技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開一種旋轉(zhuǎn)式磁控靶及臥式磁控濺射鍍膜設(shè)備，旋轉(zhuǎn)式磁控靶包括靶材、磁芯和磁鐵，磁芯設(shè)于靶材中部，磁芯外周設(shè)有至少一個磁鐵，磁鐵朝向靶材的一端呈錐形。臥式磁控濺射鍍膜設(shè)備包括依次連接的前預(yù)抽室、前粗抽室、前精抽室、前緩沖室、鍍膜室、后緩沖室、后精抽室、后粗抽室和后預(yù)抽室，鍍膜室為一個或多個，各鍍膜室中設(shè)有旋轉(zhuǎn)式磁控靶，旋轉(zhuǎn)式磁控靶位于工件上方。本旋轉(zhuǎn)式磁控靶通過將磁鐵末端設(shè)計(jì)為尖端，增強(qiáng)了磁力線在靶材表面的分布密度，可加大濺射出來的靶材粒子數(shù)量，從而提高了工件表面的鍍膜效率。將其應(yīng)用于臥式磁控濺射鍍膜設(shè)備中，可有效提高工件的鍍膜效率，縮短整個工藝線的生產(chǎn)周期，從而提高生產(chǎn)效率。

技術(shù)研發(fā)人員：朱建明;李金清;張閏華
受保護(hù)的技術(shù)使用者：肇慶市科潤真空設(shè)備有限公司
文檔號碼：201620688645
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.30
技術(shù)公布日：2017.01.25