本技術涉及航天航空,特別涉及一種可排氣薄膜加熱片。
背景技術:
1、在空間航天器的熱控實施中,薄膜加熱片的應用顯得尤為關鍵。由于空間環(huán)境的極端性,航天器面臨著嚴酷的溫度挑戰(zhàn),如極寒的宇宙背景輻射和太陽輻射的劇烈變化。這些溫度波動對航天器的正常運行和性能穩(wěn)定性構成了嚴重威脅。因此,對航天器進行精確、可靠的溫度控制顯得尤為重要。薄膜加熱片以其獨特的優(yōu)勢成為熱控實施中的理想選擇。薄膜加熱片采用輕質材料制成,具有優(yōu)良的柔性和貼合性,薄膜加熱片具有較高的加熱效率和快速的響應速度,以應對外部環(huán)境的快速變化的特性,薄膜加熱片還具有優(yōu)良的可靠性和穩(wěn)定性,能夠在極端環(huán)境下長期穩(wěn)定運行,確保航天器的安全可靠性。加熱片熱控實施通常采用涂覆gd414c粘接加熱片的方式來完成,涂覆時gd414c會在涂覆過程中產生氣體揮發(fā),尤其是在加工復雜形狀和尺寸面積較大的產品時會嚴重影響產品的平整度,從而降低產品合格率。
2、具體而言,gd414從涂布到失去有效的流動性為止,進行著展布和流平。展布和流平是由表面張力所引起的表層流動,這種表層流動對薄膜加熱片的氣泡要求較高,不完整的流平會形成涂覆弊病,造成大量的返工作業(yè),并且gd414c在涂覆過程中產生的汽泡無法排出,加熱后造成局部鼓泡,從而影響整體的產品品控。
技術實現(xiàn)思路
1、根據(jù)本實用新型實施例,為解決現(xiàn)有技術上述不足,提供了一種可排氣薄膜加熱片,包含加熱片本體,焊盤,和若干鏤空;加熱片本體呈薄片狀,加熱片本體是絕緣體;焊盤設于加熱片本體上;若干鏤空均勻分布在加熱片本上,鏤空與焊盤的位置不重合。
2、優(yōu)選地,若干鏤空均勻分布在加熱片本體不同區(qū)域,若干鏤空不設于加熱片本體邊緣。
3、優(yōu)選地,鏤空呈矩陣狀排列。
4、優(yōu)選地,加熱片本體是矩形,矩陣狀鏤空的其中一邊與矩形加熱片本體邊緣相平行。
5、優(yōu)選地,鏤空的截面為圓形或矩形。
6、優(yōu)選地,若干鏤空為直徑為0.8mm~2mm的通孔。
7、優(yōu)選地,還包含開口,若干鏤空為直徑為1mm的通孔。
8、優(yōu)選地,若干通孔之間的間距為30mm。
9、優(yōu)選地,加熱片本體通過粘合劑粘貼于外部使用設備,粘合劑是gd414中性單組份室溫硫化硅橡膠。
10、優(yōu)選地,加熱片本體是聚酰亞胺。
11、根據(jù)本實用新型實施例的可排氣薄膜加熱片,通過在薄膜加熱片上均勻開設工藝鏤空,解決了gd414c單組份室溫硫化硅橡膠在固化過程中產生的氣泡問題。這不僅減少了因氣泡導致的返工現(xiàn)象和報廢率,降低了生產成本,提高了生產效率,提升了產品品控,為空間航天器熱控實施領域帶來了顯著的實用價值和經濟效益。同時可以確保熱控系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性,提高整個航天器的性能和安全性。
12、要理解的是,前面的一般描述和下面的詳細描述兩者都是示例性的,并且意圖在于提供要求保護的技術的進一步說明。
1.一種可排氣薄膜加熱片,其特征在于,包含:
2.如權利要求1所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述若干鏤空均勻分布在所述加熱片本體不同區(qū)域,所述若干鏤空不設于所述加熱片本體邊緣。
3.如權利要求2所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述鏤空呈矩陣狀排列。
4.如權利要求3所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述加熱片本體是矩形,所述矩陣狀鏤空的其中一邊與所述矩形加熱片本體的邊緣相平行。
5.如權利要求1所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述鏤空的截面為圓形或矩形。
6.如權利要求5所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述若干鏤空為直徑為0.8mm~2mm的通孔。
7.如權利要求6所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,還包含開口,所述若干鏤空為直徑為1mm的通孔。
8.如權利要求7所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述若干通孔之間的間距為30mm。
9.如權利要求1所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述加熱片本體通過粘合劑粘貼于外部使用設備,所述粘合劑是gd414中性單組份室溫硫化硅橡膠。
10.如權利要求1所述的可排氣薄膜加熱片,其特征在于,所述加熱片本體是聚酰亞胺。