1.一種用于對通過在由曝光設(shè)備(59)執(zhí)行的曝光過程的框架內(nèi)復(fù)制母版hoe(92)來生產(chǎn)全息光學(xué)元件hoe的生產(chǎn)方法進(jìn)行配置的方法,其中,在該曝光過程中,該母版hoe(92)的載體層沿著該hoe(96)的載體層布置,
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,該方法還包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中,該方法還包括:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中,該方法還包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中,該方法還包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,
10.一種設(shè)備,包括至少一個(gè)處理器和存儲(chǔ)器,其中,該至少一個(gè)處理器被配置為從該存儲(chǔ)器加載程序代碼并且執(zhí)行該程序代碼,