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一種可調(diào)式阻鼾器及其制造方法

文檔序號:41951089發(fā)布日期:2025-05-16 14:11閱讀:3來源:國知局
一種可調(diào)式阻鼾器及其制造方法

本發(fā)明屬于阻鼾器,更具體地,涉及一種可調(diào)式阻鼾器及其制造方法。


背景技術(shù):

1、睡眠打鼾是困擾很多人的一種日?,F(xiàn)象,常由于鼻咽部疾病、肌張力不足等原因而導(dǎo)致呼吸通道狹窄,氣流通過狹窄呼吸通道時引起周圍軟組織顫動發(fā)出鼾聲。打鼾可能導(dǎo)致患者日間嗜睡、心血管疾病、糖尿病、加速衰老等健康問題。目前常用的治療打鼾的方法有生活方式調(diào)整,比如減肥、側(cè)臥睡眠、戒煙戒酒等;手術(shù)治療,比如扁桃體切除術(shù)、鼻腔手術(shù)、腭垂腭咽成形術(shù)等;非手術(shù)治療,比如持續(xù)氣道正壓通氣、佩戴阻鼾器等。但是調(diào)整生活方式有時治療效果較差,手術(shù)使得患者承受較大的創(chuàng)傷和并發(fā)癥風(fēng)險,非手術(shù)治療方法中使用持續(xù)氣道正壓通氣操作復(fù)雜、舒適度差,而阻鼾器通過使下頜前伸,牽引舌體前移,打開呼吸通道,減少或消除鼾聲。但現(xiàn)有的阻鼾器存在佩戴體驗不佳、不能調(diào)節(jié),適用范圍有限和難以應(yīng)對佩戴者的個體差異等缺點。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,提供一種可調(diào)式阻鼾器及其制造方法,解決現(xiàn)有技術(shù)中的阻鼾器不能調(diào)節(jié),適用范圍有限和難以應(yīng)對佩戴者的個體差異等問題。

2、為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種可調(diào)式阻鼾器,包括:

3、上頜基托和下頜基托,所述上頜基托和所述下頜基托分別能夠套設(shè)在上齒和下齒的外側(cè),所述下頜基托的前端設(shè)置有下頜限位板,所述上頜基托的前端通過第一調(diào)節(jié)機構(gòu)連接有第一上頜限位板,所述第一上頜限位板用于與所述下頜限位板限位配合,所述上頜基托的后端通過第二調(diào)節(jié)機構(gòu)連接有第二上頜限位板,所述第二上頜限位板用于與所述下頜基托的后端接觸,所述第一調(diào)節(jié)機構(gòu)和所述第二調(diào)節(jié)機構(gòu)分別能夠前后調(diào)節(jié)所述第一上頜限位板和上下調(diào)節(jié)所述第二上頜限位板。

4、可選地,所述上頜基托覆蓋硬腭前部、雙側(cè)上頜前牙及前磨牙腭側(cè)齦部分牙軸面、第一磨牙壓軸面和第二磨牙牙軸面,并與上牙外形相適配。

5、可選地,所述下頜基托覆蓋雙側(cè)下牙牙軸面,并與下牙外形相適配。

6、可選地,所述下頜限位板自所述下頜基托處于下中切牙內(nèi)側(cè)且對應(yīng)下尖牙的位置向上延伸,形成向上的凸起結(jié)構(gòu)。

7、可選地,所述第一上頜限位板通過所述第一調(diào)節(jié)機構(gòu)設(shè)置在所述上頜基托處于上中切牙腭側(cè)的位置。

8、可選地,所述第二上頜限位板通過所述第二調(diào)節(jié)機構(gòu)設(shè)置在所述上頜基托處于上頜第一磨牙和所述第二磨牙的合方位置。

9、可選地,所述上頜基托、所述下頜基托、所述下頜限位板、所述第一上頜限位板和所述第二上頜限位板均為3d打印的塑化材料。

10、可選地,所述第一上頜限位板通過所述第一調(diào)節(jié)機構(gòu)的前后調(diào)節(jié)范圍為0-15mm;所述第二上頜限位板通過所述第二調(diào)節(jié)機構(gòu)的上下調(diào)節(jié)范圍為0-5mm。

11、可選地,所述下頜限位板和所述第一上頜限位板的高度為3-5mm,所述第二上頜限位板的厚度為0.3-0.6mm。

12、本發(fā)明還提供一種可調(diào)式阻鼾器的制造方法,用于制造上述的可調(diào)式阻鼾器,包括:

13、獲取佩戴者口內(nèi)上下頜表面三維數(shù)據(jù)和佩戴者正中咬合關(guān)系數(shù)據(jù);

14、獲取佩戴者下頜前伸且咬合打開設(shè)定距離以使其呼吸通道氣流通暢狀態(tài)下的上下頜咬合關(guān)系數(shù)據(jù);

15、根據(jù)佩戴者口內(nèi)上下頜表面三維數(shù)據(jù)、佩戴者正中咬合關(guān)系數(shù)據(jù)、佩戴者下頜前伸且咬合打開設(shè)定距離以使其呼吸通道氣流通暢狀態(tài)下的上下頜咬合關(guān)系數(shù)據(jù)設(shè)計上述的可調(diào)式阻鼾器;

16、通過3d打印機打印設(shè)計好的上述的可調(diào)式阻鼾器的配件。

17、本發(fā)明提供一種可調(diào)式阻鼾器及其制造方法,其有益效果在于:該可調(diào)式阻鼾器能夠通過上頜基托和下頜基托分別套設(shè)在上牙和下牙上,利用下頜限位板與第一上頜限位板的限位配合限制下頜的位置,保持下頜處于前伸狀態(tài),同時利用第二上頜限位板和下頜基托的接觸,調(diào)節(jié)頜間高度,限制口腔閉合狀態(tài),使得口腔和呼吸通道打開,減少或避免打鼾,并且通過第一調(diào)節(jié)機構(gòu)能夠調(diào)節(jié)第一上頜限位板的前后位置,進(jìn)而調(diào)節(jié)下頜前伸的幅度,通過第二調(diào)節(jié)機構(gòu)能夠調(diào)節(jié)第二上頜限位板的上下位置,調(diào)節(jié)頜間高度,進(jìn)而調(diào)節(jié)口腔和呼吸通道的打開幅度,可以根據(jù)不同佩戴者的口內(nèi)情況對該可調(diào)式阻鼾器進(jìn)行調(diào)節(jié),提高適用范圍和佩戴的舒適性。

18、本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點將在隨后具體實施方式部分予以詳細(xì)說明。



技術(shù)特征:

1.一種可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述上頜基托覆蓋硬腭前部、雙側(cè)上頜前牙及前磨牙腭側(cè)齦部分牙軸面、第一磨牙壓軸面和第二磨牙牙軸面,并與上牙外形相適配。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述下頜基托覆蓋雙側(cè)下牙牙軸面,并與下牙外形相適配。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述下頜限位板自所述下頜基托處于下中切牙內(nèi)側(cè)且對應(yīng)下尖牙的位置向上延伸,形成向上的凸起結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述第一上頜限位板通過所述第一調(diào)節(jié)機構(gòu)設(shè)置在所述上頜基托處于上中切牙腭側(cè)的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述第二上頜限位板通過所述第二調(diào)節(jié)機構(gòu)設(shè)置在所述上頜基托處于上頜第一磨牙和所述第二磨牙的合方位置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述上頜基托、所述下頜基托、所述下頜限位板、所述第一上頜限位板和所述第二上頜限位板均為3d打印的塑化材料。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述第一上頜限位板通過所述第一調(diào)節(jié)機構(gòu)的前后調(diào)節(jié)范圍為0-15mm;所述第二上頜限位板通過所述第二調(diào)節(jié)機構(gòu)的上下調(diào)節(jié)范圍為0-5mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,所述下頜限位板和所述第一上頜限位板的高度為3-5mm,所述第二上頜限位板的厚度為0.3-0.6mm。

10.一種可調(diào)式阻鼾器的制造方法,用于制造權(quán)利要求1-9任一項所述的可調(diào)式阻鼾器,其特征在于,包括:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種可調(diào)式阻鼾器及其制造方法,涉及阻鼾器技術(shù)領(lǐng)域,包括:上頜基托和下頜基托,上頜基托和下頜基托分別能夠套設(shè)在上齒和下齒的外側(cè),下頜基托的前端設(shè)置有下頜限位板,上頜基托的前端通過第一調(diào)節(jié)機構(gòu)連接有第一上頜限位板,第一上頜限位板用于與下頜限位板限位配合,上頜基托的后端通過第二調(diào)節(jié)機構(gòu)連接有第二上頜限位板,第二上頜限位板用于與下頜基托的后端接觸,第一調(diào)節(jié)機構(gòu)和第二調(diào)節(jié)機構(gòu)分別能夠前后調(diào)節(jié)第一上頜限位板和上下調(diào)節(jié)第二上頜限位板;解決現(xiàn)有技術(shù)中的阻鼾器不能調(diào)節(jié),適用范圍有限和難以應(yīng)對佩戴者的個體差異等問題。

技術(shù)研發(fā)人員:韓冰,陳斯,李語晨,呂汶渲,王禹,梁煒,張云帆
受保護的技術(shù)使用者:北京大學(xué)口腔醫(yī)學(xué)院
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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