技術總結
本發(fā)明公開了一種一次曝光的硬X射線光柵干涉儀的成像方法，其特征包括：1移動任一光柵，將硬X射線光柵干涉儀的工作點固定在光強曲線的左半腰或右半腰位置處；2分別獲取背景投影圖像和被成像物體的投影圖像；3獲取歸一化的被成像物體的投影圖像，并對歸一化的投影圖像進行取對數處理；4根據取對數處理結果，構建表達式進行一維傅立葉變換；5根據一維傅里葉變換結果，利用一維逆傅里葉變換，分別提取被成像物體的吸收和相移信號。本發(fā)明摒棄繁瑣的光柵步進掃描，簡化硬X射線光柵干涉儀的數據采集流程，對被成像物體進行一次曝光，提高成像效率，降低輻射損傷風險，從而為未來快速、低輻射劑量臨床醫(yī)學成像技術的發(fā)展提供新途徑。

技術研發(fā)人員：王志立;劉達林
受保護的技術使用者：合肥工業(yè)大學
文檔號碼：201710019792
技術研發(fā)日：2017.01.11
技術公布日：2017.05.10