裝置，其特征在于，包括：設(shè)于腔體中的轉(zhuǎn)臺(tái)和圍繞所述轉(zhuǎn)臺(tái)設(shè)置的槽體，以及設(shè)于所述槽體上的超聲振蕩模塊；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法清洗裝置，其特征在于，所述槽體上設(shè)有進(jìn)液口和排液口，所述進(jìn)液口用于向所述槽體中通入所述介質(zhì)液體，所述排液口用于將所述槽體中的所述介質(zhì)液體排出。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕法清洗裝置，其特征在于，所述進(jìn)液口設(shè)于所述槽體的底部上，所述進(jìn)液口上設(shè)有流量控制閥，所述排液口包括設(shè)于所述槽體底部上的第一排液口，和自下而上依次設(shè)于所述槽體側(cè)壁上的第二排液口、第三排液口，所述第一排液口上設(shè)有第一開(kāi)關(guān)閥，所述第二排液口上設(shè)有第二開(kāi)關(guān)閥，所述第三排液口上設(shè)有第三開(kāi)關(guān)閥；其中，待機(jī)時(shí)，所述流量控制閥打開(kāi)，所述第一開(kāi)關(guān)閥關(guān)閉，所述第二開(kāi)關(guān)閥打開(kāi)，用于使通入的所述介質(zhì)液體的液面保持于空置的所述轉(zhuǎn)臺(tái)的頂部以下，進(jìn)行清洗工藝之前，所述流量控制閥打開(kāi)，所述第一開(kāi)關(guān)閥和所述第二開(kāi)關(guān)閥關(guān)閉，所述第三開(kāi)關(guān)閥打開(kāi)，用于使通入的所述介質(zhì)液體的液面上升至將傳送并放置在所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部上的所述處理對(duì)象浸沒(méi)，進(jìn)行清洗工藝時(shí)，所述流量控制閥關(guān)閉，所述第一開(kāi)關(guān)閥和所述第二開(kāi)關(guān)閥打開(kāi)，用于使所述槽體中的所述介質(zhì)液體的液面下降至處于所述轉(zhuǎn)臺(tái)的頂部以下，以對(duì)表面露出的所述處理對(duì)象進(jìn)行清洗。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕法清洗裝置，其特征在于，所述第二排液口設(shè)于所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部以下的所述槽體的側(cè)壁上，所述第三排液口設(shè)于所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部以上的所述槽體的側(cè)壁上，并位于放置有所述處理對(duì)象時(shí)的所述處理對(duì)象表面上方的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法清洗裝置，其特征在于，還包括防濺罩，所述防濺罩設(shè)于所述腔體中，并圍繞所述轉(zhuǎn)臺(tái)設(shè)置，所述槽體位于所述防濺罩的內(nèi)側(cè)，所述防濺罩的頂部高度高于所述槽體的頂部高度；和/或，所述超聲振蕩模塊包括設(shè)于所述槽體底部的超聲波振蕩器；和/或，所述轉(zhuǎn)臺(tái)的頂部上設(shè)有夾具，用于對(duì)傳送至的所述處理對(duì)象進(jìn)行夾持固定。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濕法清洗裝置，其特征在于，沿水平方向，所述防濺罩包括一至多層，且當(dāng)所述防濺罩為多層時(shí)，各層所述防濺罩的頂部高度自內(nèi)向外依次增加。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濕法清洗裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)臺(tái)為升降轉(zhuǎn)臺(tái)，所述升降轉(zhuǎn)臺(tái)用于在進(jìn)行清洗工藝時(shí)升起，使放置的所述處理對(duì)象處于所述槽體的頂部與所述防濺罩的頂部之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕法清洗裝置，其特征在于，所述槽體內(nèi)設(shè)有液位傳感器，所述液位傳感器分設(shè)于所述第二排液口的上下兩側(cè)和所述第三排液口的上側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濕法清洗裝置，其特征在于，所述進(jìn)液口設(shè)有二氧化碳發(fā)生器。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的濕法清洗裝置，其特征在于，所述槽體內(nèi)設(shè)有水阻計(jì)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種濕法清洗裝置，包括：設(shè)于腔體中的轉(zhuǎn)臺(tái)和圍繞所述轉(zhuǎn)臺(tái)設(shè)置的槽體，以及設(shè)于所述槽體上的超聲振蕩模塊；所述槽體用于裝載循環(huán)流動(dòng)的介質(zhì)液體，并在進(jìn)行清洗工藝之前，使所述介質(zhì)液體的液面上升至將放置在所述轉(zhuǎn)臺(tái)頂部上的處理對(duì)象浸沒(méi)；所述轉(zhuǎn)臺(tái)用于使浸沒(méi)在所述介質(zhì)液體中的所述處理對(duì)象旋轉(zhuǎn)；所述超聲振蕩模塊用于使浸沒(méi)在所述介質(zhì)液體中的所述處理對(duì)象振動(dòng)。本技術(shù)能夠達(dá)到去除表面顆粒的增強(qiáng)效果，避免在處理對(duì)象表面上產(chǎn)生清洗造成的缺陷。

技術(shù)研發(fā)人員：陸叢希
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海集成電路裝備材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240710
技術(shù)公布日：2025/5/15