本申請要求于2015年8月31日提交的第10-2015-0123039號韓國專利申請的優(yōu)先權和權益，該申請的全部內容通過引用并入本文。

技術領域

本公開的實施方式的各方面涉及拋光設備。

背景技術：

通常，用作顯示裝置的窗襯底的襯底由鋼化玻璃或塑料制成。為了獲得期望的光學性質(即，襯底的設計和透明度)，襯底需要具有均勻的表面平整度。

近年來，由于對彎曲顯示裝置的需求的增加，存在對均勻加工彎曲襯底的表面的需要。然而，傳統(tǒng)的拋光設備在基本上垂直于襯底的方向上將壓力施加至襯底，并且因此，襯底的彎曲表面無法被均勻拋光。

技術實現要素：

本公開的示例性實施方式的各方面提供了能夠拋光具有曲率(例如，預定的曲率)的彎曲襯底的拋光設備。

本發(fā)明構思的實施方式提供了拋光設備，該拋光設備包括架單元，該架單元包括具有放置表面的襯底支承部，放置表面被配置為其上待放置具有第一曲率的襯底，放置表面具有與第一曲率對應的第二曲率；以及拋光單元，該拋光單元包括至少一個拋光部，該至少一個拋光部旋轉以拋光襯底的加工表面。

第一曲率可與第二曲率基本上相等。

架單元還可包括旋轉臺和架驅動部，其中，襯底支承部放置在旋轉臺上，架驅動部使旋轉臺旋轉。

拋光單元還可包括拋光驅動部以使拋光部旋轉。

拋光單元還可包括旋轉板和聯(lián)接構件，其中，旋轉板位于拋光部之上以保持拋光部，聯(lián)接構件連接拋光部和旋轉板。

聯(lián)接構件可用作使拋光部旋轉的旋轉軸。

聯(lián)接構件可與加工表面基本上平行地安置。

襯底支承部可包括多個真空抽吸入口以保持襯底。

襯底支承部可具有基本上圓柱形形狀，該基本上圓柱形形狀具有與第二曲率對應的半徑以及限定在其中的空的空間。

襯底支承部可具有基本上圓柱形形狀，該基本上圓柱形形狀具有與第二曲率對應的半徑，并且該半徑可比圓柱形形狀的高度大。

襯底支承部可在第一方向上旋轉，并且拋光部可在與第一方向相反的方向上旋轉。

拋光設備還可包括驅動部以使架單元旋轉。襯底支承部可包括多個凹口，該多個凹口形成于襯底支承部的內圓周表面和外圓周表面中的一個中且以規(guī)則的間隔布置。驅動部可包括驅動齒輪，該驅動齒輪包括分別插入多個凹口中的多個突出物。

多個襯底支承部可彼此堆疊地設置。

拋光部可包括具有圓柱形形狀的本體和位于本體的外圓周表面上的拋光層。

拋光層可以是拋光片、拋光墊、刷或海綿。

拋光部可包括第一子拋光部和第二子拋光部，其中，第一子拋光部具有基本上圓柱形形狀且位于拋光部的中間部分處，第二子拋光部從第一子拋光部延伸且包括臺階狀部分。第二子拋光部可具有比第一子拋光部的圓周大的圓周。

第二子拋光部可與第一子拋光部的上部和/或下部相鄰。

拋光層可包括在第一子拋光部中的第一拋光層和在第二子拋光部中的第二拋光層。第一拋光層與第二拋光層可具有不同的表面粗糙度。

根據以上所述，拋光設備包括具有放置表面的襯底支承部，具有第一曲率的襯底放置在放置表面上，并且放置表面具有與第一曲率對應的第二曲率。因此，襯底的彎曲表面可被均勻地拋光。另外，因為加工的襯底與拋光部平行，所以可防止外來物質在拋光加工期間進入襯底中。

附圖說明

當結合附圖考慮時，通過參照以下詳細描述，本公開的上述及其它優(yōu)點將變得顯而易見，在附圖中：

圖1是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備的立體圖；

圖2是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備的立體圖；

圖3是示出了圖2中所示的拋光設備的襯底支承部和拋光部的立體圖；

圖4是示出了圖2中所示的拋光設備的襯底支承部和襯底的布置的立體圖；

圖5是圖2中所示的拋光設備的剖視圖；

圖6是圖2中所示的拋光設備的平面圖；

圖7是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備的立體圖；

圖8A和圖8B是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的襯底支承部的布置的立體圖和剖視圖；

圖9是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備的立體圖；

圖10是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備的立體圖；

圖11A是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光部的立體圖；

圖11B是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光部的立體圖；以及

圖11C是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的、由圖11B中所示的拋光部拋光的襯底的視圖。

具體實施方式

參照附圖的以下描述被提供以幫助全面理解如由權利要求及其等同限定的本公開的多種實施方式。以下描述包括多種具體細節(jié)以幫助理解，但是這些具體細節(jié)將被認為僅是示例性的。因此，本領域普通技術人員將認識到，在不背離本公開的范圍和精神的情況下，可進行本文中所描述的多種實施方式的多種改變和修改。

在附圖中，為了清楚起見，層、膜和區(qū)域的厚度可能被夸大。在說明書全文中，相同的附圖標記指代相同的元件。將理解的是，當元件或層被稱為在另一元件或層“上”、“連接至”或“聯(lián)接至”另一元件或層時，其可直接在另一元件或層上、直接連接或聯(lián)接至另一元件或層，或者可存在介于其間的元件或層。相反，當元件被稱為“直接在”另一元件或層“上”、“直接連接至”或“直接聯(lián)接至”另一元件或層時，不存在介于其間的元件或層。另外，即使任一層的表面被示為是平的，在上層上也會根據下層表面形狀而存在臺階差。

本文中所使用的術語僅用于描述具體實施方式的目的，并不旨在限制本發(fā)明。如在本文中使用的，除非上下文清楚地另有指示，否則單數形式“一(a)”和“一(an)”也旨在包括復數形式。還將理解的是，當在本說明書中使用時，措辭“包含(comprise)”、“包含有(comprising)”、“包括(include)”以及“包括有(including)”指定所述的特征、整體、步驟、操作、元件和/或部件的存在，但是不排除一個或多個其它特征、整體、步驟、操作、元件、部件和/或它們的組的存在和添加。如在本文中使用的，措辭“和/或”包括相關的所列項中的一個或多個的任何和全部組合。當諸如“……中的至少一個(at least one of)”的表達在元件的列表之后時，修飾元件的整個列表，并不修飾列表中的單個元件。

將理解的是，雖然措辭“第一”、“第二”、“第三”等可在本文中用于描述多種元件、部件、區(qū)域、層和/或段，但是這些元件、部件、區(qū)域、層和/或段不應受這些措辭限制。這些措辭用于將一個元件、部件、區(qū)域、層或段與另一元件、部件、區(qū)域、層或段區(qū)分開。因此，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，下文所描述的第一元件、部件、區(qū)域、層或段可被稱為第二元件、部件、區(qū)域、層或段。

為了便于解釋，在本文中可使用諸如“在……下(beneath)”、“在……之下(below)”、“下(lower)”、“在……下方(under)”、“在……之上(above)”、“上(upper)”等的空間相對措辭來描述如附圖中所示的一個元件或特征與另一元件(多個元件)或特征(多個特征)的關系。將理解的是，除了附圖中描繪的定向外，空間相對措辭旨在包含裝置在使用或在操作中的不同定向。例如，如果附圖中的裝置翻轉，則描述為在其它元件或特征“之下”或“下”或“下方”的元件將定向為在其它元件或特征“之上”。因此，示例措辭“在……之下(below)”和“在……下方(under)”可包含在……之上和在……之下兩個定向。裝置可以以其它方式定向(例如，旋轉90度或處于其它定向)，并且，本文中所使用的空間相對描述語應被相應地解釋。

如本文中使用的，措辭“基本上”、“約”和類似的措辭用作近似的措辭，并非用作程度的措辭，并且旨在考慮將由本領域普通技術人員辨識的測量值或計算值上的固有偏差。而且，當描述本發(fā)明的實施方式時，“可以(may)”的使用表示“本發(fā)明的一個或多個實施方式”。如在本文中使用的，措辭“使用(use)”、“使用(using)”和“被使用(used)”可認為分別與措辭“利用(utilize)”、“利用(utilizing)”和“被利用(utilized)”同義。此外，措辭“示例性的”旨在表示示例或圖例。

除非另外限定，否則本文中使用的所有術語(包括技術術語和科學術語)具有與由本發(fā)明所屬技術領域的普通技術人員所通常理解的含義相同的含義。還將理解的是，除非本文中明確地如此限定，否則諸如常用詞典中定義的那些術語的術語應被解釋成具有與其在相關技術領域和/或本說明書的上下文中的含義一致的含義，并且不應以理想化或過于正式的含義進行解釋。

在下文中，將參照附圖詳細解釋本發(fā)明的一些示例性實施方式。

圖1是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備100A的立體圖。拋光設備100A包括架單元JU和拋光單元PU。架單元JU可包括具有放置表面的襯底支承部SP，其中，待由拋光設備100A拋光的襯底SUB可被放置(例如，附接或附著)在放置表面上。

由拋光設備100A加工的襯底SUB可以是但不限于玻璃或塑料襯底。另外，襯底SUB可包括可用于形成顯示裝置的窗襯底(例如，包括可傳輸光的透明材料的襯底)的丙烯酸樹脂或鋼化玻璃。應理解的是，待拋光的襯底SUB不限于此或由此限制。

襯底SUB可以是具有預定曲率的彎曲襯底。在一些實施方式中，例如，襯底SUB在一個方向上彎曲成具有單一曲率(例如，單一凸面形曲率或單一凹面形曲率)。拋光設備100A可用于拋光襯底SUB的前表面SUB-F(如圖4和圖11C中所示)或后表面SUB-B(如圖4和圖11C中所示)。在包括具有單一曲率的襯底SUB的實施方式中，襯底SUB的前表面SUB-F可具有凸面彎曲表面，并且襯底SUB的后表面SUB-B可具有與凸面彎曲表面相對的表面(例如，與凸面互補的形狀)。根據本示例性實施方式的拋光設備100A可加工襯底SUB的前表面SUB-F和后表面SUB-B中的至少一個。

在一些實施方式中，襯底支承部SP包括具有與彎曲襯底SUB的曲率對應的曲率的放置表面。襯底SUB固定至的放置表面可以是襯底支承部SP的內圓周表面SP-I或襯底支承部SP的外圓周表面SP-O。

襯底SUB放置于其上的、襯底支承部SP的內圓周表面SP-I或外圓周表面SP-O可以是具有與襯底SUB的曲率對應的曲率的彎曲表面。例如，在彎曲襯底SUB具有第一曲率且襯底支承部SP的放置表面具有第二曲率的實施方式中，第一曲率可與第二曲率基本上相同。另外，在襯底SUB放置于其上的放置表面是襯底支承部SP的內圓周表面SP-I的實施方式中，襯底SUB的曲率可與襯底支承部SP的內圓周表面SP-I的曲率基本上相同。在襯底SUB放置于其上的放置表面是襯底支承部SP的外圓周表面SP-O的實施方式中，襯底SUB的曲率可與襯底支承部SP的外圓周表面SP-O的曲率基本上相同。在襯底支承部SP成形為使得襯底SUB的曲率與襯底支承部SP的曲率對應的情況下，拋光單元PU可均勻地拋光襯底SUB的表面，并從而可改善拋光質量。

襯底支承部SP可具有空心圓柱形形狀。例如，在一些實施方式中，襯底支承部SP在與襯底支承部SP的高度方向垂直的方向上(例如，在基本上豎直的高度方向的水平橫截面中)具有基本上環(huán)形的橫截面。在該實施方式中，彎曲襯底SUB固定于其上的放置表面與圓柱形的內圓周表面SP-I對應。

在襯底SUB放置于其上的放置表面是內圓周表面SP-I的實施方式中，其上未放置襯底SUB的、襯底支承部SP的外圓周表面SP-O在與襯底支承部SP的高度方向垂直的方向上可具有非圓形的橫截面形狀。也就是說，襯底SUB放置于其上的、襯底支承部SP的內圓周表面SP-I可具有圓形的橫截面形狀，并且襯底支承部SP的外圓周表面SP-O可擁有具有與內圓周表面SP-I的圓形橫截面形狀不同的彎曲形狀或多邊形形狀的橫截面。

襯底支承部SP可由金屬材料形成，以防止襯底支承部SP在拋光加工期間被損壞。例如，襯底支承部SP可包括不銹鋼(SUS)。

架單元JU還可包括架驅動部JD以將力(例如，通過旋轉)施加至旋轉臺RT。架驅動部JD可連接至旋轉臺RT的旋轉軸，并且旋轉臺RT可通過經由旋轉軸施加至旋轉臺RT的力旋轉，從而使襯底支承部SP在順時針方向或逆時針方向上旋轉。

拋光單元PU可包括拋光部PP以拋光襯底SUB的表面。另外，拋光單元PU還可包括拋光驅動部PD以使拋光部PP旋轉。圖1示出了單個拋光部PP，但是拋光部PP的數量不限于一個。也就是說，拋光單元PU可包括多個拋光部PP。

圖1示出了根據一些實施方式的架驅動部JD和拋光驅動部PD，但是，在一些實施方式中，可省略架驅動部JD和拋光驅動部PD中的一個。例如，在一些實施方式中，僅使拋光部PP旋轉來加工襯底SUB，而不使襯底支承部SP布置于其上的旋轉臺RT旋轉。在該實施方式中，拋光設備100A包括選擇性地驅動拋光部PP的拋光驅動部PD，并且架驅動部JD可被省略。在使襯底支承部SP放置于其上的旋轉臺RT旋轉而不使拋光部PP旋轉的一些實施方式中，拋光設備100A可包括架驅動部JD，并且拋光驅動部PD可被省略。

另外，在拋光設備100A包括架驅動部JD和拋光驅動部PD的實施方式中，可僅需要架驅動部JD和拋光驅動部PD中的一個驅動部被操作為提供力來拋光襯底SUB。在架驅動部JD和拋光驅動部PD兩者都被操作的實施方式中，對于襯底SUB的拋光加工可被改善。

在圖1中，僅一個襯底支承部SP位于旋轉臺RT上，但襯底支承部SP的數量不限于一個。也就是說，多個襯底支承部SP可位于旋轉臺RT上。另外，襯底支承部SP可在旋轉臺RT上彼此間隔開地布置，并且多個拋光部PP可設置為分別與襯底支承部SP對應。

圖2是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備100B的立體圖，以及圖3是示出了圖2中所示的拋光設備100B的襯底支承部SP和拋光部PP的立體圖。

參照圖2，拋光設備100B包括架單元JU和拋光單元PU。架單元JU包括旋轉臺RT、位于旋轉臺RT上的襯底支承部SP以及驅動旋轉臺RT的架驅動部JD(未示出)。

根據圖2中的實施方式的拋光單元PU包括至少一個拋光部PP和附接拋光部PP的旋轉板RP。另外，聯(lián)接構件JP位于拋光部PP和旋轉板RP之間以連接拋光部PP和旋轉板RP。而且，拋光單元PU還可包括拋光驅動部PD(未示出)以驅動旋轉板RP。固定部JP-E位于聯(lián)接構件JP的一端處，且固定部JP-E位于旋轉板RP上以附接拋光部PP。

連接至拋光部PP的聯(lián)接構件JP可位于拋光部PP的上表面的中心部分處。聯(lián)接構件JP附接至拋光部PP并用作旋轉軸以使拋光部PP旋轉。另外，位于聯(lián)接構件JP的一端(例如，頂端)處的固定部JP-E可插入穿過旋轉板RP形成的聯(lián)接孔RP-H中并附接至旋轉板RP。

因為拋光部PP通過固定部JP-E附接，所以在拋光部PP與襯底SUB的待拋光的表面(襯底SUB的“加工表面”)之間可存在設定的距離(例如，間隙)。例如，在拋光部PP更靠近襯底SUB的加工表面的實施方式中，壓力可被施加至襯底SUB的加工表面。

在描繪拋光設備100B的實施方式中，拋光部PP與襯底SUB的加工表面基本上平行。用作拋光部PP的旋轉軸的聯(lián)接構件JP也與襯底SUB的加工表面基本上平行。因此，拋光部PP可與襯底SUB在襯底支承部SP上所處的位置無關地被均勻地提供至襯底SUB的加工表面，并因此，拋光質量可在整個襯底SUB中變得均勻。另外，拋光部PP可沿著襯底SUB的加工表面的彎曲表面被提供至襯底SUB的整個表面。在襯底SUB的加工表面與用作旋轉軸的聯(lián)接構件JP基本上平行的實施方式中，在襯底拋光加工期間產生的拋光殘留物可向下排出并從襯底SUB的加工表面移除。因此，可防止出現由拋光加工所引起的質量上的缺陷。

根據圖1至圖3，拋光設備100A和100B的架單元JU和拋光單元PU中的一個可被固定，并且另一單元可旋轉以實現襯底SUB的期望的拋光度。另外，架單元JU可在第一方向RD1(即，順時針或逆時針)上旋轉，并且拋光單元PU可在與第一方向RD1相反的方向RD2上旋轉。例如，架單元JU可在逆時針方向上旋轉，并且拋光單元PU可在順時針方向上旋轉，反之亦然。而且，拋光單元PU和架單元JU可以以不同的速度旋轉。

圖4是示出了圖2中所示的拋光設備100B的襯底支承部SP和襯底SUB的布置的立體圖。參照圖4，襯底支承部SP可包括底部表面SP-B和側表面SP-S，并可具有基本上空心圓柱形形狀。另外，襯底支承部SP可具有恒定厚度T₁。在一些實施方式中，可省略底部表面SP-B。

另外，襯底支承部SP可通過具有半徑R₂₁的內圓周表面SP-I和具有半徑R₂₂的外圓周表面SP-O來具有環(huán)形橫截面形狀。襯底支承部SP的圓柱形形狀的高度H₂可比襯底支承部SP的半徑R₂₁和R₂₂的長度短。

如圖4中所示，在襯底SUB放置在襯底支承部SP的內圓周表面SP-I上的實施方式中，內圓周表面SP-I的半徑R₂₁可與襯底SUB的半徑R₁₁基本上相等。在襯底SUB放置在襯底支承部SP的外圓周表面SP-O上的實施方式中，外圓周表面SP-O的半徑R₂₂可與襯底SUB的半徑R₁₁基本上相等。

襯底支承部SP可具有比襯底支承部SP的高度H₂大的半徑R₂₁和/或半徑R₂₂。在這種實施方式中，多個襯底SUB可布置在襯底支承部SP的內圓周表面SP-I或外圓周表面SP-O上。

圖5是圖2中所示的拋光設備100B的剖視圖，以及圖6是圖2中所示的拋光設備100B的平面圖。

參照圖5和圖6，拋光設備100B的襯底支承部SP可包括多個真空抽吸入口SP-H。例如，襯底SUB可使用真空被附接，其中，真空由通過真空抽吸入口SP-H抽吸空氣產生。

另外，拋光部PP可通過聯(lián)接構件JP連接至旋轉板RP。位于聯(lián)接構件JP的一端部處的固定部JP-E位于旋轉板RP上，以將拋光部PP附接至旋轉板RP。固定部JP-E可在穿過旋轉板RP形成的聯(lián)接孔RP-H中移動(例如，以相對于襯底SUB重新定位拋光部PP)。例如，附接至聯(lián)接孔RP-H的固定部JP-E的位置可基于拋光部PP的尺寸(例如，拋光部PP的直徑)確定。

在下文中，將參照圖7至圖10詳細描述根據一些示例性實施方式的拋光設備。與前述實施方式中的各部或部分相同或類似的各部或部分將用相同的附圖標記來描述，并且不重復其描述。

圖7是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備100C的立體圖。

在圖7中所示的拋光設備100C中，具有彎曲表面的襯底SUB附接至襯底支承部SP的外圓周表面SP-O。在該實施方式中，放置襯底SUB的放置表面與襯底支承部SP的外圓周表面SP-O對應，并且襯底SUB的加工表面對外部暴露。

在圖7中的實施方式中，襯底支承部SP具有基本上圓柱形形狀。具體地，襯底支承部SP在與襯底支承部SP的高度方向垂直的橫截面中(例如，在基本上豎直的高度方向的水平橫截面中)具有基本上圓形形狀，并且圓形形狀的半徑比襯底支承部SP的高度長。在襯底SUB附接至襯底支承部SP的外圓周表面SP-O的實施方式中，襯底支承部SP可具有基本上空心圓柱形形狀。

圖7中的實施方式中的拋光部PP面對附接至外圓周表面SP-O的襯底SUB，并且允許拋光部PP的聯(lián)接構件JP與襯底SUB的加工表面基本上平行。另外，在襯底SUB附接至襯底支承部SP的外圓周表面SP-O的實施方式中，拋光部PP附接至的旋轉板RP的圓周可比襯底支承部SP的圓周大。

根據圖1至圖7中所示的拋光設備，襯底支承部SP成形為允許襯底SUB的曲率與襯底SUB附接至的襯底支承部SP的曲率對應。因此，拋光部PP可沿襯底SUB的彎曲表面均勻地拋光襯底SUB的表面，并從而可對于襯底SUB的彎曲表面實現均勻的拋光質量。

另外，因為拋光部PP與襯底SUB的加工表面基本上平行，所以在襯底拋光加工期間產生的拋光殘留物可向下排出并從襯底SUB的加工表面移除。因此，可防止出現由拋光加工所引起的質量上的缺陷。

圖8A和圖8B是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的襯底支承部SP的布置的立體圖和剖視圖。

參照圖8A和圖8B，架單元JU可包括多個襯底支承部SP。襯底支承部SP可彼此間隔開或可定位成使得襯底支承部SP的上表面和下表面彼此相鄰。如圖8A中所示，每個襯底支承部SP可具有沒有上表面和下表面的基本上空心圓柱形形狀。

在拋光設備包括多個襯底支承部SP的實施方式中，拋光單元PU的拋光部PP可具有足夠長以基本上同時拋光位于多個襯底支承部SP上的襯底SUB的高度H₁。例如，拋光部PP的高度H₁可與彼此堆疊的多個襯底支承部SP的總高度對應。如圖8A和圖8B中所示，當多個襯底支承部SP彼此堆疊時，多個襯底SUB基本上同時被加工，并從而可改善拋光設備的生產率并可均勻地維持襯底SUB的表面的拋光質量。

圖9是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備100D的立體圖。

與圖2中所示出的襯底支承部SP不同，如圖9中所示，襯底支承部SP可在豎直方向上布置。在該實施方式中，架驅動部JD可相對于襯底支承部SP安置在左側或右側。

另外，如圖9中所示，拋光驅動部PD可相對于拋光部PP位于左側或右側。例如，在存在有限的空間來安裝拋光設備100D的實施方式中，如圖9中所示，襯底支承部SP可在豎直方向上布置。

圖10是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光設備100E的立體圖。

參照圖10，拋光設備100E包括拋光單元PU和架單元JU。架單元JU還包括驅動部，且驅動部可包括驅動齒輪JD-G。在該實施方式中，驅動部可以是架驅動部JD(例如，用于施加力以使旋轉臺RT旋轉)。

拋光設備100E包括襯底SUB附接至的襯底支承部SP，并且襯底支承部SP可包括形成于內圓周表面SP-I或外圓周表面SP-O中且以固定間隔布置的多個凹口SP-R。例如，襯底SUB可放置在襯底支承部SP的內圓周表面SP-I上，并且凹口SP-R可形成于襯底支承部SP的外圓周表面SP-O中。

另外，驅動齒輪JD-G可包括多個突出物GP，且突出物GP可分別插入形成于襯底支承部SP中的凹口SP-R中。在該實施方式中，具有驅動齒輪JD-G的架驅動部JD可根據形成于襯底支承部SP中的凹口SP-R的位置位于襯底支承部SP的內部或外部。

襯底支承部SP可通過包括驅動齒輪JD-G的架驅動部JD旋轉。也就是說，在驅動齒輪JD-G旋轉時，形成于驅動齒輪JD-G上的突出物GP可順序地插入襯底支承部SP的凹口SP-R中，并從而使襯底支承部SP旋轉。

在圖10中的本示例性實施方式中，拋光單元PU還可包括單獨的拋光驅動部PD(未示出)。因此，由于驅動齒輪JD-G的操作，可使襯底支承部SP旋轉，并且可固定拋光部PP以拋光襯底SUB的表面。另外，可使襯底支承部SP和拋光部PP同時旋轉以拋光襯底SUB的表面。

圖11A是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光部PP的立體圖。

參照圖11A，拋光部PP包括本體PP-B和圍繞本體PP-B的拋光層PP-S。本體PP-B可包括金屬材料以維持拋光部PP的形狀，但是不限于此或由此限制。本體PP-B可包括穿過本體PP-B的中心部分形成的孔PP-H，其中，聯(lián)接構件JP可插至孔PP-H。另外，圍繞拋光部PP的本體PP-B的拋光層PP-S可具有預定的厚度。

例如，拋光層PP-S可以是但不限于拋光片、拋光墊、刷或海綿。另外，拋光片或拋光墊可通過模制包括拋光顆粒的樹脂層形成。用于拋光層PP-S的材料可根據襯底SUB的加工表面所需的拋光度來選擇。

圖11B是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的拋光部PP的立體圖，以及圖11C是示出了根據本公開的一些示例性實施方式的、通過圖11B中所示的拋光部PP拋光的襯底SUB的視圖。

參照圖11B，拋光部PP包括本體PP-B和圍繞本體PP-B的拋光層PP-S。另外，拋光部PP具有基本上圓柱形形狀，并且包括位于拋光部PP的中間部分處的第一子拋光部PP-1和從第一子拋光部PP-1延伸且具有臺階狀部分PP-ST的第二子拋光部PP-2。第二子拋光部PP-2可與第一子拋光部PP-1的上部和/或下部相鄰。

第二子拋光部PP-2可具有比第一子拋光部PP-1的圓周大的圓周。另外，第二子拋光部PP-2的臺階狀部分PP-ST可具有根據襯底SUB的形狀而改變的可變的形狀。例如，在如圖11C中所示的、襯底SUB的邊緣具有曲率SUB-R的實施方式中，拋光部PP的第二子拋光部PP-2可具有與襯底SUB的邊緣的曲率SUB-R對應的臺階狀部分PP-ST。

拋光層PP-S在第一子拋光部PP-1和第二子拋光部PP-2中圍繞本體PP-B。另外，拋光層PP-S可在第二子拋光部PP-2上定位為允許本體PP-B的一部分被暴露。

拋光層PP-S可包括在第一子拋光部PP-1中的第一拋光層PP-S1和在第二子拋光部PP-2中的第二拋光層PP-S2。第一拋光層PP-S1和第二拋光層PP-S2可由相同的材料制成，但是不限于此或由此限制。例如，第一拋光層PP-S1和第二拋光層PP-S2可根據襯底的形狀具有彼此不同的表面粗糙度。

在一些實施方式中，拋光設備可包括單獨的拋光液供給部。拋光液可包括含有拋光顆粒的材料并且可用于允許拋光加工平滑地進行。拋光液可被提供至拋光部PP與襯底SUB之間的空間。

拋光設備可用于加工具有曲率的襯底SUB的表面，并從而可改善襯底SUB的表面的拋光質量。具體地，具有曲率的襯底SUB附接至的襯底支承部SP可成形為具有與襯底SUB的曲率對應的曲率。因此，拋光部PP可旋轉成與襯底SUB的彎曲形狀對應，并從而襯底SUB的表面可被均勻地拋光。因此，對于襯底SUB的彎曲表面，可實現均勻的拋光質量。

另外，因為具有相同曲率的多個襯底SUB可附接至襯底支承部SP，所以襯底SUB的表面可被基本上同時加工，并且拋光設備的生產率可被改善。而且，因為襯底SUB的加工表面與拋光部PP基本上平行，所以在襯底拋光加工期間產生的例如拋光殘留物的外來物質可向下排出并從襯底SUB的加工表面移除。因此，可防止出現由拋光加工引起的質量上的缺陷。

雖然已描述了本發(fā)明的示例性實施方式，但是應理解的是，本發(fā)明不限于這些示例性實施方式，并且在如以下權利要求所要求的本發(fā)明的精神和范圍內，本領域普通技術人員可進行多種改變和修改。

參照附圖的以上描述被提供以幫助全面理解如由權利要求及其等同所限定的本公開的多種實施方式。以上描述包括多種具體細節(jié)以幫助理解，但是這些具體細節(jié)將被認為僅是示例性的。因此，本領域普通技術人員將認識到，在不背離本公開的范圍和精神的情況下，可進行本文中所描述的多種實施方式的多種改變和修改。