本發(fā)明涉及一種超聲設(shè)備聲場(chǎng)快速校準(zhǔn)方法,尤其是涉及一種醫(yī)用超聲設(shè)備專用的聲場(chǎng)快速校準(zhǔn)裝置的校準(zhǔn)方法。
背景技術(shù):
在高強(qiáng)度聚焦超聲治療中,病灶點(diǎn)處的溫度能達(dá)到60℃-90℃,而正常組織對(duì)熱的耐受性一般不超過(guò)45℃,最高不超過(guò)46℃,這就要求對(duì)焦域的形狀和位置有精確的控制。HIFU技術(shù)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)就是對(duì)各陣元的發(fā)射的超聲束的相位進(jìn)行精確控制,即能夠考慮到人體結(jié)構(gòu)不均勻性的前提下,對(duì)人體內(nèi)病灶組織實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)定位。臨床發(fā)現(xiàn)由于人體組織的非均一性,當(dāng)病灶點(diǎn)較深時(shí)超聲束的聚焦效果不是很精確,病灶靶區(qū)周圍的超聲束傳播方向會(huì)發(fā)生非線性變化,導(dǎo)致病灶靶區(qū)周圍溫度場(chǎng)分布變化,也就是說(shuō)超聲束沒(méi)有聚焦到病灶靶區(qū),實(shí)際的聚焦點(diǎn)發(fā)生了偏移或者散焦(沒(méi)有形成聚焦點(diǎn),而是形成一個(gè)很大的聚焦區(qū)域),也就是說(shuō)焦域沒(méi)有在病灶點(diǎn)處,或焦域的體積比較大。這樣的結(jié)果往往會(huì)導(dǎo)致腫瘤不能得到徹底消除,同時(shí)很可能對(duì)靶區(qū)周圍的正常人體組織產(chǎn)生不必要的損傷。
由此可見(jiàn),超聲聚焦的焦域具體大小的精確測(cè)量就顯得至關(guān)重要,同時(shí)隨著HIFU在醫(yī)學(xué)治療的廣泛應(yīng)用,使用者對(duì)于HIFU聲場(chǎng)的要求也日益提高。使用者希望HIFU發(fā)射的能量集中,不隨時(shí)間變化而出現(xiàn)大的散射,也希望設(shè)備的移動(dòng)精度、頻率精度以及場(chǎng)強(qiáng)精度不出現(xiàn)大的漂移,以確保使用者在進(jìn)行高精度的手術(shù)時(shí),使患者的創(chuàng)傷更小,降低手術(shù)的危險(xiǎn)系數(shù),減少患者的痛苦。所以,醫(yī)院機(jī)構(gòu)會(huì)對(duì)HIFU設(shè)備進(jìn)行周期性的檢定校準(zhǔn)。
目前校準(zhǔn)高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備的方法是按照國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)來(lái)進(jìn)行測(cè)量的。國(guó)標(biāo)規(guī)定HIFU聲場(chǎng)參數(shù)測(cè)量采用水聽(tīng)器法,測(cè)定聲場(chǎng)中的聲壓波形及其空間分布,再導(dǎo)出相應(yīng)的聲強(qiáng)和相關(guān)參數(shù)。依據(jù)測(cè)得的聲場(chǎng)中聲壓分布,確定聲場(chǎng)的聲聚焦的幾何參數(shù)。該方法測(cè)量精度高,但是測(cè)量方法復(fù)雜、測(cè)量周期長(zhǎng),對(duì)測(cè)量系統(tǒng)的要求也高,無(wú)法滿足對(duì)高強(qiáng)度聚焦超聲系統(tǒng)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的要求。而且在測(cè)量過(guò)程中,由于水聽(tīng)器置身于聲場(chǎng)中,其周圍容易產(chǎn)生聲空化等非線性效應(yīng)的現(xiàn)象,容易損害光纖水聽(tīng)器,并且加大了測(cè)量的不確定度。
隨著HIFU在醫(yī)學(xué)治療的廣泛應(yīng)用,人們對(duì)于HIFU設(shè)備的要求也越來(lái)越高?,F(xiàn)有市場(chǎng)在對(duì)HIFU設(shè)備的聲場(chǎng)進(jìn)行校準(zhǔn)時(shí),通常參照國(guó)標(biāo)GB/T 19890-2005。該方法干擾因素多,而且測(cè)量過(guò)程復(fù)雜,測(cè)量周期長(zhǎng),不適合做實(shí)時(shí)校準(zhǔn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)背景技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種在線快速校準(zhǔn)醫(yī)療超聲設(shè)備聲場(chǎng)的方案,用于在線快速校準(zhǔn)HIFU聲場(chǎng),以便實(shí)時(shí)保證HIFU的精度以及安全性。
本發(fā)明用支架將待測(cè)的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備固定在水槽上部,并在水槽底部放置吸聲材料;在水槽的一側(cè),固定超聲校準(zhǔn)用背景圖像以及光源,背景圖像緊貼水槽壁,光源放置在背景圖像后側(cè);在水槽另一側(cè)架設(shè)工業(yè)攝像機(jī),工業(yè)攝像機(jī)上加裝光學(xué)鏡頭;工業(yè)攝像機(jī)通過(guò)數(shù)據(jù)傳輸線連接圖像處理設(shè)備,圖像處理設(shè)備連接輸出設(shè)備;工業(yè)攝像機(jī)在調(diào)整好相應(yīng)距離后即對(duì)背景圖案上進(jìn)行拍攝,然后圖像處理設(shè)備根據(jù)所得到的圖像進(jìn)行處理,最終得到高強(qiáng)度聚焦超聲換能器聚焦聲場(chǎng)的焦域半徑、焦域面積。
本發(fā)明的有益效果:
本發(fā)明可以有效提高HIFU設(shè)備的校準(zhǔn)速度,使醫(yī)護(hù)人員能夠?qū)⒏邚?qiáng)度聚焦超聲儀的質(zhì)量納入日常管控,降低因HIFU設(shè)備故障而引起的手術(shù)二次創(chuàng)傷的風(fēng)險(xiǎn),減小因手術(shù)而給患者帶來(lái)的不可避免的傷口,提高HIFU治療的水平,給醫(yī)院帶來(lái)優(yōu)良的口碑,也最終給醫(yī)院帶來(lái)巨大的經(jīng)濟(jì)效益,提高醫(yī)院HIFU治療的競(jìng)爭(zhēng)力。
另外,本發(fā)明也可以降低相關(guān)機(jī)構(gòu)對(duì)HIFU校準(zhǔn)人員的專業(yè)要求,使得HIFU校準(zhǔn)更便捷更高效。同時(shí)也減少了相關(guān)機(jī)構(gòu)對(duì)HIFU校準(zhǔn)人員的培訓(xùn)支出。
該方法還可以應(yīng)用到其他超聲儀器聲場(chǎng)的測(cè)量上,比如醫(yī)用超聲診斷儀、超聲多普勒胎兒監(jiān)護(hù)儀、超聲多普勒診斷儀、超聲刀等超聲設(shè)備,有效提高了醫(yī)療超聲設(shè)備的安全性與精準(zhǔn)性。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明原理圖。
①工業(yè)攝像機(jī)②光學(xué)鏡頭③待測(cè)的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備④超聲設(shè)備的支架⑤光源⑥超聲校準(zhǔn)用背景圖像⑦水槽⑧吸聲材料⑨底座⑩圖像處理設(shè)備?輸出設(shè)備。
圖2為本發(fā)明圖像算法流程圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。
如圖1所示,一種超聲設(shè)備聲場(chǎng)快速校準(zhǔn)裝置,包括工業(yè)攝像機(jī)①、光學(xué)鏡頭②、圖像處理設(shè)備⑩、輸出設(shè)備?、超聲校準(zhǔn)用背景圖像⑥、光源⑤、水槽⑦、吸聲材料⑧、支架④、底座⑨。
本發(fā)明將待測(cè)的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備③用相應(yīng)的支架固定在水槽上部,并在水槽底部放置吸聲材料。在水槽的一側(cè),固定超聲校準(zhǔn)用背景圖像以及光源,背景圖像緊貼水槽壁,光源放置在背景圖像后側(cè);在水槽另一側(cè)架設(shè)工業(yè)攝像機(jī),工業(yè)攝像機(jī)用相應(yīng)的支架支撐,工業(yè)攝像機(jī)上加裝光學(xué)鏡頭。工業(yè)攝像機(jī)通過(guò)數(shù)據(jù)傳輸線連接圖像處理設(shè)備,圖像處理設(shè)備連接輸出設(shè)備。
本發(fā)明的校準(zhǔn)原理是:當(dāng)液體中存在超聲時(shí),受超聲壓縮作用部分的液體密度會(huì)變大,受伸張作用部分的密度會(huì)變小。又因?yàn)橐后w的折射率和它的密度直接相關(guān),所以在有密度變化的液體里,光束的傳播方向就發(fā)生了彎曲,進(jìn)而使得工業(yè)攝像機(jī)拍攝到的背景圖案扭曲。
本發(fā)明用支架將待測(cè)的高強(qiáng)度聚焦超聲設(shè)備用相應(yīng)的支架固定在水槽上部,并在水槽底部放置吸聲材料,以免聲場(chǎng)在底部發(fā)生反射,造成聲場(chǎng)的疊加。在水槽的一側(cè),緊貼超聲校準(zhǔn)用背景圖像,在另一側(cè)架設(shè)工業(yè)攝像機(jī),工業(yè)攝像機(jī)用相應(yīng)的支架支撐。工業(yè)攝像機(jī)通過(guò)數(shù)據(jù)傳輸線連接圖像處理設(shè)備,在調(diào)整好相應(yīng)距離后即可對(duì)背景圖案上進(jìn)行拍攝,然后圖像處理設(shè)備根據(jù)所得到的圖像進(jìn)行圖像的算法研究,最終可以得到高強(qiáng)度聚焦超聲換能器聚焦聲場(chǎng)的焦域半徑、焦域面積。圖像處理設(shè)備連接輸出設(shè)備,用于顯示或者輸出檢測(cè)結(jié)果。
所述的圖像算法具體見(jiàn)圖2:
1、將有聲場(chǎng)的原始圖像灰度化,得到圖像I1。
2、用OSTU閾值分割法將圖像I1進(jìn)行二值化處理,得到圖像I2。
3、對(duì)圖像I2進(jìn)行標(biāo)記,并找到棋盤(pán)格區(qū)域所在位置。
4、提取I2中棋盤(pán)格區(qū)域圖像I3;(聲場(chǎng)所在區(qū)域是黑色)。
5、分別計(jì)算在無(wú)聲場(chǎng)處單黑格棋盤(pán)格模板w1、四格棋盤(pán)格模板w2的白色像素的總數(shù)n1,n2。
6、用模板w1掃描圖像I3,粗略的找出聲場(chǎng)所在位置,得到圖像I4。
7、用模板w2掃描圖像I4,快速抹去聲場(chǎng)以外的棋盤(pán)格,得到圖像I5。
8、用模板w1掃描圖像I5,得到更精確的聲場(chǎng)范圍,得到圖像I6。
9、由聲場(chǎng)上界像素值減去聲場(chǎng)下界像素值,尋找最小值,即聲場(chǎng)焦域像素寬度b。
10、聲場(chǎng)焦域像素寬度b最終計(jì)算出聲場(chǎng)焦域?qū)挾萀。
以上所述,僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并非對(duì)本發(fā)明作任何限制,凡是根據(jù)本發(fā)明技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、變更以及等效結(jié)構(gòu)變化,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。