技術總結
一種沉積類金剛石薄膜裝置，涉及一種金剛石薄膜裝置，包括真空室（5）、工件臺（7）和真空系統(tǒng)（8），在真空室（5）的上部設有與真空室（5）連接的真空系統(tǒng)（8），在真空室（5）內(nèi)設有工件臺（7），在真空室（5）的外部兩側分別設有矩形平面弧石墨靶（3）與矩形平面弧鉻靶（4），在真空室（5）的頂部兩側分別設有柱狀弧源清洗裝置（1）與柱狀弧靶（2），在真空室（5）上、柱狀弧靶（2）的一側設有加熱系統(tǒng)（6）；本實用新型采用矩形平面靶沉積類金剛石薄膜，達到了金剛石含量高、膜層能做厚、涂層均勻、致密高的目的。

技術研發(fā)人員：鄒楊;孫蕾;楊宜珍;鄒松東;孫凌
受保護的技術使用者：洛陽奧爾材料科技有限公司
文檔號碼：201620591975
技術研發(fā)日：2016.06.17
技術公布日：2016.12.14