本實用新型涉及一種修正擋板，具體地說本實用新型涉及一種真空鍍膜的修正擋板結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

公知的，隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，真空鍍膜的技術(shù)已經(jīng)得到普遍應(yīng)用，在鍍制薄膜時，膜層的均勻性是一個重要的問題，膜層的均勻性不好，會嚴重影響膜系的特性，膜層均勻性是指膜厚隨基板表面位置的變化，它與蒸發(fā)源到基板之間的距離有關(guān)，現(xiàn)有的真空鍍膜主要采用增加蒸發(fā)源到基板之間的距離來改變薄膜的均勻性，但是當蒸發(fā)源不穩(wěn)定的時候?qū)τ诰鶆蛐缘挠绊懢蜁酱螅虼?，提出一種能夠穩(wěn)定的增加鍍膜均勻性的修正擋板結(jié)構(gòu)，成為本領(lǐng)域技術(shù)人員的基本訴求。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了克服背景技術(shù)中的不足，本實用新型公開了一種真空鍍膜的修正擋板結(jié)構(gòu)，通過設(shè)置旋轉(zhuǎn)組件驅(qū)動轉(zhuǎn)軸上的修正擋板旋轉(zhuǎn)，實現(xiàn)了真空鍍膜更均勻的目的。

為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案：

一種真空鍍膜的修正擋板結(jié)構(gòu)，包括真空鍍膜室、旋轉(zhuǎn)基片臺和蒸發(fā)源，在真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源，在蒸發(fā)源的上部設(shè)有旋轉(zhuǎn)基片臺，在真空鍍膜室的外部設(shè)有旋轉(zhuǎn)組件，在旋轉(zhuǎn)組件的中心處設(shè)有穿過真空鍍膜室的轉(zhuǎn)軸，在轉(zhuǎn)軸上設(shè)有修正擋板。

由于采用了上述技術(shù)方案，本實用新型具有如下優(yōu)越性：

本實用新型所述的真空鍍膜的修正擋板結(jié)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)組件帶動修正擋板旋轉(zhuǎn)來調(diào)節(jié)鍍膜厚度，并調(diào)整修正擋板適合的角度和形狀，從而使真空鍍膜更為均勻。

【附圖說明】

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

在圖中：1、修正擋板；2、轉(zhuǎn)軸；3、旋轉(zhuǎn)組件；4、真空鍍膜室；5、旋轉(zhuǎn)基片臺；6、蒸發(fā)源。

【具體實施方式】

通過下面的實施例可以更詳細的解釋本實用新型，本實用新型并不局限于下面的實施例；

結(jié)合附圖1所述的真空鍍膜的修正擋板結(jié)構(gòu)，包括真空鍍膜室4、旋轉(zhuǎn)基片臺5和蒸發(fā)源6，在真空鍍膜室4內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源6，在蒸發(fā)源6的上部設(shè)有旋轉(zhuǎn)基片臺5，在真空鍍膜室4的外部設(shè)有旋轉(zhuǎn)組件3，在旋轉(zhuǎn)組件3的中心處設(shè)有穿過真空鍍膜室4的轉(zhuǎn)軸2，在轉(zhuǎn)軸2上設(shè)有修正擋板1。

實施本實用新型所述的真空鍍膜的修正擋板結(jié)構(gòu)，在使用時，根據(jù)需要調(diào)整修正擋板1的角度和形狀，進行固定，抽真空、打開蒸發(fā)源6，通過旋轉(zhuǎn)組件3帶動修正擋板1旋轉(zhuǎn)來調(diào)節(jié)鍍膜厚度，即可獲取非常均勻的真空鍍膜。

本實用新型未詳述部分為現(xiàn)有技術(shù)。

為了公開本實用新型的發(fā)明目的而在本文中選用的實施例，當前認為是適宜的，但是，應(yīng)了解的是，本實用新型旨在包括一切屬于本構(gòu)思和實用新型范圍內(nèi)的實施例的所有變化和改進。