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顯示面板及顯示裝置的制作方法

文檔序號:41951099發(fā)布日期:2025-05-16 14:11閱讀:2來源:國知局
顯示面板及顯示裝置的制作方法

本技術(shù)涉及顯示設備,尤其涉及一種顯示面板及顯示裝置。


背景技術(shù):

1、有機發(fā)光二極管顯示(organic?light?emitting?diode,oled)面板以及利用發(fā)光二極管(light?emitting?diode,led)器件的顯示面板等平顯示面板因具有高畫質(zhì)、省電、機身薄及應用范圍廣等優(yōu)點,而被廣泛應用于手機、電視、個人數(shù)字助理、數(shù)字相機、筆記本電腦、臺式計算機等各種消費性電子產(chǎn)品,成為顯示裝置中的主流。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本技術(shù)實施例提供了一種顯示面板及顯示裝置,能夠提高顯示裝置的使用觀感。

2、第一方面,本技術(shù)實施例提供了一種顯示面板,包括:

3、基板;

4、發(fā)光功能層,設置于基板一側(cè),發(fā)光功能層包括發(fā)光層以及位于發(fā)光層背離基板一側(cè)的第一電極層;

5、蓋層結(jié)構(gòu),設置于發(fā)光功能層背離基板的一側(cè),蓋層結(jié)構(gòu)包括第一蓋層以及位于第一蓋層朝向基板一側(cè)的低反射層。

6、在一些實施例中,低反射層與第一電極層在基板厚度方向上的距離為l1,l1滿足5nm≤l1≤25nm;

7、在一些實施例中,低反射層的厚度為l2,l2滿足:5nm≤l2≤15nm;

8、在一些實施例中,低反射層的吸收率為k,k滿足:k≥0.5;和/或,低反射層的折射率為n1,n1滿足n1≥1;

9、在一些實施例中,低反射層的材料包括光吸收材料,低反射層的材料包括金屬、合金以及金屬氧化物中的至少一者;

10、在一些實施例中,低反射層的材料包括鐿、鉍、鈷、鉬、鈦、鋯、鋁、鉻、鈮、鉑、鎢、銦、錫、鐵、鎳、鉭、錳、鋅、鍺中的至少一者。

11、在一些實施例中,蓋層結(jié)構(gòu)還包括設置于低反射層朝向基板一側(cè)的第二蓋層;

12、在一些實施例中,蓋層結(jié)構(gòu)還包括位于低反射層朝向基板一側(cè)的第三蓋層;和/或,蓋層結(jié)構(gòu)還包括位于低反射層背離基板一側(cè)的第四蓋層;

13、在一些實施例中,第一蓋層與第二蓋層的材料不同。

14、在一些實施例中,第一蓋層的材料包括有機材料和無機材料中的至少一者;

15、在一些實施例中,蓋層結(jié)構(gòu)還包括設置于低反射層朝向基板一側(cè)的第二蓋層;

16、其中,第一蓋層的折射率為n2,n2滿足n2≥1.6;和/或,第二蓋層的折射率為n3,n3滿足n3≥1.6;

17、在一些實施例中,蓋層結(jié)構(gòu)中的多個蓋層的厚度和為l3,l3滿足:60nm≤l3≤90nm;

18、在一些實施例中,蓋層結(jié)構(gòu)中的多個蓋層的折射率均大于或等于1.6。

19、在一些實施例中,顯示面板還包括設置于蓋層結(jié)構(gòu)背離基板一側(cè)的第一遮光層;

20、第一遮光層設有多個第一開口,發(fā)光層包括多個發(fā)光部,發(fā)光部在基板的正投影與第一開口在基板的正投影交疊設置;

21、在一些實施例中,第一遮光層在基板的正投影與第一蓋層在基板的正投影交疊設置;

22、在一些實施例中,第一開口在基板的正投影與低反射層在基板的正投影交疊設置。

23、在一些實施例中,顯示面板還包括設置于蓋層結(jié)構(gòu)背離基板一側(cè)的第二無機封裝層;

24、在一些實施例中,第一遮光層位于第二無機封裝層朝向基板的一側(cè);

25、在一些實施例中,顯示面板還包括位于第二無機封裝層朝向基板的一側(cè)的有機封裝層,第一遮光層位于第二無機封裝層與有機封裝層之間;或者,第一遮光層位于有機封裝層與蓋層結(jié)構(gòu)之間;

26、在一些實施例中,顯示面板還包括位于有機封裝層朝向基板一側(cè)的第一無機封裝層;

27、第一遮光層位于第一無機封裝層背離基板的一側(cè);或者,第一遮光層位于第一無機封裝層與蓋層結(jié)構(gòu)之間;

28、在一些實施例中,第一遮光層與第一電極層在基板厚度方向上的距離為l4,l4滿足0<l4≤3μm。

29、在一些實施例中,顯示面板還包括像素定義層,像素定義層包括像素限定部以及由像素限定部圍合形成的像素開口,多個發(fā)光部分設在多個像素開口內(nèi);

30、其中,像素開口在基板的正投影位于第一開口在基板的正投影內(nèi);

31、在一些實施例中,像素開口在基板的正投影具有第一邊緣,第一開口在基板的正投影具有第二邊緣,第一邊緣與第二邊緣之間的距離為d1,d1滿足0≤d1≤4μm;

32、在一些實施例中,像素限定部包括遮光材料;

33、在一些實施例中,像素限定部的材料包括炭黑。

34、在一些實施例中,顯示面板還包括設置于第一遮光層背離基板一側(cè)的導電層,以及位于導電層背離基板一側(cè)的第二遮光層,第二遮光層設有多個第二開口;

35、其中,第一開口在基板的正投影位于第二開口在基板的正投影內(nèi);

36、在一些實施例中,導電層包括觸控層;

37、在一些實施例中,導電層包括導電部,導電部在基板的正投影位于第二遮光層在基板的正投影內(nèi);

38、在一些實施例中,導電部在基板的正投影與相鄰第二開口在基板的正投影之間的距離為d2,d2滿足0≤d2≤2μm。

39、在一些實施例中,第二遮光層包括位于相鄰兩個第二開口之間的遮光部,遮光部在基板的正投影與導電部在基板的正投影邊緣重合設置;

40、在一些實施例中,第二遮光層包括消光材料;

41、在一些實施例中,第二遮光層包括黑化金屬;

42、在一些實施例中,第二遮光層的材料包括鉬、鋁、鈦、鈮、鉭、銦、鋅及其氧化物、氮化物、氮氧化物中的至少一者;

43、在一些實施例中,第二遮光層的材料包括氮氧化鉬鈮和氧化銦鋅。

44、在一些實施例中,氮氧化鉬鈮位于氧化銦鋅背離基板的表面。

45、在一些實施例中,還包括設置于第一遮光層與第一電極層之間的第一無機封裝層,以及設置于第一遮光層與第一無機封裝層之間的觸控層,觸控層在基板的正投影位于第一遮光層在基板的正投影內(nèi);

46、在一些實施例中,顯示面板還包括位于第一無機封裝層背離基板的一側(cè)的有機封裝層,以及位于有機封裝層背離基板一側(cè)的第二無機封裝層;

47、第一遮光層與觸控層均位于第一無機封裝層與有機封裝層之間。

48、在一些實施例中,還包括設置于蓋層結(jié)構(gòu)背離基板一側(cè)的光學層,光學層被配置為能夠吸收特定波段的光線;

49、其中,發(fā)光層包括多個發(fā)光部,光學層在基板的正投影覆蓋多個發(fā)光部在基板的正投影;

50、在一些實施例中,光學層呈面狀結(jié)構(gòu);

51、在一些實施例中,顯示面板還包括設置于蓋層結(jié)構(gòu)背離基板一側(cè)的薄膜封裝層,光學層位于薄膜封裝層背離基板的一側(cè);

52、在一些實施例中,顯示面板還包括設置于蓋層結(jié)構(gòu)背離基板一側(cè)的薄膜封裝層,以及設置于薄膜封裝層背離基板一側(cè)的第二遮光層,第二遮光層設有多個第二開口;

53、其中,光學層部分位于第二遮光層背離基板的一側(cè),部分位于第二開口處;

54、在一些實施例中,光學層的材料包括染料、顏料中的至少一者;

55、在一些實施例中,光學層的材料包括亞酞菁以及酞菁銅中的至少一者。

56、在一些實施例中,還包括設置于基板一側(cè)的隔離結(jié)構(gòu),隔離結(jié)構(gòu)圍合形成多個隔離開口,發(fā)光功能層包括對應隔離開口設置的發(fā)光部;

57、其中,蓋層結(jié)構(gòu)包括對應隔離開口設置的蓋層單元;

58、在一些實施例中,第一蓋層包括位于蓋層單元中的第一蓋部,至少部分不同第一蓋部的材料不同;和/或,至少部分不同第一蓋部的厚度不同;

59、在一些實施例中,蓋層單元的材料包括染料、顏料中的至少一者;

60、在一些實施例中,蓋層單元的材料包括亞酞菁以及酞菁銅中的至少一者;

61、在一些實施例中,低反射層包括位于蓋層單元內(nèi)的低反射部,至少部分不同低反射部的材料不同;和/或,至少部分不同低反射部的厚度不同。

62、第二方面,本技術(shù)實施例提供了一種顯示面板,包括:

63、基板;

64、發(fā)光功能層,設置于基板一側(cè),發(fā)光功能層包括發(fā)光層以及位于發(fā)光層背離基板一側(cè)的第一電極層,發(fā)光層包括多個發(fā)光部;

65、第一遮光層,設置于發(fā)光功能層背離基板的一側(cè),第一遮光層設有多個第一開口,發(fā)光部在基板的正投影與第一開口在基板的正投影交疊設置;

66、第二無機封裝層,設置于第一遮光層背離基板的一側(cè)。

67、在一些實施例中,顯示面板還包括位于第二無機封裝層朝向基板的一側(cè)的有機封裝層,以及位于有機封裝層朝向基板一側(cè)的第一無機封裝層;

68、第一遮光層位于第一無機封裝層與有機封裝層之間;或者,第一遮光層位于第一無機封裝層朝向基板的一側(cè);

69、在一些實施例中,第一遮光層與第一電極層在基板厚度方向上的距離為l4,l4滿足0≤l4≤3μm。

70、在一些實施例中,顯示面板還包括像素定義層,像素定義層包括像素限定部以及由像素限定部圍合形成的像素開口,發(fā)光層中的多個發(fā)光部分設在多個像素開口內(nèi);

71、其中,像素開口在基板的正投影位于第一開口在基板的正投影內(nèi);

72、在一些實施例中,像素開口在基板的正投影具有第一邊緣,第一開口在基板的正投影具有第二邊緣,第一邊緣與第二邊緣之間的距離為d1,d1滿足0≤d1≤4μm;

73、在一些實施例中,像素限定部包括遮光材料;

74、在一些實施例中,像素限定部的材料包括炭黑。

75、在一些實施例中,顯示面板還包括設置于第一遮光層背離基板一側(cè)的導電層,以及位于導電層背離基板一側(cè)的第二遮光層,第二遮光層圍合形成多個第二開口;

76、其中,第一開口在基板的正投影位于第二開口在基板的正投影內(nèi);

77、在一些實施例中,導電層包括觸控層;

78、在一些實施例中,導電層包括導電部,第二遮光層覆蓋導電部設置;

79、在一些實施例中,導電部在基板的正投影與相鄰第二開口在基板的正投影之間的距離為d2,d2滿足0≤d2≤2μm。

80、在一些實施例中,第二遮光層包括位于相鄰兩個第二開口之間的遮光部,遮光部在基板的正投影與導電部在基板的正投影邊緣重合設置;

81、在一些實施例中,第二遮光層包括消光材料;

82、在一些實施例中,第二遮光層包括黑化金屬;

83、在一些實施例中,第二遮光層的材料包括鉬、鋁、鈦、鈮、鉭、銦、鋅及其氧化物、氮化物、氮氧化物中的至少一者;

84、在一些實施例中,第二遮光層的材料包括氮氧化鉬鈮和氧化銦鋅。

85、在一些實施例中,氮氧化鉬鈮位于氧化銦鋅背離基板的表面。

86、在一些實施例中,還包括設置于第一遮光層與第一電極層之間的觸控層,觸控層在基板的正投影位于第一遮光層在基板的正投影內(nèi);

87、在一些實施例中,顯示面板還包括位于第二無機封裝層朝向基板的一側(cè)的有機封裝層,以及位于有機封裝層朝向基板一側(cè)的第一無機封裝層;

88、第一遮光層與觸控層均位于第一無機封裝層與有機封裝層之間。

89、在一些實施例中,還包括設置于第一遮光層與發(fā)光功能層之間的蓋層結(jié)構(gòu),蓋層結(jié)構(gòu)包括層疊設置的第一蓋層、第二蓋層以及位于第一蓋層與第二蓋層之間的低反射層;

90、在一些實施例中,低反射層與第一電極層在基板厚度方向上的距離為l1,l1滿足5nm≤l1≤25nm;

91、在一些實施例中,低反射層的厚度為l2,l2滿足:5nm≤l2≤15nm;

92、在一些實施例中,低反射層的材料包括光吸收材料,低反射層的吸收率為k,k滿足:k≥0.5;和/或,低反射層的折射率為n1,n1滿足n1≥1。

93、本技術(shù)實施例提供一種顯示面板及顯示裝置,通過在顯示面板內(nèi)增設有蓋層結(jié)構(gòu),從而有助于提高顯示面板的出光效率,在此基礎(chǔ)上,通過將低反射層集成在蓋層結(jié)構(gòu)內(nèi),并設置位于第一蓋層朝向基板的一側(cè),以此有助于減小低反射層與第一電極層之間的距離,從而實現(xiàn)顯示面板較高出光效率以及較低反射率的同時兼顧,有助于增強顯示面板的使用效果以及適用場景范圍。

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