專利名稱：多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及多晶硅生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻 裝置。
背景技術(shù)：
生產(chǎn)多晶硅的整個(gè)系統(tǒng)中，多晶硅氫還原爐是心臟設(shè)備。在生產(chǎn)過程中，在
多晶硅氫還原爐中還原生成多晶硅是在一個(gè)較高的溫度條件U08(TC)下反應(yīng)進(jìn) 行的，進(jìn)爐氣體在進(jìn)爐之前通過高效板式換熱器與尾氣換熱，進(jìn)入多晶硅氫還原 爐后又被硅棒加熱，其尾氣溫度很高(55(TC—65(TC)，導(dǎo)致出氣管道溫度相應(yīng)增 高(550—65(TC)，因此需要對(duì)出氣管進(jìn)行冷卻。
現(xiàn)在的工藝過程， 一般是采用冷水對(duì)尾氣進(jìn)行冷卻。冷卻水套中存在有焊縫， 一旦有水通過焊縫泄漏侵入到整個(gè)生產(chǎn)系統(tǒng)中，則會(huì)給系統(tǒng)帶來極大危害，堵塞 管道、影響水質(zhì)、產(chǎn)量及質(zhì)量降低，導(dǎo)致停產(chǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型為解決上述問題，提供了一種多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻 裝置，可以在安全的前提下達(dá)到良好的冷卻效果，并且可以使多晶硅氫還原爐運(yùn) 行穩(wěn)定高效。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下
多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置，其特征在于出氣管外部設(shè)置有壓 縮空氣來源裝置和空氣通風(fēng)管道，壓縮空氣來源裝置和空氣通風(fēng)管道固定連接， 所述空氣通風(fēng)管道上設(shè)置有輸出空氣的出氣孔。
所述壓縮空氣來源裝置為高壓風(fēng)機(jī)，或者壓縮空氣站。
所述壓縮空氣來源裝置的出口設(shè)置有調(diào)節(jié)空氣流量的自動(dòng)調(diào)節(jié)閥門，根據(jù)尾 氣管溫度進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)控制空氣流量。
所述空氣通風(fēng)管道可以為空氣盤管，也可以為與出氣管平行的直管。 本實(shí)用新型的工作原理為
當(dāng)多晶硅氫還原爐的出氣管被加熱后需要被冷卻時(shí)，首先打開壓縮空氣來源裝置的自動(dòng)調(diào)節(jié)閥門，溫度為20'C左右、壓力為0.8Mpa左右的空氣通過空氣盤管 或直管送氣，通過出氣孔輸出到出氣管外部；由于空氣溫度大大低于出氣管，因 此與出氣管換熱帶走熱量，使出氣管的溫度冷卻到4(TC左右，從而達(dá)到了降溫冷 卻目的。
空氣采用壓縮空氣，每小時(shí)在100立方米左右，即使尾氣有輕微的泄漏也可 被空氣稀釋帶走，進(jìn)行置換，從而避免尾氣管道在水冷卻情況下泄漏滲入系統(tǒng)中， 避免物料水解堵塞管道等。
本實(shí)用新型的有益效果如下
該裝置可以達(dá)到良好的冷卻效果，可以使多晶硅氫還原爐運(yùn)行十分穩(wěn)定正常， 安全高效；結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便安全。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖具體實(shí)施方式
多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置，5為還原爐裙座，出氣管l外部設(shè)置 有壓縮空氣來源裝置2和空氣通風(fēng)管道3，壓縮空氣來源裝置2和空氣通風(fēng)管道3 固定連接，所述空氣通風(fēng)管道3上設(shè)置有輸出空氣的出氣孔4。
所述壓縮空氣來源裝置2為高壓風(fēng)機(jī)，或者壓縮空氣站。
所述壓縮空氣來源裝置2的出口設(shè)置有調(diào)節(jié)空氣流量的自動(dòng)調(diào)節(jié)閥門，根據(jù) 尾氣管溫度進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)控制空氣流量。
所述空氣通風(fēng)管道3可以為空氣盤管，也可以為與出氣管平行的直管。
本實(shí)用新型的工作原理為
當(dāng)多晶硅氫還原爐的出氣管被加熱后需要被冷卻時(shí)，首先打開壓縮空氣來源 裝置的自動(dòng)調(diào)節(jié)閥門，溫度為2CTC左右、壓力為0.8Mpa左右的空氣通過空氣盤管 或直管送氣，通過出氣孔輸出到出氣管外部；由于空氣溫度大大低于出氣管，因 此與出氣管換熱帶走熱量，使出氣管的溫度冷卻到4(TC左右，從而達(dá)到了降溫冷 卻目的。
空氣采用為壓縮空氣，每小時(shí)在100立方米左右，即使尾氣有輕微的泄漏也 可被空氣稀釋帶走，進(jìn)行置換，從而避免尾氣管道在水冷卻情況下泄漏滲入系統(tǒng) 中，避免物料水解堵塞管道等。
權(quán)利要求1、多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置，其特征在于出氣管(1)外部設(shè)置有壓縮空氣來源裝置(2)和空氣通風(fēng)管道(3)，壓縮空氣來源裝置(2)和空氣通風(fēng)管道(3)固定連接，所述空氣通風(fēng)管道(3)上設(shè)置有輸出空氣的出氣孔(4)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置，其特征在于:所述壓縮空氣來源裝置(1)為高壓風(fēng)機(jī)，或者壓縮空氣站。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置，其特征在于所述壓縮空氣來源裝置(1)的出口設(shè)置有調(diào)節(jié)空氣流量的自動(dòng)調(diào)節(jié)闊門。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置，其特征在于所述空氣通風(fēng)管道(3)為空氣盤管，或者是與出氣管平行的直管。
專利摘要本實(shí)用新型公開了多晶硅氫還原爐出氣管的空氣冷卻裝置，其特征在于出氣管外部設(shè)置有壓縮空氣來源裝置和空氣通風(fēng)管道，壓縮空氣來源裝置和空氣通風(fēng)管道固定連接，所述空氣通風(fēng)管道上設(shè)置有輸出空氣的出氣孔；該裝置可以達(dá)到良好的冷卻效果，可以使多晶硅氫還原爐運(yùn)行十分穩(wěn)定正常，安全高效；結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便安全。
文檔編號(hào)C30B29/06GK201305656SQ20082022284
公開日2009年9月9日 申請(qǐng)日期2008年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月24日
發(fā)明者戴自忠, 涂大勇 申請(qǐng)人:四川永祥多晶硅有限公司