本技術(shù)屬于廚房電器，具體涉及一種烹飪器具用電磁線盤。

背景技術(shù)：

1、電磁線盤作為電磁烹飪器具中的加熱裝置，通常包括盤體以及纏繞在盤體上的電磁線圈，為了方便電磁線圈的繞設(shè)，盤體的底部設(shè)置有壓線筋，繞設(shè)電磁線圈時，將電磁線圈纏繞在壓線筋和盤體之間的空間內(nèi)，電磁線圈受到壓線筋和盤體的擠壓而保持穩(wěn)定。

2、但是，對于小容量的電磁烹飪器具而言，其盤體的體積較小，且盤體的底壁通常為弧形，而非平面。如此便使得盤體底部的壓線筋與盤體之間的空間在靠近盤體中心處較小，而在盤體的徑向向外的方向上，該空間在盤體底部的弧面作用下越來越大，使壓線筋和盤體之間的繞線空間內(nèi)外段差過大。進(jìn)而當(dāng)電磁線圈從內(nèi)側(cè)繞制到外側(cè)時，外側(cè)的電磁線圈受到的夾緊力較小甚至不受壓線筋和盤體的夾持，進(jìn)而外側(cè)線圈非常容易發(fā)生松脫。

3、此外，在盤體底部進(jìn)行雙層密繞線時，經(jīng)常出現(xiàn)下層線圈繞制完成后，向上層繞線時，需要針對盤體的弧度不斷調(diào)整每圈上層線圈的位置使其與下層線圈相貼合，不僅繞線難度增大，而且上層線圈在繞制過程中容易被底下層線圈抵擋而無法完成繞制，或者發(fā)生上層線圈繞制混亂的問題。且上層線圈繞制完成后，外側(cè)受到壓線筋和盤體的夾持力較小，同樣容易發(fā)生松散，使上層線圈松散混亂，影響線盤參數(shù)以及烹飪效率。且會出現(xiàn)線圈凸出于壓線筋的現(xiàn)象，使得產(chǎn)品良率不高。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型提供了一種烹飪器具用電磁線盤，以解決由于盤體底部弧面導(dǎo)致的外圈線圈受到的夾持力較小，容易發(fā)生松散，且雙層密繞時上層線圈繞制困難且容易出現(xiàn)繞線混亂的問題。

2、本實用新型所采用的技術(shù)方案為：

3、一種烹飪器具用電磁線盤，包括盤體以及繞設(shè)于盤體的線圈，盤體具有底部繞線區(qū)，至少部分線圈繞設(shè)于底部繞線區(qū)，底部繞線區(qū)具有接觸弧面，盤體的底部設(shè)置有壓線筋，壓線筋與接觸弧面配合形成繞線空間，線圈在繞線空間內(nèi)上下堆疊為至少兩層，繞線空間包括入口段和弧形段，入口段設(shè)有配合凸起，以減小壓線筋遠(yuǎn)離盤體中心一端與盤體之間的間隙。

4、本實用新型的烹飪器具用電磁線盤還具有以下附加技術(shù)特征：

5、所述配合凸起橫向延伸以具有配合平面，以使入口段沿水平方向延伸，入口段具有水平的導(dǎo)向入口。

6、入口段和弧形段之間設(shè)置有過渡弧面。

7、弧形段的高度為h1，入口段的高度為h2，其中，h1：h2＝0.9～1.1。

8、配合凸起設(shè)置于盤體且朝向壓線筋凸出。

9、壓線筋包括本體以及導(dǎo)向段，本體的內(nèi)側(cè)端固定于盤體，導(dǎo)向段位于本體的外側(cè)端，導(dǎo)向段的厚度小于本體的厚度。

10、電磁線盤還包括設(shè)置于盤體底部的磁條架，磁條架設(shè)置有沿盤體徑向延伸的安裝臂，安裝臂與接觸弧面配合形成壓線空間，安裝臂遠(yuǎn)離盤體中心的一端設(shè)置有朝向壓線空間內(nèi)凸出的壓筋。

11、壓線筋和安裝臂均為多個且沿盤體的周向間隔布置，壓線筋和安裝臂錯位設(shè)置。

12、底部繞線區(qū)設(shè)置有沿盤體的周向延伸的環(huán)形定位筋，壓線筋沿盤體的周向間隔設(shè)置于環(huán)形定位筋。

13、盤體的側(cè)壁還設(shè)置有側(cè)部繞線區(qū)，至少部分線圈繞設(shè)于側(cè)部繞線區(qū)，盤體的側(cè)壁還設(shè)置有彈性筋位，彈性筋位與盤體的側(cè)壁配合形成繞線槽，彈性筋位朝向盤體的一側(cè)設(shè)置有與盤體的側(cè)壁形狀適配的配合弧面。

14、由于采用了上述技術(shù)方案，本實用新型所取得的有益效果為：

15、1.本實用新型中，繞線空間的入口段設(shè)置有配合凸起，從而使得繞線空間的入口段的高度減小，既壓線筋外側(cè)端與盤體之間的間隙減小，一方面使得繞線空間的高度在盤體徑向方向上變化較小，繞線空間的高度更加均勻一致，從而使盤體和壓線筋對內(nèi)圈和外圈的線圈都能夠起到較好的夾緊作用，防止線圈發(fā)生松散。

16、此外，由于配合凸起的設(shè)置，能夠?qū)ΡP體自身弧度變化進(jìn)行補(bǔ)償，使得繞線空間的入口段受盤體底部接觸弧面的影響減小，使得上層線圈繞制時，上層線圈的每圈線圈所在的位置高度都更加接近，進(jìn)而可在近乎相同的高度上進(jìn)行上層線圈的繞制，大大降低上層線圈的纏繞難度，提高生產(chǎn)效率，且繞線完成后，盤體和壓線筋能夠能夠共同對處于入口段的上下兩層線圈進(jìn)行夾緊，保持上層線圈和下層線圈的穩(wěn)定性，因此也提高了線圈穩(wěn)定性以及產(chǎn)品良率。

17、2.作為本實用新型的一種優(yōu)選實施方式，入口段和弧形段之間設(shè)置有過渡弧面。過渡弧面使得入口段和弧形段之間的過渡更加平滑，進(jìn)而不會對線圈繞制形成阻隔，使得同層內(nèi)的每圈線圈都能夠相接觸，形成密繞結(jié)構(gòu)。避免在入口段和弧形段之間形成拐角從而使拐角將線圈隔開，使兩圈線圈之間產(chǎn)生較大的間隙，影響電磁加熱烹飪效率。

18、3.作為本實用新型的一種優(yōu)選實施方式，配合凸起橫向延伸以使入口段沿水平方向延伸，入口段具有水平的導(dǎo)向入口。配合平面配合使繞線空間的入口段為沿水平延伸的空間，且該空間沿盤體徑向方向的高度不變。一方面使得壓線筋與盤體對線圈的夾持力更加穩(wěn)定，提高壓線效果。另一方面方便了雙層密繞時，上層線圈的繞制，在該空間內(nèi)的上層線圈所在的位置高度一致，從而繞制過程中無需調(diào)整線圈的高度，可直接進(jìn)行繞設(shè)，降低繞線難度，且提高繞線完成后線圈的穩(wěn)定性。

19、4.作為本實用新型的一種優(yōu)選實施方式，壓線筋包括本體以及導(dǎo)向段，本體的內(nèi)側(cè)端固定于盤體，導(dǎo)向段位于本體的外側(cè)端，導(dǎo)向段的厚度小于本體的厚度。在雙層繞線過程中，下層線圈繞設(shè)完成后，繞線空間內(nèi)上下空間減小，上層線圈可能難以進(jìn)入繞線空間內(nèi)。因此可通過向上掰動壓線筋使其發(fā)生彈性形變，進(jìn)而增大繞線空間，使上層線圈順利進(jìn)入繞線空間內(nèi)并完成纏繞。導(dǎo)向段位于本體的自由端，且厚度小于本體的厚度，使得壓線筋更容易在導(dǎo)向段處發(fā)生彈性形變，進(jìn)而將繞線空間外側(cè)的開口打開，使線圈更容易進(jìn)入繞線空間內(nèi)。

20、5.作為本實用新型的一種優(yōu)選實施方式，底部繞線區(qū)設(shè)置有沿盤體的周向延伸的環(huán)形定位筋，壓線筋沿盤體的周向間隔設(shè)置于環(huán)形定位筋。壓線筋為多個且固定于所述環(huán)形定位筋且沿盤體的徑向向外延伸，在繞線空間內(nèi)的線圈受到壓線筋和盤體的夾持，進(jìn)而保持較為穩(wěn)定的姿態(tài)。而在繞線空間外的線圈由于不受壓線筋的壓緊，進(jìn)而容易發(fā)生松散，或者在預(yù)緊力作用下向盤體中心收縮。環(huán)形定位筋位于線圈的最內(nèi)側(cè)，能夠?qū)€圈起到限位作用，使無論在繞線空間內(nèi)的線圈，還是在繞線空間外的線圈都受到環(huán)形定位筋的限位而沿盤體的周向延伸，進(jìn)而保持環(huán)形，避免線圈的局部區(qū)域向盤體中心收縮，有助于保持線圈姿態(tài)的穩(wěn)定性，進(jìn)而保證電磁加熱效率。

技術(shù)特征：

1.一種烹飪器具用電磁線盤，包括盤體以及繞設(shè)于所述盤體的線圈，所述盤體具有底部繞線區(qū)，至少部分所述線圈繞設(shè)于所述底部繞線區(qū)，其特征在于，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烹飪器具用電磁線盤，其特征在于，所述盤體的側(cè)壁還設(shè)置有側(cè)部繞線區(qū)，至少部分所述線圈繞設(shè)于所述側(cè)部繞線區(qū)，所述盤體的側(cè)壁還設(shè)置有彈性筋位，所述彈性筋位與所述盤體的側(cè)壁配合形成繞線槽，所述彈性筋位朝向所述盤體的一側(cè)設(shè)置有與所述盤體的側(cè)壁形狀適配的配合弧面。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種烹飪器具用電磁線盤，包括盤體以及繞設(shè)于盤體的線圈，盤體具有底部繞線區(qū)，至少部分線圈繞設(shè)于底部繞線區(qū)，底部繞線區(qū)具有接觸弧面，盤體的底部設(shè)置有壓線筋，壓線筋與接觸弧面配合形成繞線空間，線圈在繞線空間內(nèi)上下堆疊為至少兩層，繞線空間包括入口段和弧形段，入口段設(shè)有配合凸起，以減小壓線筋遠(yuǎn)離盤體中心一端與盤體之間的間隙。由于配合凸起朝向繞線空間凸出，使得繞線空間受盤體底部接觸弧面的影響減小，上層線圈繞制時，上層線圈的每圈線圈所在的位置高度都更加接近，降低上層線圈的纏繞難度，提高生產(chǎn)效率，繞線完成后，壓線凸起和配合凸起能夠共同對上下兩層線圈進(jìn)行夾緊。

技術(shù)研發(fā)人員：王旭寧,王紅林,王翔,莫林鋒
受保護(hù)的技術(shù)使用者：九陽股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240624
技術(shù)公布日：2025/5/15