專利名稱：氣浮式影像測量儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種影像測量儀，具體而言，涉及一種氣浮式導(dǎo)軌的影像測量儀。
背景技術(shù)：
以往影像測量儀所使用的基本都是線性導(dǎo)軌與滑塊的運(yùn)動方式。一方面，在調(diào)節(jié)線性導(dǎo)軌時，需要先找基準(zhǔn)面，以基準(zhǔn)面為參考，千分尺安裝在導(dǎo)軌上，用表頭打大理石工作臺一側(cè)，滑動千分尺，通過一系列的安裝調(diào)試孔來固定導(dǎo)軌，然后調(diào)節(jié)另一條導(dǎo)軌。另一方面，線性導(dǎo)軌定時需要加潤滑油來維護(hù)導(dǎo)軌的正常使用，維護(hù)繁瑣，同時不利于環(huán)保。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的以上問題，提供一種氣浮式影像測量儀，其安裝與調(diào)試方便，只需調(diào)整氣浮塊的位置，氣浮的運(yùn)動方式較線性導(dǎo)軌摩擦力更小，更節(jié)倉泛。為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，達(dá)到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種氣浮式影像測量儀，包括大理石工作臺，該大理石工作臺兩側(cè)活動設(shè)置有第一立柱、第二立柱，所述第一立柱、第二立柱上連接有橫梁，所述橫梁上活動設(shè)置有滑架，所述第一立柱底部連接有氣浮塊支架，所述氣浮塊支架、所述第一立柱底面、所述第一立柱底部側(cè)面分別連接有第一氣浮塊，所述三處第一氣浮塊分別設(shè)置于所述大理石工作臺頂面、所述大理石工作臺側(cè)面、所述大理石工作臺底部的V形導(dǎo)軌內(nèi)；所述第二立柱底部通過第一氣浮塊連接于所述大理石工作臺；所述滑架與所述橫梁的四個接觸面上均設(shè)置有多個第二氣浮塊，所述第二氣浮塊連接于所述滑架上。優(yōu)選的，所述第一立柱底部為氣浮塊側(cè)板，所述氣浮塊側(cè)板由所述第一立柱側(cè)面延伸而出，所述氣浮塊側(cè)板上連接有一對第一氣浮塊，所述氣浮塊側(cè)板底部連接有所述氣浮塊支架，所述氣浮塊支架為彎鉤形，一端連接于所述氣浮塊側(cè)板，另一端向內(nèi)彎折并連接所述第一氣浮塊；所述第一立柱與所述大理石工作臺裝配時，所述氣浮塊支架上的第一氣浮塊設(shè)置于所述V形導(dǎo)軌內(nèi)的斜面上，與所述氣浮塊側(cè)板上的第一氣浮塊、所述第一立柱底面的第一氣浮塊配合，限制了所述第一立柱的五個自由度。優(yōu)選的，所述滑架與所述橫梁接觸的第一面設(shè)置有一對水平排列的第二氣浮塊，所述滑架與所述橫梁接觸的第二面設(shè)置有三個排列為等腰三角形的第二氣浮塊，所述滑架與所述橫梁接觸的第三面設(shè)置有一對豎直排列的第二氣浮塊，所述滑架與所述橫梁接觸的第四面設(shè)置有一單獨(dú)的第二氣浮塊。本發(fā)明的有益效果是I、第一立柱與大理石工作臺之間、滑架與橫梁之間均設(shè)置有氣浮塊，通過合理的布置氣浮塊達(dá)到傳動滑動導(dǎo)軌的功能，同時減小了影像測量儀工作時的運(yùn)動阻力，降低了影像測量儀的能耗。2、氣浮塊在安裝與調(diào)試時，只需先擰緊和固定一側(cè)的氣浮塊，通過調(diào)節(jié)連接氣浮塊的細(xì)牙螺母來調(diào)節(jié)氣浮塊。免去了固定導(dǎo)軌調(diào)試的工序。無論從調(diào)節(jié)的難度，還是調(diào)節(jié)的時間，調(diào)節(jié)的裝備來說，氣浮式影像儀都占有優(yōu)勢。氣浮塊的使用縮減了安裝調(diào)試時間，提高工作效率。3、氣浮塊的使用免去了線性導(dǎo)軌需要潤滑油維護(hù)的工作，更有利于環(huán)保。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。本發(fā)明的具體實(shí)施方式
由以下實(shí)施例及其附圖詳細(xì)給出。


此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中圖I氣浮式影像測量儀總體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2第一立柱結(jié)構(gòu)示意圖；圖3第一立柱與大理石工作臺連接關(guān)系示意圖；
圖4第二氣浮塊布置第一視圖；圖5第二氣浮塊布置第二視圖；圖6第二氣浮塊布置第三視圖。圖中標(biāo)號說明1、大理石工作臺，101、V形導(dǎo)軌，2、橫梁，201、第一面，202、第二面，203、第三面，204、第四面，3、滑架，4、第一立柱，401、氣浮塊側(cè)板，5、第二立柱，6、氣浮塊支架，7、第一氣浮塊,8、第二氣浮塊。
具體實(shí)施例方式下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例，來詳細(xì)說明本發(fā)明。參照圖I所示，一種氣浮式影像測量儀，包括大理石工作臺1，該大理石工作臺I兩側(cè)活動設(shè)置有第一立柱4、第二立柱5，所述第一立柱4、第二立柱5上連接有橫梁2，所述橫梁2上活動設(shè)置有滑架3，所述第一立柱4底部連接有氣浮塊支架6，所述氣浮塊支架6、所述第一立柱4底面、所述第一立柱4底部側(cè)面分別連接有第一氣浮塊7，所述三處第一氣浮塊7分別設(shè)置于所述大理石工作臺I頂面、所述大理石工作臺I側(cè)面、所述大理石工作臺I底部的V形導(dǎo)軌101內(nèi)。所述第二立柱5底部通過第一氣浮塊7連接于所述大理石工作臺I。所述滑架3與所述橫梁2的四個接觸面上均設(shè)置有多個第二氣浮塊8，所述第二氣浮塊8連接于所述滑架3上。參照圖2、圖3所示，優(yōu)選的，所述第一立柱4底部為氣浮塊側(cè)板401，所述氣浮塊側(cè)板401由所述第一立柱4側(cè)面延伸而出，所述氣浮塊側(cè)板401上連接有一對第一氣浮塊7，所述氣浮塊側(cè)板401底部連接有所述氣浮塊支架6，所述氣浮塊支架6為彎鉤形，一端連接于所述氣浮塊側(cè)板401，另一端向內(nèi)彎折并連接所述第一氣浮塊7 ;所述第一立柱4與所述大理石工作臺I裝配時，所述氣浮塊支架6上的第一氣浮塊7設(shè)置于所述V形導(dǎo)軌101內(nèi)的斜面上，與所述氣浮塊側(cè)板401上的第一氣浮塊7、所述第一立柱4底面的第一氣浮塊7配合，限制了所述第一立柱4的五個自由度。
參照圖3至圖6所示，優(yōu)選的，所述滑架3與所述橫梁2接觸的第一面201設(shè)置有一對水平排列的第二氣浮塊8，所述滑架3與所述橫梁2接觸的第二面202設(shè)置有三個排列為等腰三角形的第二氣浮塊8，所述滑架3與所述橫梁2接觸的第三面203設(shè)置有一對豎直排列的第二氣浮塊8，所述滑架3與所述橫梁2接觸的第四面204設(shè)置有一單獨(dú)的第二氣浮塊8。 以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種氣浮式影像測量儀，包括大理石工作臺(I)，該大理石工作臺(I)兩側(cè)活動設(shè)置有第一立柱(4)、第二立柱(5)，所述第一立柱(4)、第二立柱(5)上連接有橫梁(2)，所述橫梁(2)上活動設(shè)置有滑架(3)，其特征在于 所述第一立柱(4)底部連接有氣浮塊支架￠)，所述氣浮塊支架(6)、所述第一立柱(4)底面、所述第一立柱(4)底部側(cè)面分別連接有第一氣浮塊(7)，所述三處第一氣浮塊(7)分別設(shè)置于所述大理石工作臺(I)頂面、所述大理石工作臺(I)側(cè)面、所述大理石工作臺(I)底部的V形導(dǎo)軌(101)內(nèi)； 所述第二立柱(5)底部通過第一氣浮塊(7)連接于所述大理石工作臺(I)； 所述滑架(3)與所述橫梁(2)的四個接觸面上均設(shè)置有多個第二氣浮塊(8)，所述第二氣浮塊(8)連接于所述滑架(3)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的氣浮式影像測量儀，其特征在于所述第一立柱(4)底部為氣浮塊側(cè)板(401)，所述氣浮塊側(cè)板(401)由所述第一立柱⑷側(cè)面延伸而出，所述氣浮塊側(cè)板(401)上連接有一對第一氣浮塊(7)，所述氣浮塊側(cè)板(401)底部連接有所述氣浮塊支架(6)，所述氣浮塊支架(6)為彎鉤形，一端連接于所述氣浮塊側(cè)板(401)，另一端向內(nèi)彎折并連接所述第一氣浮塊(7);所述第一立柱(4)與所述大理石工作臺(I)裝配時，所述氣浮塊支架(6)上的第一氣浮塊(7)設(shè)置于所述V形導(dǎo)軌(101)內(nèi)的斜面上，與所述氣浮塊側(cè)板(401)上的第一氣浮塊(7)、所述第一立柱(4)底面的第一氣浮塊(7)配合，限制了所述第一立柱(4)的五個自由度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的氣浮式影像測量儀，其特征在于所述滑架(3)與所述橫梁(2)接觸的第一面(201)設(shè)置有一對水平排列的第二氣浮塊(8)，所述滑架(3)與所述橫梁(2)接觸的第二面(202)設(shè)置有三個排列為等腰三角形的第二氣浮塊(8)，所述滑架(3)與所述橫梁(2)接觸的第三面(203)設(shè)置有一對豎直排列的第二氣浮塊(8)，所述滑架(3)與所述橫梁(2)接觸的第四面(204)設(shè)置有一單獨(dú)的第二氣浮塊(8);四個面上的所述第二氣浮塊⑶。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種氣浮式影像測量儀，包括大理石工作臺，該大理石工作臺兩側(cè)活動設(shè)置有第一立柱、第二立柱，第一立柱、第二立柱上連接有橫梁，橫梁上活動設(shè)置有滑架，第一立柱底部連接有氣浮塊支架，氣浮塊支架、第一立柱底面、第一立柱底部側(cè)面分別連接有第一氣浮塊，三處第一氣浮塊分別設(shè)置于大理石工作臺頂面、大理石工作臺側(cè)面、大理石工作臺底部的V形導(dǎo)軌內(nèi)；第二立柱底部通過第一氣浮塊連接于大理石工作臺；滑架與橫梁的四個接觸面上均設(shè)置有多個第二氣浮塊，第二氣浮塊連接于滑架上。通過合理的布置氣浮塊達(dá)到傳動滑動導(dǎo)軌的功能，同時減小了影像測量儀工作時的運(yùn)動阻力，降低了影像測量儀的能耗。
文檔編號G01B11/00GK102944172SQ201210419030
公開日2013年2月27日 申請日期2012年10月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月30日
發(fā)明者楊洪濤, 曹建東, 石皋蓮, 鐘克, 黃偉, 荊林輝 申請人:蘇州高瑞實(shí)業(yè)有限公司