1.一種正型抗蝕劑材料，含有：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑材料，其中，重復(fù)單元a為下式(a)表示者；
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型抗蝕劑材料，其中，該基礎(chǔ)聚合物含有選自羧基的氫原子被酸不穩(wěn)定基團(tuán)取代的重復(fù)單元b1及酚性羥基的氫原子被酸不穩(wěn)定基團(tuán)取代的重復(fù)單元b2中的至少1種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型抗蝕劑材料，其中，重復(fù)單元b1為下式(b1)表示者，重復(fù)單元b2為下式(b2)表示者；
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型抗蝕劑材料，其中，該基礎(chǔ)聚合物含有含選自羥基、羧基、內(nèi)酯環(huán)、碳酸酯鍵、硫代碳酸酯鍵、羰基、環(huán)狀縮醛基、醚鍵、酯鍵、磺酸酯鍵、氰基、酰胺鍵、-o-c(＝o)-s-及-o-c(＝o)-nh-的密合性基團(tuán)的重復(fù)單元c。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型抗蝕劑材料，其中，該基礎(chǔ)聚合物含有選自下式(d1)表示的重復(fù)單元、下式(d2)表示的重復(fù)單元、下式(d3)表示的重復(fù)單元、下式(d4)表示的重復(fù)單元及下式(d5)表示的重復(fù)單元中的至少1種；
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型抗蝕劑材料，更含有產(chǎn)生強(qiáng)酸的酸產(chǎn)生劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型抗蝕劑材料，更含有有機(jī)溶劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型抗蝕劑材料，更含有淬滅劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型抗蝕劑材料，更含有表面活性劑。
11.一種圖案形成方法，包含下列步驟：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的圖案形成方法，其中，該高能射線為i射線、krf準(zhǔn)分子激光、arf準(zhǔn)分子激光、電子束或波長(zhǎng)3～15nm的極紫外線。