本發(fā)明涉及電動(dòng)汽車、電力控制、電機(jī)保護(hù)等領(lǐng)域，尤其是通過減壓及排氣結(jié)構(gòu)來延緩熔體斷開時(shí)間的激勵(lì)熔斷器。

背景技術(shù)：

1、激勵(lì)熔斷器，由控制信號(hào)觸發(fā)動(dòng)作，實(shí)施電路保護(hù)。具有體積小、抗強(qiáng)電流沖擊、動(dòng)作速度快等特點(diǎn)，不僅能在電路短路、嚴(yán)重過載時(shí)起到保護(hù)作用，也能夠在車輛碰撞、涉水等場(chǎng)景中，快速可靠的切斷電流回路，保護(hù)車輛電氣系統(tǒng)安全；依靠故障電流檢測(cè)裝置，既能避免正常過載時(shí)的誤動(dòng)作，如電動(dòng)汽車快充、車輛急加速等，又能保證發(fā)生真實(shí)故障時(shí)迅速切斷電流。

2、目前市場(chǎng)上已經(jīng)存在激勵(lì)熔斷器，并逐漸擴(kuò)大其應(yīng)用領(lǐng)域。普遍結(jié)構(gòu)組成如圖1所示：電子點(diǎn)火裝置101，第一殼體102、密封圈103、活塞104、導(dǎo)電母排105、熔體106、下殼107、熔體保護(hù)殼108、熔體切刀109、滅弧介質(zhì)110組成。電子點(diǎn)火裝置101能夠根據(jù)接收到觸發(fā)信號(hào)動(dòng)作，釋放高壓氣體作為驅(qū)動(dòng)力，可以是氣體發(fā)生裝置。

3、工作原理為：激勵(lì)熔斷器串聯(lián)在電路中，正常工作狀態(tài)時(shí)，電流通過導(dǎo)電母排105流通，激勵(lì)熔斷器可視為一個(gè)載流導(dǎo)體。當(dāng)車輛處于異常工作狀態(tài)需要切斷電路時(shí)，車輛發(fā)送信號(hào)觸發(fā)電子點(diǎn)火裝置101產(chǎn)生高壓氣體，先推動(dòng)活塞104運(yùn)動(dòng)切斷導(dǎo)電母排105薄弱處，形成空氣斷口，后推動(dòng)熔體切刀109，切斷熔體106，實(shí)現(xiàn)完全電氣隔離。當(dāng)故障電流較小時(shí)，在熔體106狹頸處產(chǎn)生的熱量不足以熔斷，依靠熔體切刀109切斷熔體106，切斷過程中產(chǎn)生的電弧，在滅弧介質(zhì)110中消除熄滅；當(dāng)故障電流較大時(shí)，在熔體106狹頸處產(chǎn)生的熱量，使得熔體106迅速熔斷，切斷電流，此時(shí)產(chǎn)生的電弧，隨著熔體切刀109作用于熔體106，熔體106斷口處電弧被拉長(zhǎng)直至熄滅。分別依靠活塞104作用于導(dǎo)電母排105，熔體切刀109作用于熔體106，實(shí)現(xiàn)物理隔離斷口，保證電氣絕緣要求。

4、雖然此激勵(lì)熔斷器相比熱熔熔斷器的分?jǐn)嗫刂朴辛颂岣?，但是也存在以下不足?/p>

5、活塞迅速切斷導(dǎo)電母排，此時(shí)熔體載流并限流，熔體未充分限流的情況下，熔體切刀快速切斷熔體，此時(shí)熔體切刀在電流較大時(shí)動(dòng)作，導(dǎo)致熔體斷口處電弧壓力迅速升高，導(dǎo)致難以分?jǐn)嗷驍嗪蠼^緣差，難以提高產(chǎn)品的分?jǐn)嗌舷?。?dāng)熔體斷開時(shí)產(chǎn)生的電弧壓力大時(shí)，則對(duì)殼體壁厚和材料要求更高，導(dǎo)致產(chǎn)品成本上升，而且為防止高壓氣體、電弧外泄，產(chǎn)品結(jié)構(gòu)和密封性要求更高，增加了設(shè)計(jì)難度和加工成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題，提供一種新型延時(shí)斷開熔體的激勵(lì)熔斷器結(jié)構(gòu)，將活塞分成兩個(gè)獨(dú)立的運(yùn)動(dòng)部，在一個(gè)運(yùn)動(dòng)部上設(shè)置氣流通道，通過活塞的兩個(gè)運(yùn)動(dòng)部的同步位移和相對(duì)位移，延時(shí)氣流通道與電子點(diǎn)火裝置所在腔室連通的時(shí)間，從而實(shí)現(xiàn)延時(shí)斷開熔體，實(shí)現(xiàn)熔體的有效限流后，熔體再斷開，降低電弧壓力，提高了分?jǐn)嚯妷汉头謹(jǐn)嚯娏?，也提升了產(chǎn)品的斷后絕緣性能。

2、為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案是一種延時(shí)斷開熔體的激勵(lì)熔斷器，包括電子點(diǎn)火裝置、活塞、導(dǎo)電母排、限位柱結(jié)構(gòu)、熔斷器結(jié)構(gòu)；所述熔斷器結(jié)構(gòu)包括熔斷器殼體，及填充在所述熔斷器殼體中的滅弧介質(zhì)，以及穿設(shè)在滅弧介質(zhì)中的熔體，所述熔體的兩端伸出所述熔斷器殼體；

3、所述電子點(diǎn)火裝置、活塞設(shè)置于所述導(dǎo)電母排一側(cè)，所述熔斷器結(jié)構(gòu)位于所述導(dǎo)電母排另一側(cè)，且所述熔體與所述導(dǎo)電母排并聯(lián)連接；所述電子點(diǎn)火裝置根據(jù)接收的觸發(fā)信號(hào)動(dòng)作，可驅(qū)動(dòng)所述活塞位移切斷所述導(dǎo)電母排；

4、在所述熔斷器結(jié)構(gòu)上沿著所述活塞位移方向設(shè)置有位移通道，所述位移通道至少一端貫通其所在的所述熔斷器結(jié)構(gòu)的一端，在所述位移通道中設(shè)置有熔體切刀，所述熔體穿過所述位移通道且位于所述熔體切刀位移路徑上；所述活塞包括可相對(duì)位移的第一運(yùn)動(dòng)部和第二運(yùn)動(dòng)部，所述第一運(yùn)動(dòng)部中開設(shè)有貫通沿其位移方向兩端的容置通孔，所述第二運(yùn)動(dòng)部位于所述第一運(yùn)動(dòng)部的所述容置通孔中；

5、所述第二運(yùn)動(dòng)部包括一體連接的限位部和柱狀結(jié)構(gòu)的柱身部，所述柱身部外徑小于所述限位部外徑，在所述第二運(yùn)動(dòng)部的柱身部的外側(cè)面上，沿所述柱身部長(zhǎng)度方向設(shè)置有凸出所述柱身部外側(cè)面的氣流導(dǎo)向筋，沿所述柱身部周長(zhǎng)方向間隔分布有至少兩條所述氣流導(dǎo)向筋，相鄰兩個(gè)所述氣流導(dǎo)向筋之間形成氣流通道；或者，在所述柱身部的外側(cè)面上，沿所述柱身部長(zhǎng)度方向設(shè)置有貫通所述柱身部朝向所述熔斷器結(jié)構(gòu)方向的一端的至少一條長(zhǎng)條狀氣道導(dǎo)向凹槽，所述氣道導(dǎo)向凹槽形成所述氣流通道；

6、初始位置時(shí)，所述第二運(yùn)動(dòng)部的所述限位部封閉所述第一運(yùn)動(dòng)部的所述容置通孔朝向所述電子點(diǎn)火裝置的一端及所述氣流通道；

7、所述限位柱結(jié)構(gòu)固定設(shè)置于所述第二運(yùn)動(dòng)部的位移路徑上，用于阻止所述第二運(yùn)動(dòng)部位移，使所述第一運(yùn)動(dòng)部和所述第二運(yùn)動(dòng)部發(fā)生相對(duì)位移，使所述氣流通道導(dǎo)通，導(dǎo)通的所述氣流通道使所述熔體切刀或所述熔斷器結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電母排方向的一端所在的腔室和所述電子點(diǎn)火裝置驅(qū)動(dòng)力釋放一端所在的腔室連通；

8、當(dāng)所述激勵(lì)熔斷器所在電氣回路發(fā)生過載、短路電流或異常情況時(shí)，所述電子點(diǎn)火裝置根據(jù)接收的觸發(fā)信號(hào)動(dòng)作而釋放高壓氣體，驅(qū)動(dòng)所述第一運(yùn)動(dòng)部和第二運(yùn)動(dòng)部同步位移，所述第一運(yùn)動(dòng)部切斷所述導(dǎo)電母排后，所述限位柱結(jié)構(gòu)阻止所述第二運(yùn)動(dòng)部位移，所述第一運(yùn)動(dòng)部相對(duì)所述第二運(yùn)動(dòng)部位移，所述氣流通道導(dǎo)通；所述電子點(diǎn)火裝置釋放的高壓氣體流過所述氣流通道，驅(qū)動(dòng)所述熔體切刀位移切斷所述熔體，或者驅(qū)動(dòng)所述熔斷器結(jié)構(gòu)位移，使所述熔體切刀切斷所述熔體。

9、優(yōu)選地，沿所述柱身部周長(zhǎng)方向間隔均勻分布有至少若干所述氣流導(dǎo)向筋或若干所述氣道導(dǎo)向凹槽，在所述柱身部周長(zhǎng)方向形成均分分布的所述氣流通道。

10、優(yōu)選地，在所述第二運(yùn)動(dòng)部中也開設(shè)有供所述高壓氣體通過的所述氣流通道，所述氣流通道一端開口位于所述限位部的外側(cè)面，另一端開口位于所述柱身部朝向所述限位柱結(jié)構(gòu)的一端端面，當(dāng)所述限位部封閉所述第一運(yùn)動(dòng)部的所述容置通孔朝向所述電子點(diǎn)火裝置的一端時(shí)，同時(shí)封閉所述氣流通道。

11、優(yōu)選地，在所述第一運(yùn)動(dòng)部朝向所述電子點(diǎn)火裝置方向的所述容置通孔中設(shè)置有限位臺(tái)階；所述第二運(yùn)動(dòng)部的所述限位部設(shè)置在所述限位臺(tái)階上。

12、優(yōu)選地，所述第二運(yùn)動(dòng)部的所述柱身部朝向所述導(dǎo)電母排方向的端面靠近所述第一運(yùn)動(dòng)部的沖擊端設(shè)置，或者，靠近所述第一運(yùn)動(dòng)部中的限位臺(tái)階處設(shè)置。

13、優(yōu)選地，當(dāng)驅(qū)動(dòng)所述熔體切刀位移切斷所述熔體時(shí)，所述熔斷器結(jié)構(gòu)固定設(shè)置，所述熔體切刀與所述導(dǎo)電母排之間設(shè)置有緩沖結(jié)構(gòu)，所述緩沖結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電母排方向的端面所在的腔室可通過所述氣流通道與所述電子點(diǎn)火裝置高壓氣體釋放一端所在的腔室連通；所述熔體切刀朝向所述緩沖結(jié)構(gòu)方向凸出所述位移通道，且所述熔體切刀支撐所述緩沖結(jié)構(gòu)；所述熔體切刀為一組或至少兩組以上，一組所述熔體切刀對(duì)應(yīng)一組所述位移通道設(shè)置，當(dāng)所述熔體切刀為兩組以上時(shí)，所述熔體切刀凸出所述位移通道的長(zhǎng)度相同或不同；所述高壓氣體可通過所述氣流通道驅(qū)動(dòng)所述緩沖結(jié)構(gòu)位移，所述緩沖結(jié)構(gòu)位移驅(qū)動(dòng)所述熔體切刀位移切斷所述熔體，當(dāng)所述熔體切刀為兩組以上時(shí)，所述熔體切刀同時(shí)或先后切斷所述熔體。

14、優(yōu)選地，所述限位柱結(jié)構(gòu)固定設(shè)置于所述緩沖結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電母排的端面一側(cè)，所述限位柱結(jié)構(gòu)中設(shè)置有貫通其兩端的通孔，當(dāng)所述第二運(yùn)動(dòng)部與所述限位柱結(jié)構(gòu)接觸時(shí)，所述氣流通道與所述限位柱結(jié)構(gòu)的通孔連通，使所述緩沖結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電母排的一端所在的空腔與所述電子點(diǎn)火裝置驅(qū)動(dòng)力釋放一端所在的腔室連通，所述高壓氣體可通過所述氣流通道和所述限位柱結(jié)構(gòu)的通孔驅(qū)動(dòng)所述緩沖結(jié)構(gòu)位移。

15、優(yōu)選地，還包括依次拼接的第一殼體、第二殼體、底保護(hù)蓋，所述第二殼體朝向所述導(dǎo)電母排方向的一端以及所述第二殼體朝向所述底保護(hù)蓋方向的另一端分別設(shè)置有容置凹槽；所述電子點(diǎn)火裝置和所述活塞依次設(shè)置于所述第一殼體中，所述導(dǎo)電母排穿設(shè)在所述第一殼體和第二殼體之間；所述緩沖結(jié)構(gòu)、所述熔斷器結(jié)構(gòu)位于所述第二殼體的所述容置凹槽與所述底保護(hù)蓋之間形成的空腔中；所述限位柱結(jié)構(gòu)凸出設(shè)置在所述第二殼體朝向所述導(dǎo)電母排方向的所述容置凹槽的底部，在所述限位柱結(jié)構(gòu)上設(shè)置有貫通所述限位柱結(jié)構(gòu)及所述第二殼體的通孔，通過所述通孔連通所述第二殼體兩端的所述容置凹槽；所述緩沖結(jié)構(gòu)嵌套設(shè)置在所述第二殼體朝向所述底保護(hù)蓋方向的所述容置凹槽的底部上，所述緩沖結(jié)構(gòu)的嵌套部包圍所述限位柱結(jié)構(gòu)的通孔開口端；所述熔斷器結(jié)構(gòu)通過所述底保護(hù)蓋支撐；當(dāng)所述限位柱結(jié)構(gòu)與所述第二運(yùn)動(dòng)部接觸時(shí)，所述第二運(yùn)動(dòng)部上的氣流通道與所述限位柱結(jié)構(gòu)的通孔連通。

16、優(yōu)選地，所述限位柱結(jié)構(gòu)凸出且固定設(shè)置在所述熔斷器結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電母排的一端端面上，所述限位柱結(jié)構(gòu)位于所述緩沖結(jié)構(gòu)朝向所述底保護(hù)蓋方向的端面一側(cè)，所述限位柱結(jié)構(gòu)穿過所述緩沖結(jié)構(gòu)。

17、優(yōu)選地，在所述緩沖結(jié)構(gòu)與導(dǎo)電母排之間設(shè)置阻滯結(jié)構(gòu)，所述阻滯結(jié)構(gòu)位于所述活塞位移路徑上；所述導(dǎo)電母排的需被斷開部分和所述阻滯結(jié)構(gòu)上分別設(shè)置有供所述限位柱結(jié)構(gòu)穿過的通孔，所述阻滯結(jié)構(gòu)阻滯所述第一運(yùn)動(dòng)部斷開所述導(dǎo)電母排后的位移速度，所述第一運(yùn)動(dòng)部斷開所述導(dǎo)電母排后，可驅(qū)動(dòng)所述阻滯結(jié)構(gòu)與所述第一運(yùn)動(dòng)部同步位移；所述限位柱結(jié)構(gòu)穿過所述阻滯結(jié)構(gòu)和所述導(dǎo)電母排斷開部分，所述限位柱結(jié)構(gòu)阻止所述第二運(yùn)動(dòng)部位移，所述阻滯結(jié)構(gòu)上的所述通孔與所述限位柱結(jié)構(gòu)之間保留供氣體流過的空隙；所述第一運(yùn)動(dòng)部繼續(xù)驅(qū)動(dòng)所述阻滯結(jié)構(gòu)和所述導(dǎo)電母排斷開部分位移至終止位置，使所述第一運(yùn)動(dòng)部和所述第二運(yùn)動(dòng)部相對(duì)位移，使所述氣流通道導(dǎo)通，使所述高壓氣體通過所述氣流通道、所述限位柱結(jié)構(gòu)與所述阻滯結(jié)構(gòu)之間的間隙驅(qū)動(dòng)所述緩沖結(jié)構(gòu)位移。

18、優(yōu)選地，還包括依次拼接的上蓋、第一殼體、第二殼體、底保護(hù)蓋；所述電子點(diǎn)火裝置設(shè)置在所述上蓋上，所述活塞設(shè)置在所述第一殼體中，所述導(dǎo)電母排穿設(shè)在所述第一殼體和第二殼體之間，所述緩沖結(jié)構(gòu)和所述熔斷器結(jié)構(gòu)位于所述第二殼體中；所述第二殼體中朝向所述底保護(hù)蓋方向凸出設(shè)置有導(dǎo)向凸臺(tái)，在所述導(dǎo)向凸臺(tái)上開設(shè)有貫穿所述導(dǎo)向凸臺(tái)和所述第二殼體朝向所述導(dǎo)電母排一端的通孔；所述阻滯結(jié)構(gòu)以緊密配合的方式設(shè)置在所述導(dǎo)向凸臺(tái)的通孔中；所述緩沖結(jié)構(gòu)嵌套設(shè)置在所述導(dǎo)向凸臺(tái)朝向所述底保護(hù)蓋方向的一端的外周；所述限位柱結(jié)構(gòu)凸出設(shè)置在所述熔斷器結(jié)構(gòu)朝向所述緩沖結(jié)構(gòu)方向的端面上；所述阻滯結(jié)構(gòu)的所述通孔對(duì)應(yīng)所述導(dǎo)電母排斷開部分的相對(duì)兩側(cè)分別設(shè)置有限位凸臺(tái)；當(dāng)所述第一運(yùn)動(dòng)部斷開所述導(dǎo)電母排，所述第一運(yùn)動(dòng)部驅(qū)動(dòng)所述導(dǎo)電母排斷開部分和所述第二運(yùn)動(dòng)部同步位移，直至所述氣流通道與所述緩沖結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電母排方向的端面所在的腔室連通。

19、優(yōu)選地，所述阻滯結(jié)構(gòu)包括鏤空的支撐端面和阻滯結(jié)構(gòu)主體，在阻滯結(jié)構(gòu)主體上開設(shè)有所述通孔，所述支撐端面一體連接在所述通孔中，所述支撐端面與所述通孔連接處為斷開薄弱處；初始位置時(shí)，所述限位柱結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電母排的一端支撐在所述支撐端面處；當(dāng)所述阻滯結(jié)構(gòu)受到所述第一運(yùn)動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)時(shí)，所述限位柱結(jié)構(gòu)使所述支撐端面從與所述通孔連接的斷開薄弱處斷開，所述限位柱結(jié)構(gòu)帶著所述支撐端面穿過所述阻滯結(jié)構(gòu)主體上的所述通孔與所述第二運(yùn)動(dòng)部接觸。

20、優(yōu)選地，所述緩沖結(jié)構(gòu)上設(shè)置有氣流緩沖腔室，當(dāng)所述第一運(yùn)動(dòng)部和第二運(yùn)動(dòng)部相對(duì)位移且所述氣流通道導(dǎo)通時(shí)，所述緩沖結(jié)構(gòu)的氣流緩沖腔室與所述氣流通道連通。

21、優(yōu)選地，當(dāng)驅(qū)動(dòng)所述熔斷器結(jié)構(gòu)位移時(shí)，位于所述熔斷器結(jié)構(gòu)與所述導(dǎo)電母排之間的所述熔體部分呈折彎設(shè)置；所述限位柱結(jié)構(gòu)一端固定設(shè)置在所述熔斷器結(jié)構(gòu)和所述導(dǎo)電母排之間；所述熔體切刀遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電母排的一端凸出所述位移通道設(shè)置；所述熔體切刀為一組或至少兩組以上，一組所述熔體切刀對(duì)應(yīng)一組所述位移通道設(shè)置，當(dāng)所述熔體切刀為兩組以上時(shí)，所述熔體切刀凸出所述位移通道的長(zhǎng)度相同或不同；當(dāng)所述熔斷器結(jié)構(gòu)位移時(shí)，所述熔體切刀先到達(dá)終止位置，所述熔斷器結(jié)構(gòu)后到達(dá)終止位置，所述熔斷器結(jié)構(gòu)與所述熔體切刀間發(fā)生相對(duì)位移，使所述熔體切刀同時(shí)切斷所述熔體或先后切斷所述熔體。

22、優(yōu)選地，還包括依次拼接的上蓋、第一殼體、第二殼體、底保護(hù)蓋；所述電子點(diǎn)火裝置設(shè)置在所述上蓋上，所述活塞設(shè)置在所述第一殼體中，所述導(dǎo)電母排穿設(shè)在所述第一殼體和第二殼體之間，所述第二殼體兩端貫通，所述熔斷器結(jié)構(gòu)位于所述第二殼體中且與所述底保護(hù)蓋之間保留有供所述熔斷器結(jié)構(gòu)位移的位移距離；在所述第二殼體朝向所述導(dǎo)電母排的一端設(shè)置有封閉所述第二殼體端部的導(dǎo)向蓋板；所述導(dǎo)向蓋板朝向所述導(dǎo)電母排的一端端面上開設(shè)有正對(duì)所述導(dǎo)電母排需被斷開部分的容置凹槽，在所述容置凹槽底部正對(duì)所述第二運(yùn)動(dòng)部設(shè)置有所述限位柱結(jié)構(gòu)，所述限位柱結(jié)構(gòu)朝向所述活塞對(duì)的一端穿過所述導(dǎo)電母排位于所述第一殼體中；所述限位柱結(jié)構(gòu)上開設(shè)有貫通所述限位柱結(jié)構(gòu)及所述導(dǎo)向蓋板的通孔，通過限位柱結(jié)構(gòu)上的通孔連通所述導(dǎo)向蓋板兩端所在的空腔；在所述限位柱結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)所述導(dǎo)電母排需被斷開部分的相對(duì)兩側(cè)的所述容置凹槽底部分別設(shè)置有承接所述導(dǎo)電母排斷開部分的限位凸臺(tái)；所述熔斷器結(jié)構(gòu)位于所述導(dǎo)向蓋板與所述底保護(hù)蓋之間，且阻隔所述底保護(hù)蓋所在空腔與所述導(dǎo)向蓋板所在導(dǎo)電空腔連通；所述熔體切刀朝向所述底保護(hù)蓋方向凸出所述位移通道；

23、當(dāng)所述活塞位移時(shí)，所述第一運(yùn)動(dòng)部和所述第二運(yùn)動(dòng)部同步位移，直至所述第一運(yùn)動(dòng)部切斷所述導(dǎo)電母排后，所述第二運(yùn)動(dòng)部與所述限位柱結(jié)構(gòu)接觸停止位移，所述第一運(yùn)動(dòng)部相對(duì)所述第二運(yùn)動(dòng)部位移直至所述第一運(yùn)動(dòng)部驅(qū)動(dòng)所述導(dǎo)電母排斷開部分至所述導(dǎo)電蓋板的所述限位凸臺(tái)處；當(dāng)所述第一運(yùn)動(dòng)部和所述第二運(yùn)動(dòng)部發(fā)生相對(duì)位移后，所述氣流通道導(dǎo)通，所述高壓氣體通過所述氣流通道及所述限位柱結(jié)構(gòu)的通孔進(jìn)入所述熔斷器結(jié)構(gòu)朝向所述導(dǎo)電蓋板一端所在的空腔中，驅(qū)動(dòng)所述熔斷器結(jié)構(gòu)位移，使所述熔體切刀先接觸所述底保護(hù)蓋，所述熔斷器結(jié)構(gòu)后接觸底保護(hù)蓋，使所述熔體切刀斷開所述熔體。

24、優(yōu)選地，所述第二殼體朝向所述導(dǎo)電母排的一端設(shè)置有導(dǎo)向凸臺(tái)，所述導(dǎo)向凸臺(tái)朝向所述熔斷器結(jié)構(gòu)方向凸出，在所述導(dǎo)向凸臺(tái)上開設(shè)有貫通所述導(dǎo)向凸臺(tái)且供活塞及導(dǎo)電母排斷開部分位移的通孔；所述導(dǎo)向蓋板嵌套設(shè)置在所述導(dǎo)向凸臺(tái)朝向所述熔斷器結(jié)構(gòu)方向一端，所述導(dǎo)向蓋板上的所述限位柱結(jié)構(gòu)以及所述限位凸臺(tái)位于所述導(dǎo)向凸臺(tái)的所述通孔中。

25、優(yōu)選地，在所述第二殼體與所述底保護(hù)蓋之間設(shè)置有絕緣緩沖墊，所述絕緣緩沖貼合所述底保護(hù)蓋設(shè)置。

26、本發(fā)明的延時(shí)斷開熔體的激勵(lì)熔斷器，通過活塞的第一運(yùn)動(dòng)部和第二運(yùn)動(dòng)部的同步位移和相對(duì)位移，控制設(shè)置在第二運(yùn)動(dòng)部上的氣流通道與電子點(diǎn)火裝置高壓氣體釋放一端所在空腔斷開或連通，延時(shí)斷開熔體，使熔體在斷開前充分有效限流，降低熔體斷開時(shí)的電弧壓力，提高分?jǐn)嗄芰Α?/p>

27、通過增加緩沖結(jié)構(gòu)，且在緩沖結(jié)構(gòu)中設(shè)置凹槽形成氣流緩沖腔室，增加壓力氣體所在空腔體積，使其氣體壓力降低，從而降低施加的驅(qū)動(dòng)力，使位移速度降低，從而進(jìn)一步延斷開熔體時(shí)間。

28、通過增加阻滯第一運(yùn)動(dòng)部的阻滯結(jié)構(gòu)，降低第一運(yùn)動(dòng)部位移速度，延長(zhǎng)氣流通道的暴露時(shí)間，結(jié)合緩沖結(jié)構(gòu)的氣流緩沖腔室，進(jìn)一步延長(zhǎng)熔體斷開時(shí)間。

29、通過增加熔斷器結(jié)構(gòu)的熔體上蓋的凹槽結(jié)構(gòu)，增加壓力氣體所在腔室的體積，使其氣體壓力降低，從而降低施加的驅(qū)動(dòng)力，使位移速度降低，從而進(jìn)一步延斷開熔體時(shí)間。

30、通過熔斷器結(jié)構(gòu)的位移距離，以及熔體切刀位移距離，進(jìn)一步延長(zhǎng)斷開熔體的時(shí)間。

31、本發(fā)明的激勵(lì)熔斷器結(jié)構(gòu)，通過延長(zhǎng)熔體斷開時(shí)間，降低熔體斷開時(shí)的電弧壓力，從而降低對(duì)殼體壁厚和材料要求，降低生產(chǎn)成本；經(jīng)過降壓，高壓氣體變?yōu)橹袎簹怏w、低壓氣體，可以以降低針對(duì)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)和密封性要求，降低列設(shè)計(jì)難度和加工難度，從而降低加工成本。