本實(shí)用新型涉及電弧離子鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電弧離子鍍設(shè)備的雙靶結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

真空涂層設(shè)備中，由于空間的限制，常規(guī)的涂層設(shè)備均采用兩列平行的蒸發(fā)源結(jié)構(gòu)，一列蒸發(fā)源用來裝轟擊及打底層的靶材，比如Ti靶或Cr靶，另一列裝需要涂層的靶材，比如TiAl或CrAl靶材，這樣會限制了涂層種類，一般只能涂一種復(fù)合膜，同時由于涂層階段只有一列靶工作，涂層效率較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供了一種電弧離子鍍設(shè)備的雙靶結(jié)構(gòu)。在真空涂層設(shè)備中，采用獨(dú)特的雙靶結(jié)構(gòu)，可以增加涂層種類，提高涂層效率，相同功能下降低涂層設(shè)備的造價(jià)。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供的一種電弧離子鍍設(shè)備的雙靶結(jié)構(gòu)。在一個蒸發(fā)源法蘭設(shè)置兩個靶位，在兩個靶位中間，設(shè)置一臺弧電源，即同一個蒸發(fā)源共用一臺弧電源。

優(yōu)選的，每個靶位上裝配平行的兩列靶材位，即可同時裝配4列平行的靶材位。

優(yōu)選的，除了打底和轟擊靶材位以外，剩余三列靶材位中的兩列裝相同的涂層靶材。

優(yōu)選的，除了打底和轟擊靶材位以外，剩余三列靶材位裝不同的靶材。

有益效果：涂層相同的涂層厚度，比如涂層厚度3微米，涂層時候從360min縮短到200min；可以擴(kuò)展涂層種類，復(fù)合膜從2種材料擴(kuò)展到4種材料；可以減少更換靶材的時間，提高工作效率。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種電弧離子鍍設(shè)備的雙靶結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型解決的技術(shù)問題、采用的技術(shù)方案和達(dá)到的技術(shù)效果更加清楚，下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用于解釋本實(shí)用新型，而非對本實(shí)用新型的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本實(shí)用新型相關(guān)的部分而非全部內(nèi)容。

請參照圖1，本實(shí)施例的電弧離子鍍設(shè)備的雙靶結(jié)構(gòu)，在一個蒸發(fā)源法蘭1設(shè)置兩個靶位2，在兩個靶位2中間，設(shè)置一臺弧電源3，即同一個蒸發(fā)源共用一臺弧電源3。

每個靶位2上裝配平行的兩列靶材位，即可同時裝配4列平行的靶材位。

除了打底和轟擊靶材位以外，剩余三列靶材位中的兩列裝相同的涂層靶材，例如TiAl靶材，這樣可以有效地提高涂層效率。

除了打底和轟擊靶材位以外，剩余三列靶材位裝不同的靶材。除了打底和轟擊靶材以外，剩余3列靶材位，也可以裝3種不同的靶材，可以擴(kuò)展涂層的種類。

最后應(yīng)說明的是：以上各實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述各實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的范圍。