技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電弧離子鍍?cè)O(shè)備的雙靶結(jié)構(gòu)。在一個(gè)蒸發(fā)源法蘭設(shè)置兩個(gè)靶位，在兩個(gè)靶位中間，設(shè)置一臺(tái)弧電源，即同一個(gè)蒸發(fā)源共用一臺(tái)弧電源。涂層相同的涂層厚度，比如涂層厚度3微米，涂層時(shí)候從360min縮短到200min；可以擴(kuò)展涂層種類，復(fù)合膜從2種材料擴(kuò)展到4種材料；可以減少更換靶材的時(shí)間，提高工作效率。

技術(shù)研發(fā)人員：盧國(guó)英;石昌侖;石武昌;蘭睿
受保護(hù)的技術(shù)使用者：常州夸克涂層科技有限公司
文檔號(hào)碼：201620703421
技術(shù)研發(fā)日：2016.07.05
技術(shù)公布日：2016.12.14