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一種處理盒的制作方法

文檔序號:41944175發(fā)布日期:2025-05-16 14:01閱讀:7來源:國知局
一種處理盒的制作方法

本技術(shù)涉及電子照相成像,尤其涉及一種處理盒。


背景技術(shù):

1、在傳統(tǒng)的成像設(shè)備中,能夠作用在感光鼓上的處理裝置(即顯影盒)和感光鼓被一體化成為盒,盒可拆卸地安裝至成像設(shè)備上,根據(jù)這種盒的類型,可由使用者進(jìn)行裝置的維護(hù)操作,而無需依賴服務(wù)人員,由此顯著地改善了操作性,所以,這種盒類型被廣泛應(yīng)用在成像設(shè)備中。

2、現(xiàn)有技術(shù)中公開了一種處理盒,處理盒包括殼體、顯影輥、感光鼓等核心部件,殼體中容納有顯影劑,在處理盒與成像設(shè)備配合打印的過程中,殼體中的顯影劑被消耗而可附著在紙張上,并最終可在紙張上顯示出文字或圖像;因此,可以知道是,在打印過程中,處理盒中的顯影劑會被持續(xù)消耗,直至消耗殆盡時,這時就需要丟棄舊處理盒,更換新的處理盒才能正常打??;然而,現(xiàn)有的處理盒中容納的顯影劑量往往有限,而處理盒的殼體、顯影輥、感光鼓等核心部件可匹配更多的處理盒中容納的顯影劑量,因此,在處理盒中的顯影劑消耗完后,處理盒的殼體、顯影輥、感光鼓等核心部件便會隨之丟棄,這不僅不環(huán)保,也將導(dǎo)致處理盒的經(jīng)濟(jì)性不高。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為解決上述問題,本實(shí)用新型提供了一種新的處理盒,主要是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的:

2、一種處理盒,可拆卸的安裝至成像設(shè)備中,所述處理盒包括:

3、鼓框架;

4、顯影框架,具有可容納顯影劑的容納腔;

5、感光鼓,支撐在所述鼓框架上并可繞沿左右方向延伸的感光鼓軸線旋轉(zhuǎn);

6、顯影輥,支撐在所述顯影框架上并可繞沿左右方向延伸的顯影輥軸線旋轉(zhuǎn),沿著自后向前的方向,所述顯影輥軸線和所述感光鼓軸線依次排布,前后方向與所述左右方向交叉;

7、耦合件,在所述左右方向上位于所述處理盒的右端,所述耦合件可接收所述成像設(shè)備的驅(qū)動力施加構(gòu)件的驅(qū)動力而驅(qū)動所述感光鼓和所述顯影輥旋轉(zhuǎn);

8、肋部,在所述左右方向上所述肋部位于所述處理盒的右端,在上下方向上所述肋部位于所述處理盒的上端,所述上下方向與所述左右方向和所述前后方向交叉,在所述處理盒安裝至所述成像設(shè)備的過程中,所述肋部可迫使所述成像設(shè)備的保護(hù)構(gòu)件移動,以允許所述耦合件與所述驅(qū)動力施加構(gòu)件耦合;

9、所述容納腔包括向下凹進(jìn)而形成的凹部;所述處理盒還包括在所述前后方向上排布的第一攪拌架和第二攪拌架,在所述前后方向上所述第二攪拌架相比于所述第一攪拌架設(shè)置在更遠(yuǎn)離所述顯影輥的位置,所述第二攪拌架可用于攪拌容納在所述凹部中的顯影劑,以將顯影劑朝著靠近所述第一攪拌架的方向輸送。

10、進(jìn)一步的,所述第一攪拌架一端連接有第一攪拌架齒輪,所述第二攪拌架一端連接有第二攪拌架齒輪,沿著驅(qū)動力的傳遞方向,所述第一攪拌架齒輪和所述第二攪拌架齒輪之間設(shè)置有至少一個中間傳遞齒輪。

11、進(jìn)一步的,在所述上下方向上,所述顯影輥軸線與所述凹部下末端的距離為p,其中,25mm≦p≦40mm。

12、進(jìn)一步的,30mm≦p≦36mm。

13、進(jìn)一步的,所述第一攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第一攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第二攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第二攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第一攪拌架包括第一攪拌架葉片,所述第二攪拌架包括第二攪拌架葉片,在與所述左右方向交叉的方向上,所述第二攪拌架葉片的自由末端離所述第二攪拌架軸線的距離大于所述第一攪拌架葉片的自由末端離所述第一攪拌架軸線的距離。

14、進(jìn)一步的,所述第一攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第一攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第一攪拌架軸線與所述顯影輥軸線的距離為l1,其中,19mm≦l1≦25mm。進(jìn)一步的,所述第二攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第二攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第二攪拌架軸線與所述顯影輥軸線的距離為l2,其中,45mm≦l2≦65mm。進(jìn)一步的,所述第二攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第二攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第二攪拌架包括第二攪拌架軸和連接在所述第二攪拌架軸上的第二攪拌架葉片,在與所述左右方向垂直的方向上,所述第二攪拌架葉片的延伸末端與所述所述第二攪拌架軸線的距離為s,其中,30mm≦s≦50mm。

15、進(jìn)一步的,所述顯影框架上具有可避讓所述成像設(shè)備的避讓凹槽,在所述左右方向上所述避讓凹槽設(shè)置在所述顯影框架的左末端,在所述前后方向上所述避讓凹槽設(shè)置在所述顯影框架的后末端,所述避讓凹槽構(gòu)造為從所述顯影框架的下末端的外表面上朝向所述顯影框架的上末端凹陷而成,在所述前后方向和所述左右方向上所述避讓凹槽和所述凹部具有重疊部分。

16、進(jìn)一步的,所述避讓凹槽包括第一開口和第二開口,所述第一開口構(gòu)造為將所述避讓凹槽暴露在所述處理盒的左端,所述第二開口構(gòu)造為將所述避讓凹槽暴露在所述處理盒的后端。

17、進(jìn)一步的,在所述前后方向上,所述避讓凹槽具有寬度k,其中,16mm≦k≦40mm。

18、本實(shí)用新型中的處理盒通過增大容納腔的大小,實(shí)現(xiàn)了提高處理盒顯影劑容量的技術(shù)效果,提升了處理盒的使用經(jīng)濟(jì)性。



技術(shù)特征:

1.一種處理盒,可拆卸的安裝至成像設(shè)備中,所述處理盒包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理盒,其特征在于,所述第一攪拌架一端連接有第一攪拌架齒輪,所述第二攪拌架一端連接有第二攪拌架齒輪,沿著驅(qū)動力的傳遞方向,所述第一攪拌架齒輪和所述第二攪拌架齒輪之間設(shè)置有至少一個中間傳遞齒輪。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理盒,其特征在于,在所述上下方向上,所述顯影輥軸線與所述凹部下末端的距離為p,其中,25mm≦p≦40mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的處理盒,其特征在于,30mm≦p≦36mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理盒,其特征在于,所述第一攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第一攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第二攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第二攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第一攪拌架包括第一攪拌架葉片,所述第二攪拌架包括第二攪拌架葉片,在與所述左右方向交叉的方向上,所述第二攪拌架葉片的自由末端離所述第二攪拌架軸線的距離大于所述第一攪拌架葉片的自由末端離所述第一攪拌架軸線的距離。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理盒,其特征在于,所述第一攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第一攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第一攪拌架軸線與所述顯影輥軸線的距離為l1,其中,19mm≦l1≦25mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理盒,其特征在于,所述第二攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第二攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第二攪拌架軸線與所述顯影輥軸線的距離為l2,其中,45mm≦l2≦65mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理盒,其特征在于,所述第二攪拌架可繞沿所述左右方向延伸的第二攪拌架軸線旋轉(zhuǎn),所述第二攪拌架包括第二攪拌架軸和連接在所述第二攪拌架軸上的第二攪拌架葉片,在與所述左右方向垂直的方向上,所述第二攪拌架葉片的延伸末端與所述第二攪拌架軸線的距離為s,其中,30mm≦s≦50mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理盒,其特征在于,所述顯影框架上具有可避讓所述成像設(shè)備的避讓凹槽,在所述左右方向上所述避讓凹槽設(shè)置在所述顯影框架的左末端,在所述前后方向上所述避讓凹槽設(shè)置在所述顯影框架的后末端,所述避讓凹槽構(gòu)造為從所述顯影框架的下末端的外表面上朝向所述顯影框架的上末端凹陷而成,在所述前后方向和所述左右方向上所述避讓凹槽和所述凹部具有重疊部分。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理盒,其特征在于,所述避讓凹槽包括第一開口和第二開口,所述第一開口構(gòu)造為將所述避讓凹槽暴露在所述處理盒的左端,所述第二開口構(gòu)造為將所述避讓凹槽暴露在所述處理盒的后端。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理盒,其特征在于,在所述前后方向上,所述避讓凹槽具有寬度k,其中,16mm≦k≦40mm。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種處理盒,包括:鼓框架;顯影框架;感光鼓;顯影輥;耦合件;肋部,在所述處理盒安裝至所述成像設(shè)備的過程中,所述肋部可迫使所述成像設(shè)備的保護(hù)構(gòu)件移動,以允許所述耦合件與所述驅(qū)動力施加構(gòu)件耦合;所述容納腔包括向下凹進(jìn)而形成的凹部;所述處理盒還包括在所述前后方向上排布的第一攪拌架和第二攪拌架,在所述前后方向上所述第二攪拌架相比于所述第一攪拌架設(shè)置在更遠(yuǎn)離所述顯影輥的位置,所述第二攪拌架可用于攪拌容納在所述凹部中的顯影劑,以將顯影劑朝著靠近所述第一攪拌架的方向輸送。

技術(shù)研發(fā)人員:聶汪波
受保護(hù)的技術(shù)使用者:江西億鉑電子科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240713
技術(shù)公布日:2025/5/15
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