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一種真空鍍膜襯底底座的制作方法

文檔序號:11507200閱讀:303來源:國知局

本發(fā)明涉及一種真空鍍膜襯底底座,屬于真空鍍膜裝置技術領域。



背景技術:

真空鍍膜裝置被廣泛應用于各種平面鍍膜領域,但是對于立體異形結構的鍍膜,往往需要復雜的襯底旋轉(zhuǎn)、翻轉(zhuǎn)等復雜機構的支持,現(xiàn)有的真空鍍膜襯底底座難以實現(xiàn)這一要求。



技術實現(xiàn)要素:

本發(fā)明所要解決的技術問題是克服現(xiàn)有技術的缺陷,提供一種真空鍍膜襯底底座,可使襯底底座在加工過程中能夠旋轉(zhuǎn)、翻轉(zhuǎn),達到改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率,尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內(nèi)壁膜厚均勻性。

為解決上述技術問題,本發(fā)明提供一種真空鍍膜襯底底座,包括襯底托盤、轉(zhuǎn)軸和傳動軸,所述傳動軸與旋轉(zhuǎn)機構連接,所述襯底托盤通過設置于中心處的轉(zhuǎn)軸與傳動軸相連,所述襯底托盤底部設置有以托盤中心為圓心的圓環(huán)形凹槽,所述襯底托盤底部還設置有角度調(diào)節(jié)桿,所述角度調(diào)節(jié)桿一端固定在設備底座上,另一端為接觸球端,所述接觸球端可在圓環(huán)形凹槽內(nèi)滑動。

所述傳動軸包括旋轉(zhuǎn)機構連接軸和關節(jié)蓋帽,所述旋轉(zhuǎn)機構連接軸的末端為關節(jié)球體,所述關節(jié)球體被球關節(jié)蓋帽包合,所述球關節(jié)蓋帽與轉(zhuǎn)軸相連。

所述轉(zhuǎn)軸包括結構連接螺釘,所述結構連接螺釘一端與襯底托盤固定連接,另一端與傳動軸轉(zhuǎn)動連接。

所述結構連接螺釘通過固定螺釘固定在襯底托盤的底部。

所述襯底托盤圓心處設置有螺釘沉孔,所述固定螺釘安裝于螺釘沉孔內(nèi)。

所述襯底托盤的邊緣設置有樣品限位環(huán)。

所述球關節(jié)蓋帽包括上蓋帽和下蓋帽,所述上蓋帽上設置有容納轉(zhuǎn)軸的凹孔。

本發(fā)明所達到的有益效果:

1.真空鍍膜進行時,傳動軸與旋轉(zhuǎn)機構連接并不斷旋轉(zhuǎn),放于襯底托盤上的樣品以傳動軸為中心對稱軸在俯視平面內(nèi)做圓周運動,另一方面,由于襯底托盤與角度調(diào)節(jié)桿滑動接觸,從而使襯底托盤在角度調(diào)節(jié)桿限位作用下,將圓周運動轉(zhuǎn)為在其所在的平面內(nèi)做自轉(zhuǎn)運動,以實現(xiàn)改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率,尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內(nèi)壁膜厚均勻性。

2.角度調(diào)節(jié)桿上接觸球端的接觸角度可隨著調(diào)節(jié)桿的彎折和高度而變化,進而對襯底托盤的傾斜角度進行調(diào)節(jié),實現(xiàn)對真空鍍膜工藝中不同孔徑比的樣品的均勻鍍膜。

因此,本發(fā)明所提供的一種真空鍍膜襯底底座,可以實現(xiàn)襯底底座的簡單的類行星式轉(zhuǎn)動,以使襯底底座在加工過程中能夠旋轉(zhuǎn)、翻轉(zhuǎn),達到改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率,尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內(nèi)壁膜厚均勻性。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發(fā)明作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術方案,而不能以此來限制本發(fā)明的保護范圍。

如圖1所示的一種真空鍍膜襯底底座,包括襯底托盤1、轉(zhuǎn)軸和傳動軸,所述傳動軸與旋轉(zhuǎn)機構連接,所述襯底托盤1通過設置于中心處的轉(zhuǎn)軸與傳動軸相連,所述襯底托盤1底部設置有以托盤中心為圓心的圓環(huán)形凹槽1-3,所述襯底托盤底部還設置有角度調(diào)節(jié)桿5,所述角度調(diào)節(jié)桿5一端固定在設備底座上,另一端為接觸球端5-1,所述接觸球端5-1可在圓環(huán)形凹槽1-3內(nèi)滑動。

所述傳動軸包括旋轉(zhuǎn)機構連接軸4和關節(jié)蓋帽3,所述旋轉(zhuǎn)機構連接軸4的末端為關節(jié)球體4-1,所述關節(jié)球體4-1被球關節(jié)蓋帽3包合,所述球關節(jié)蓋帽3與轉(zhuǎn)軸相連。

所述轉(zhuǎn)軸包括結構連接螺釘2,所述結構連接螺釘2一端與襯底托盤1固定連接,另一端與傳動軸轉(zhuǎn)動連接。

所述結構連接螺釘2通過固定螺釘1-4固定在襯底托盤1的底部。

所述襯底托盤1圓心處設置有螺釘沉孔1-1,所述固定螺釘1-4安裝于螺釘沉孔1-1內(nèi),以避免固定螺釘1-4安裝后高于襯底托盤1表面,使真空鍍膜的樣品被頂起。

所述襯底托盤1的邊緣設置有樣品限位環(huán)1-2,防止在旋轉(zhuǎn)過程中樣品被甩出襯底托盤1。

所述球關節(jié)蓋帽3包括上蓋帽3-1和下蓋帽3-2,所述上蓋帽3-1上設置有容納轉(zhuǎn)軸的凹孔,由于球關節(jié)蓋帽3在轉(zhuǎn)動中容易發(fā)生磨損。這一結構使球關節(jié)蓋帽3易于安裝拆卸,便于維護更換。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,應當指出,對于本技術領域的普通技術人員來說,在不脫離本發(fā)明技術原理的前提下,還可以做出若干改進和變形,這些改進和變形也應視為本發(fā)明的保護范圍。



技術特征:

技術總結
本發(fā)明公開了一種真空鍍膜襯底底座,包括襯底托盤、轉(zhuǎn)軸和傳動軸,所述傳動軸與旋轉(zhuǎn)機構連接,所述襯底托盤通過設置于中心處的轉(zhuǎn)軸與傳動軸相連,所述襯底托盤底部設置有以托盤中心為圓心的圓環(huán)形凹槽,所述襯底托盤底部還設置有角度調(diào)節(jié)桿,所述角度調(diào)節(jié)桿一端固定在設備底座上,另一端為接觸球端,所述接觸球端可在圓環(huán)形凹槽內(nèi)滑動。本發(fā)明可以實現(xiàn)襯底底座的簡單的類行星式轉(zhuǎn)動,以使襯底底座在加工過程中能夠旋轉(zhuǎn)、翻轉(zhuǎn),達到改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率,尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內(nèi)壁膜厚均勻性。

技術研發(fā)人員:馮斌;任高潮;顧為民;金浩;王德苗
受保護的技術使用者:蘇州求是真空電子有限公司
技術研發(fā)日:2016.12.12
技術公布日:2017.08.18
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