技術(shù)特征：

1.一種提高磁控濺射鍍膜均勻性及穩(wěn)定性的靶材基座，包括用于放置靶材（1）的基座（3），其特征在于，在所述基座（3）下部安裝可使基座（3）旋轉(zhuǎn)用于調(diào)整高度的電機(jī)（7），電機(jī)（7）的傳動(dòng)桿（5）的一端伸入基座（3）下部螺紋連接，且通過螺母（6）鎖緊。