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一種地漏的制作方法

文檔序號:41951490發(fā)布日期:2025-05-16 14:12閱讀:4來源:國知局
一種地漏的制作方法

本發(fā)明涉及建筑排水,特別是涉及一種地漏。


背景技術(shù):

1、地漏是連接排水管道系統(tǒng)與室內(nèi)地面的重要接口,作為住宅中排水系統(tǒng)的重要部件,它的性能好壞直接影響室內(nèi)空氣、環(huán)境的質(zhì)量,對衛(wèi)浴間的異味控制非常重要。地漏一般由地漏座、地漏蓋和地漏芯組成,地漏蓋作為攔截毛發(fā)的第一關(guān)卡,通??扇》诺卦O(shè)置在地漏座的進水口內(nèi),且地漏蓋通常設(shè)有下水孔,以便于及時排水。但這種地漏存在以下不足:地漏蓋攔截的毛發(fā)較多時容易堵塞下水孔,從而影響地漏的排水效果。用戶在洗浴過程中,一旦地漏蓋上的下水孔發(fā)生堵塞,造成地漏排水緩慢,甚至無法排水,會出現(xiàn)地面積水的情況,大大降低了用戶的使用體驗。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)存在的技術(shù)問題,提供了一種地漏,其通過結(jié)構(gòu)改進,能夠改善地漏蓋發(fā)生堵塞影響排水的問題。

2、本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種地漏,包括地漏座和地漏蓋,地漏座設(shè)有地漏腔,該地漏腔的上端設(shè)有進水口,下端設(shè)有排水口;所述地漏蓋可活動地設(shè)置于所述地漏座內(nèi),且所述地漏蓋具有第一位置和第二位置,所述地漏蓋在第一位置時至少部分位于所述進水口內(nèi),所述地漏蓋通過下移及翻轉(zhuǎn)到達第二位置,且所述地漏蓋在第二位置呈傾斜狀態(tài)并與所述地漏座之間形成排水空隙。

3、在一較佳實施例中,所述地漏蓋受水流和/或人力推動從所述第一位置切換到所述第二位置;還包括設(shè)置在所述地漏蓋與地漏座之間的復(fù)位件,該復(fù)位件用于驅(qū)使所述地漏蓋從所述第二位置切換到所述第一位置。

4、在一較佳實施例中,所述地漏蓋設(shè)有用于使其上下翻轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸,該轉(zhuǎn)軸與所述地漏座之間設(shè)有導(dǎo)向結(jié)構(gòu),以對所述地漏蓋的上下移動進行導(dǎo)向。

5、在一較佳實施例中,所述轉(zhuǎn)軸設(shè)為兩個,兩個轉(zhuǎn)軸同軸設(shè)置,且兩個轉(zhuǎn)軸分別凸設(shè)于所述地漏蓋側(cè)面;所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括所述地漏座的內(nèi)側(cè)面對應(yīng)各個轉(zhuǎn)軸分別設(shè)置的導(dǎo)向槽,所述導(dǎo)向槽沿上下方向延伸,所述轉(zhuǎn)軸適配滑接于所述導(dǎo)向槽。

6、在一較佳實施例中,所述轉(zhuǎn)軸的橫截面呈扁形,所述導(dǎo)向槽包括上下分布的導(dǎo)向段和翻轉(zhuǎn)段,導(dǎo)向段對所述轉(zhuǎn)軸的上下運動進行導(dǎo)向并限制所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動,翻轉(zhuǎn)段寬于所述導(dǎo)向段,以適于所述轉(zhuǎn)軸翻轉(zhuǎn),且所述翻轉(zhuǎn)段的底端設(shè)有適于容納所述轉(zhuǎn)軸的翻轉(zhuǎn)槽,使所述轉(zhuǎn)軸以翻轉(zhuǎn)槽為支點進行翻轉(zhuǎn)。

7、在一較佳實施例中,所述轉(zhuǎn)軸設(shè)于所述地漏蓋的背面?zhèn)龋鰧?dǎo)向結(jié)構(gòu)包括導(dǎo)向桿和導(dǎo)向座,導(dǎo)向座設(shè)在所述地漏座內(nèi),導(dǎo)向桿可上下移動地設(shè)置于導(dǎo)向座,且導(dǎo)向桿上端連接所述轉(zhuǎn)軸。

8、在一較佳實施例中,所述導(dǎo)向桿位于所述地漏座的中軸線上,所述導(dǎo)向座設(shè)為可排水的中空結(jié)構(gòu),且所述導(dǎo)向座呈可取放設(shè)置;所述導(dǎo)向桿的上端設(shè)有適配于所述轉(zhuǎn)軸的容置槽,所述轉(zhuǎn)軸置于該容置槽。

9、在一較佳實施例中,所述復(fù)位件包括設(shè)于所述地漏蓋的多個第一磁鐵和設(shè)于所述地漏座的多個第二磁鐵,所述多個第一磁鐵沿所述轉(zhuǎn)軸的軸向方向排布,且所述多個磁鐵分設(shè)在所述地漏蓋中部的兩側(cè);所述多個第一磁鐵與所述多個第二磁鐵一一上下相對,且各第一磁鐵分別與對應(yīng)的第二磁鐵同名磁極相對。

10、在一較佳實施例中,所述復(fù)位件包括設(shè)置在所述導(dǎo)向桿與導(dǎo)向座之間以驅(qū)使所述導(dǎo)向桿向上復(fù)位的第一復(fù)位件,以及用于驅(qū)使所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動復(fù)位的第二復(fù)位件,第二復(fù)位件設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸和/或地漏蓋與所述導(dǎo)向桿之間。

11、在一較佳實施例中,所述第一復(fù)位件為第一彈簧;所述第二復(fù)位件包括套裝于所述轉(zhuǎn)軸的兩個第二彈簧,兩個第二彈簧分設(shè)在所述導(dǎo)向桿的兩側(cè),且各第二彈簧的兩端設(shè)置的支腳分別限位于所述地漏蓋和導(dǎo)向桿。

12、在一較佳實施例中,所述地漏座內(nèi)設(shè)有磁鐵,該磁鐵在所述地漏蓋下移時吸引所述地漏蓋翻轉(zhuǎn)。

13、在一較佳實施例中,所述地漏蓋的四周形狀及尺寸適配于所述進水口;所述地漏蓋在第一位置時呈水平狀態(tài),且所述地漏蓋的頂面與所述地漏座的頂面平齊。

14、在一較佳實施例中,所述地漏蓋未設(shè)有下水孔,所述地漏蓋在第一位置時關(guān)閉所述進水口。

15、在一較佳實施例中,所述地漏蓋在翻轉(zhuǎn)過程中和/或第二位置未向上凸出于所述地漏座外。

16、相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明具有以下有益效果:

17、1、由于本發(fā)明的地漏蓋可活動地設(shè)置于所述地漏座內(nèi),且地漏座具有第一位置和第二位置,地漏蓋在第一位置時至少部分位于地漏座的進水口內(nèi),地漏蓋通過下移及翻轉(zhuǎn)到達第二位置,且地漏蓋在第二位置呈傾斜狀態(tài)并與地漏座之間形成排水空隙,使得本發(fā)明的地漏蓋在發(fā)生堵塞問題時可以通過下移及翻轉(zhuǎn)到第二位置進行排水,從而避免由于地漏蓋的堵塞問題導(dǎo)致地漏排水緩慢或無法排水而造成地面積水的情況發(fā)生。并且,地漏蓋在第二位置呈傾斜狀態(tài),可以增大排水空隙,提高排水效果,還可以利用水流對呈傾斜狀態(tài)的地漏蓋表面進行沖刷,減少地漏蓋表面掛污。

18、2、作為一種優(yōu)選,所述地漏蓋受水流和/或人力推動從所述第一位置切換到所述第二位置,使得地漏排水快捷,也使地漏的構(gòu)造更為簡單,免于額外設(shè)置驅(qū)動機構(gòu)。

19、3、地漏蓋通過設(shè)置轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn),并利用轉(zhuǎn)軸與地漏座之間設(shè)置導(dǎo)向結(jié)構(gòu),既不影響地漏蓋翻轉(zhuǎn),又能實現(xiàn)地漏蓋平穩(wěn)升降。

20、4、作為一種優(yōu)選,地漏蓋未設(shè)有下水孔,能夠避免地漏蓋出現(xiàn)毛發(fā)纏繞的問題,也使地漏蓋外觀更簡潔、美觀,并更易于加工成型;地漏蓋在第一位置時關(guān)閉地漏座的進水口,能夠大大提高地漏蓋的密封性能,達到隔絕下水道臭氣、飛蟲的效果,也使地漏可以無需另設(shè)地漏芯,從而解決地漏芯發(fā)生堵塞的問題。

21、5、地漏蓋在翻轉(zhuǎn)過程中和/或第二位置未向上凸出于地漏座外,可以避免地漏蓋凸出地面而帶來安全隱患(例如絆倒風(fēng)險)和美觀問題等。

22、以下結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明;但本發(fā)明的一種地漏不局限于實施例。



技術(shù)特征:

1.一種地漏,包括地漏座和地漏蓋,地漏座設(shè)有地漏腔,該地漏腔的上端設(shè)有進水口,下端設(shè)有排水口;其特征在于:所述地漏蓋可活動地設(shè)置于所述地漏座內(nèi),所述地漏蓋具有第一位置和第二位置,所述地漏蓋在第一位置時至少部分位于所述進水口內(nèi),所述地漏蓋通過下移及翻轉(zhuǎn)到達第二位置,且所述地漏蓋在第二位置呈傾斜狀態(tài)并與所述地漏座之間形成排水空隙。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地漏,其特征在于:所述地漏蓋受水流和/或人力推動從所述第一位置切換到所述第二位置;還包括設(shè)置在所述地漏蓋與地漏座之間的復(fù)位件,該復(fù)位件用于驅(qū)使所述地漏蓋從所述第二位置切換到所述第一位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的地漏,其特征在于:所述地漏蓋設(shè)有用于使其上下翻轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸,該轉(zhuǎn)軸與所述地漏座之間設(shè)有導(dǎo)向結(jié)構(gòu),以對所述地漏蓋的上下移動進行導(dǎo)向。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地漏,其特征在于:所述轉(zhuǎn)軸設(shè)為兩個,兩個轉(zhuǎn)軸同軸設(shè)置,且兩個轉(zhuǎn)軸分別凸設(shè)于所述地漏蓋側(cè)面;所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括所述地漏座的內(nèi)側(cè)面對應(yīng)各個轉(zhuǎn)軸分別設(shè)置的導(dǎo)向槽,所述導(dǎo)向槽沿上下方向延伸,所述轉(zhuǎn)軸適配滑接于所述導(dǎo)向槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的地漏,其特征在于:所述轉(zhuǎn)軸的橫截面呈扁形,所述導(dǎo)向槽包括上下分布的導(dǎo)向段和翻轉(zhuǎn)段,導(dǎo)向段對所述轉(zhuǎn)軸的上下運動進行導(dǎo)向并限制所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動,翻轉(zhuǎn)段寬于所述導(dǎo)向段,以適于所述轉(zhuǎn)軸翻轉(zhuǎn),且所述翻轉(zhuǎn)段的底端設(shè)有適于容納所述轉(zhuǎn)軸的翻轉(zhuǎn)槽,使所述轉(zhuǎn)軸以翻轉(zhuǎn)槽為支點進行翻轉(zhuǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地漏,其特征在于:所述轉(zhuǎn)軸設(shè)于所述地漏蓋的背面?zhèn)龋鰧?dǎo)向結(jié)構(gòu)包括導(dǎo)向桿和導(dǎo)向座,導(dǎo)向座設(shè)在所述地漏座內(nèi),導(dǎo)向桿可上下移動地設(shè)置于導(dǎo)向座,且導(dǎo)向桿上端連接所述轉(zhuǎn)軸。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的地漏,其特征在于:所述導(dǎo)向桿位于所述地漏座的中軸線上,所述導(dǎo)向座設(shè)為可排水的中空結(jié)構(gòu),且所述導(dǎo)向座呈可取放設(shè)置;所述導(dǎo)向桿的上端設(shè)有適配于所述轉(zhuǎn)軸的容置槽,所述轉(zhuǎn)軸置于該容置槽。

8.根據(jù)權(quán)利要求3-7中任一項所述的地漏,其特征在于:所述復(fù)位件包括設(shè)于所述地漏蓋的多個第一磁鐵和設(shè)于所述地漏座的多個第二磁鐵,所述多個第一磁鐵沿所述轉(zhuǎn)軸的軸向方向排布,且所述多個磁鐵分設(shè)在所述地漏蓋中部的兩側(cè);所述多個第一磁鐵與所述多個第二磁鐵一一上下相對,且各第一磁鐵分別與對應(yīng)的第二磁鐵同名磁極相對。

9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的地漏,其特征在于:所述復(fù)位件包括設(shè)置在所述導(dǎo)向桿與導(dǎo)向座之間以驅(qū)使所述導(dǎo)向桿向上復(fù)位的第一復(fù)位件,以及用于驅(qū)使所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動復(fù)位的第二復(fù)位件,第二復(fù)位件設(shè)在所述轉(zhuǎn)軸和/或地漏蓋與所述導(dǎo)向桿之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的地漏,其特征在于:所述第一復(fù)位件為第一彈簧;所述第二復(fù)位件包括套裝于所述轉(zhuǎn)軸的兩個第二彈簧,兩個第二彈簧分設(shè)在所述導(dǎo)向桿的兩側(cè),且各第二彈簧的兩端設(shè)置的支腳分別限位于所述地漏蓋和導(dǎo)向桿。

11.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的地漏,其特征在于:所述地漏座內(nèi)設(shè)有磁鐵,該磁鐵在所述地漏蓋下移時吸引所述地漏蓋翻轉(zhuǎn)。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的地漏,其特征在于:所述地漏蓋的四周形狀及尺寸適配于所述進水口;所述地漏蓋在第一位置時呈水平狀態(tài),且所述地漏蓋的頂面與所述地漏座的頂面平齊。

13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的地漏,其特征在于:所述地漏蓋未設(shè)有下水孔,所述地漏蓋在第一位置時關(guān)閉所述進水口。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地漏,其特征在于:所述地漏蓋在翻轉(zhuǎn)過程中和/或第二位置未向上凸出于所述地漏座外。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種地漏,包括地漏座和地漏蓋,地漏座設(shè)有地漏腔,該地漏腔的上端設(shè)有進水口,下端設(shè)有排水口;所述地漏蓋可活動設(shè)置于所述地漏座內(nèi),所述地漏蓋具有第一位置和第二位置,所述地漏蓋在第一位置時至少部分位于所述進水口內(nèi),所述地漏蓋通過下移及翻轉(zhuǎn)到達第二位置,且所述地漏蓋在第二位置呈傾斜狀態(tài)并與所述地漏座之間形成排水空隙。本發(fā)明的地漏蓋在發(fā)生堵塞問題時可以通過下移及翻轉(zhuǎn)到第二位置進行排水,從而避免由于地漏蓋的堵塞問題導(dǎo)致地漏排水緩慢或無法排水而造成地面積水的情況發(fā)生。

技術(shù)研發(fā)人員:林孝發(fā),林孝山,林曉偉,江喜來,陳名豪,潘惠珍
受保護的技術(shù)使用者:九牧廚衛(wèi)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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