本技術(shù)涉及磁芯熔融成型，具體為一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、磁芯是一種由磁性材料制成的核心組件，通常用于電子和電氣工程領(lǐng)域，尤其是在需要電磁能量轉(zhuǎn)換、存儲或傳輸?shù)脑O(shè)備中。它主要由各種氧化鐵混合物組成，通過燒結(jié)工藝制得，是一種磁性金屬氧化物。常見的磁芯材料包括錳-鋅鐵氧體和鎳-鋅鐵氧體等，磁芯的制造涉及粉末冶金過程，包括粉末混合、成型、燒結(jié)和后續(xù)的機械加工等步驟。隨著技術(shù)的進步，現(xiàn)代磁芯設(shè)計還注重小型化、輕量化和更高的性能指標，以滿足日益增長的電子產(chǎn)品需求。

2、磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)是一種專用于磁性材料生產(chǎn)過程中的設(shè)備，其主要功能是在磁芯材料經(jīng)過高溫熔融并注入模具成型后，迅速降低其溫度，促進材料結(jié)構(gòu)的快速固化和穩(wěn)定化。這一過程對于保證磁芯的最終性能，如磁導(dǎo)率、矯頑力和尺寸穩(wěn)定性等至關(guān)重要?？焖倮鋮s可以防止材料在冷卻過程中產(chǎn)生裂紋、變形，并且有助于提高生產(chǎn)效率，快速冷卻機構(gòu)能夠在確保產(chǎn)品質(zhì)量的同時，提高生產(chǎn)效率，降低能耗，并減少生產(chǎn)過程中的廢品率。

3、現(xiàn)有技術(shù)中通常通過水冷的方式為磁芯熔融成型裝置的模具進行冷卻，雖然在一定程度上滿足了使用需求，但是在實際使用過程中發(fā)現(xiàn)，水冷的方式會產(chǎn)生大量的水蒸氣，造成資源浪費的同時大量的水蒸氣也會影響生產(chǎn)線環(huán)境。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，包括安裝架和連接管，所述安裝架的內(nèi)部開設(shè)有冷卻池，所述安裝架的底部固定安裝有循環(huán)冷卻機構(gòu)，其特征在于：所述安裝架的一側(cè)固定安裝有蒸汽回收機構(gòu)，所述安裝架的頂部固定安裝有吸風罩，所述吸風罩通過連接管固定連接在蒸汽回收機構(gòu)頂部，所述蒸汽回收機構(gòu)的一側(cè)通過連接管固定連接有風機。

3、優(yōu)選的，蒸汽回收機構(gòu)包括回收管，所述回收管的內(nèi)部固定安裝有若干波形片，所述回收管的底部固定安裝有排液槽，所述排液槽固定連接在循環(huán)冷卻機構(gòu)的一側(cè)。

4、優(yōu)選的，所述蒸汽回收機構(gòu)還包括半導(dǎo)體制冷片，所述半導(dǎo)體制冷片的制冷面固定連接有若干導(dǎo)熱管，所述導(dǎo)熱管固定安裝在波形片的內(nèi)部。

5、優(yōu)選的，所述半導(dǎo)體制冷片的制熱面固定連接有均熱板，所述均熱板的一側(cè)固定安裝有散熱扇。

6、優(yōu)選的，所述冷卻池的內(nèi)部固定安裝有循環(huán)冷卻機構(gòu)，所述冷卻池的內(nèi)部固定安裝有兩組冷卻液循環(huán)口。

7、優(yōu)選的，所述冷卻池的一側(cè)設(shè)置有放置區(qū)，所述放置區(qū)的內(nèi)部旋轉(zhuǎn)安裝有若干轉(zhuǎn)輥，所述放置區(qū)的頂部固定安裝有吹風罩，所述吹風罩通過連接管固定連接在風機的頂部。

8、優(yōu)選的，所述循環(huán)冷卻機構(gòu)包括儲液池，所述儲液池的一側(cè)固定安裝有壓縮制冷機，所述壓縮制冷機的一側(cè)固定連接有循環(huán)制冷管，所述循環(huán)制冷管固定安裝在儲液池的內(nèi)部，所述儲液池的內(nèi)部固定安裝有循環(huán)泵。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：該用于磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)；

10、1.通過設(shè)置的冷卻池內(nèi)部的冷卻液對模具進行冷卻，通過風機使蒸汽回收機構(gòu)、連接管、吸風罩的內(nèi)部產(chǎn)生負壓，通過吸風罩對冷卻池頂部產(chǎn)生的水蒸氣進行收集，當水蒸氣進入回收管的內(nèi)部時，與波形片接觸冷凝，冷凝水通過排液槽排入循環(huán)冷卻機構(gòu)的內(nèi)部重復(fù)利用，在上述過程中通過半導(dǎo)體制冷片降低導(dǎo)熱管的溫度并通過導(dǎo)熱管降低波形片的溫度，提升冷凝效率，并通過均熱板和散熱扇之間的配合對半導(dǎo)體制冷片進行散熱，確保半導(dǎo)體制冷片的運行；

11、2.通過設(shè)置的循環(huán)冷卻機構(gòu)帶動模具在冷卻池的內(nèi)部移動，冷卻完畢的模具在循環(huán)冷卻機構(gòu)的作用下位移至放置區(qū)的頂部，模具在放置區(qū)頂部是表面的冷卻液會通過若干轉(zhuǎn)輥之間的縫隙流入儲液池的內(nèi)部循環(huán)使用，并通過風機和吹風罩的配合產(chǎn)生強風對模具進行烘干，通過循環(huán)泵和兩組冷卻液循環(huán)口的配合下使儲液池和冷卻池內(nèi)部的冷卻液循環(huán)流動，過熱的冷卻液通過壓縮制冷機和循環(huán)制冷管的配合下重新冷卻，再通過循環(huán)泵重新進入冷卻池的內(nèi)部，確保冷卻效果。

技術(shù)特征：

1.一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，包括安裝架(1)和連接管(5)，所述安裝架(1)的內(nèi)部開設(shè)有冷卻池(2)，所述安裝架(1)的底部固定安裝有循環(huán)冷卻機構(gòu)(3)，其特征在于：所述安裝架(1)的一側(cè)固定安裝有蒸汽回收機構(gòu)(4)，所述安裝架(1)的頂部固定安裝有吸風罩(6)，所述吸風罩(6)通過連接管(5)固定連接在蒸汽回收機構(gòu)(4)頂部，所述蒸汽回收機構(gòu)(4)的一側(cè)通過連接管(5)固定連接有風機(9)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，其特征在于，所述蒸汽回收機構(gòu)(4)包括回收管(401)，所述回收管(401)的內(nèi)部固定安裝有若干波形片(402)，所述回收管(401)的底部固定安裝有排液槽，所述排液槽固定連接在循環(huán)冷卻機構(gòu)(3)的一側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，其特征在于，所述蒸汽回收機構(gòu)(4)還包括半導(dǎo)體制冷片(403)，所述半導(dǎo)體制冷片(403)的制冷面固定連接有若干導(dǎo)熱管(404)，所述導(dǎo)熱管(404)固定安裝在波形片(402)的內(nèi)部。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，其特征在于，所述半導(dǎo)體制冷片(403)的制熱面固定連接有均熱板(405)，所述均熱板(405)的一側(cè)固定安裝有散熱扇(406)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，其特征在于，所述冷卻池(2)的內(nèi)部固定安裝有循環(huán)冷卻機構(gòu)(3)，所述冷卻池(2)的內(nèi)部固定安裝有兩組冷卻液循環(huán)口(11)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，其特征在于，所述冷卻池(2)的一側(cè)設(shè)置有放置區(qū)(7)，所述放置區(qū)(7)的內(nèi)部旋轉(zhuǎn)安裝有若干轉(zhuǎn)輥(8)，所述放置區(qū)(7)的頂部固定安裝有吹風罩(10)，所述吹風罩(10)通過連接管(5)固定連接在風機(9)的頂部。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，其特征在于，所述循環(huán)冷卻機構(gòu)(3)包括儲液池(301)，所述儲液池(301)的一側(cè)固定安裝有壓縮制冷機(302)，所述壓縮制冷機(302)的一側(cè)固定連接有循環(huán)制冷管(303)，所述循環(huán)制冷管(303)固定安裝在儲液池(301)的內(nèi)部，所述儲液池(301)的內(nèi)部固定安裝有循環(huán)泵(304)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，具體磁芯熔融成型技術(shù)領(lǐng)域。該用于磁芯熔融成型裝置用快速冷卻機構(gòu)，包括安裝架和連接管，所述安裝架的內(nèi)部開設(shè)有冷卻池，所述安裝架的底部固定安裝有循環(huán)冷卻機構(gòu)，其特征在于：所述安裝架的一側(cè)固定安裝有蒸汽回收機構(gòu)，所述安裝架的頂部固定安裝有吸風罩，所述吸風罩通過連接管固定連接在蒸汽回收機構(gòu)頂部，所述蒸汽回收機構(gòu)的一側(cè)通過連接管固定連接有風機，通過風機使蒸汽回收機構(gòu)、連接管、吸風罩的內(nèi)部產(chǎn)生負壓，通過吸風罩對冷卻池頂部產(chǎn)生的水蒸氣進行收集，當水蒸氣進入回收管的內(nèi)部時，與波形片接觸冷凝，冷凝水通過排液槽排入循環(huán)冷卻機構(gòu)的內(nèi)部重復(fù)利用。

技術(shù)研發(fā)人員：張小勇,陳強,夏樹明
受保護的技術(shù)使用者：天長市華磁磁電有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240619
技術(shù)公布日：2025/5/19