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一種離子束流測(cè)量頭及離子束流測(cè)量裝置的制作方法

文檔序號(hào):41954553發(fā)布日期:2025-05-16 14:19閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種離子束流測(cè)量頭,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子束流測(cè)量頭,其特征在于,所述收集板上設(shè)置有與所述至少兩個(gè)絕緣元件一一對(duì)應(yīng)的固定孔和第一滑槽;

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子束流測(cè)量頭,其特征在于,所述至少兩個(gè)絕緣元件相對(duì)于所述收集板傾斜設(shè)置,并且相鄰的兩個(gè)所述絕緣元件在所述收集板上的投影部分重疊;

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的離子束流測(cè)量頭,其特征在于,所述收集板沿邊緣設(shè)置有第一環(huán)形槽;

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子束流測(cè)量頭,其特征在于,還包括正離子篩選組件,用于篩選正離子并使正離子向所述收集板運(yùn)動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的離子束流測(cè)量頭,其特征在于,所述正離子篩選組件包括:

7.一種離子束流測(cè)量裝置,其特征在于,包括固定板、以及權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的離子束流測(cè)量頭;

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的離子束流測(cè)量裝置,其特征在于,當(dāng)所述收集板上設(shè)置有與所述至少兩個(gè)絕緣元件一一對(duì)應(yīng)的固定孔和第一滑槽,以及所述離子束流測(cè)量頭還包括與所述固定孔一一對(duì)應(yīng)的第一連接件和與所述第一滑槽一一對(duì)應(yīng)的第二連接件時(shí),所述凹槽的底部設(shè)置有第一通孔,以及與所述第一滑槽一一對(duì)應(yīng)的第二滑槽,所述第二連接件還穿過對(duì)應(yīng)的所述第二滑槽;

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的離子束流測(cè)量裝置,其特征在于,所述轉(zhuǎn)動(dòng)控制組件包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的離子束流測(cè)量裝置,其特征在于,所述支撐板朝向所述固定板的一面設(shè)置有第三環(huán)形凸臺(tái),所述第三環(huán)形凸臺(tái)環(huán)繞所述第二環(huán)形凸臺(tái)設(shè)置,以在兩者之間形成用于容納線纜的第二環(huán)形槽;

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的離子束流測(cè)量裝置,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)源為步進(jìn)電機(jī),并且所述步進(jìn)電機(jī)的控制桿與所述轉(zhuǎn)動(dòng)板連接;

12.根據(jù)權(quán)利要求7-11任一項(xiàng)所述的離子束流測(cè)量裝置,其特征在于,所述凹槽設(shè)置有三個(gè)以上,其中一個(gè)所述凹槽位于所述固定板的中心,其余的所述凹槽在同一圓周上均勻分布,并且所述圓周的中心為所述固定板的中心。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的離子束流測(cè)量裝置,其特征在于,還包括與所述收集板電連接的電流測(cè)量系統(tǒng);


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開了一種離子束流測(cè)量頭及離子束流測(cè)量裝置,離子束流測(cè)量頭包括:收集板,用于收集所述離子束流中的正離子;至少兩個(gè)絕緣元件,每個(gè)所述絕緣元件一端與所述收集板固定連接,另一端可滑動(dòng)地設(shè)置于所述收集板上,所述至少兩個(gè)絕緣元件朝向所述收集板的中心的一邊均能夠圍成一封閉圖形,并且所述封閉圖形的面積隨所述至少兩個(gè)絕緣元件在所述收集板上滑動(dòng)時(shí)逐漸增大或者逐漸減小。因此,本實(shí)施例的離子束流測(cè)量頭,可以根據(jù)所測(cè)量的離子束流的密度幅值,適應(yīng)性調(diào)節(jié)測(cè)量孔即封閉圖形的面積。

技術(shù)研發(fā)人員:趙達(dá)逵,田甲,武沖
受保護(hù)的技術(shù)使用者:北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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