夾持設(shè)備及其工作方法、磁控濺射裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種夾持設(shè)備及其工作方法、磁控濺射裝置，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍；所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離；所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)；所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)更換處理單元時(shí)將所述濺射腔室與處理單元分離。本發(fā)明提供的技術(shù)方案使用夾持機(jī)構(gòu)通過半自動(dòng)方式固定濺射腔室與靶材，在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。
【專利說明】
夾持設(shè)備及其工作方法、磁控濺射裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種夾持設(shè)備及其工作方法、磁控濺射
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的磁控濺射裝置使用螺絲固定濺射腔室與靶材，因此現(xiàn)有的磁控濺射裝置使用的螺絲數(shù)量較多。磁控濺射裝置需要頻繁更換靶材，由于拆卸和安裝過程需要人工緊固螺絲，會(huì)造成數(shù)量較多的顆粒，從而影響真空鍍膜質(zhì)量。另外，在拆卸和安裝過程之中，緊固螺絲時(shí)經(jīng)常出現(xiàn)螺絲帽斷掉，取出損壞螺絲需要較長時(shí)間，導(dǎo)致濺射工藝的延誤，最終影響真空鍍膜效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為解決上述問題，本發(fā)明提供一種夾持設(shè)備及其工作方法、磁控濺射裝置，至少部分解決現(xiàn)有技術(shù)由于使用螺絲堅(jiān)固，導(dǎo)致更換靶材影響真空鍍膜質(zhì)量和效率的問題。
[0004]為此，本發(fā)明提供一種夾持設(shè)備，包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍；
[0005]所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離；
[0006]所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)；
[0007]所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)更換處理單元時(shí)將所述濺射腔室與處理單元分離。
[0008]可選的，所述夾持機(jī)構(gòu)包括固定板和多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，所述凸起結(jié)構(gòu)固定設(shè)置在所述固定板上，所述處理單元上設(shè)置有多個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)，所述濺射腔室上設(shè)置有多個(gè)過孔，所述過孔與所述凹槽結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述凸起結(jié)構(gòu)通過所述過孔與所述凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，以使所述濺射腔室與處理單元固定或者分離。
[0009]可選的，所述處理單元包括靶材、絕緣板、冷卻層以及平面防著板。
[0010]可選的，所述凸起結(jié)構(gòu)的數(shù)量為3個(gè)，所述平面防著板設(shè)置在所述冷卻層上，所述冷卻層設(shè)置在所述絕緣板上，所述絕緣板設(shè)置在所述靶材上，所述3個(gè)凸起結(jié)構(gòu)分別與設(shè)置在所述靶材、絕緣板以及冷卻層上的凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，以使所述濺射腔室分別與所述靶材、絕緣板以及冷卻層固定或者分離。
[0011 ]可選的，所述夾持機(jī)構(gòu)的數(shù)量為8個(gè)。
[0012]可選的，所述8個(gè)夾持機(jī)構(gòu)平均分成4組，所述4組夾持機(jī)構(gòu)分別均勻設(shè)置在所述濺射腔室的四周。
[0013]可選的，所述升降機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)單元和控制單元，所述驅(qū)動(dòng)單元與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述控制單元與所述驅(qū)動(dòng)單元連接；
[0014]所述驅(qū)動(dòng)單元用于在所述控制單元的控制之下驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降。
[0015]可選的，所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸、電機(jī)以及升降平臺(tái)，所述控制單元包括電磁閥、第一感應(yīng)器以及第二感應(yīng)器，所述氣缸與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述電磁閥與所述氣缸連接，所述升降平臺(tái)分別與所述氣缸和所述電機(jī)連接，所述第一感應(yīng)器和所述第二感應(yīng)器設(shè)置在所述升降平臺(tái)與所述電機(jī)之間；
[0016]所述第一感應(yīng)器用于控制所述升降平臺(tái)上升的最高位置；
[0017]所述第二感應(yīng)器用于控制所述升降平臺(tái)下降的最低位置。
[0018]可選的，所述夾持機(jī)構(gòu)的外部設(shè)置有絕緣材料層。
[0019]可選的，所述絕緣材料層的構(gòu)成材料為聚四氟乙烯。
[°02°] 可選的，所述絕緣材料層的厚度范圍為1.5cm-5cm。
[0021]可選的，所述絕緣材料層的厚度為10cm。
[0022]本發(fā)明還提供一種磁控濺射裝置，包括上述任一夾持設(shè)備。
[0023]本發(fā)明還提供一種夾持設(shè)備的工作方法，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍；
[0024]所述夾持設(shè)備的工作方法包括:
[0025]所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離；
[0026]當(dāng)進(jìn)行派射工藝時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)將所述派射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)；
[0027]當(dāng)更換處理單元時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)將所述濺射腔室與處理單元分離。
[0028]可選的，所述升降機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)單元和控制單元，所述驅(qū)動(dòng)單元與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述控制單元與所述驅(qū)動(dòng)單元連接；
[0029]所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降的步驟包括:
[0030]所述驅(qū)動(dòng)單元在所述控制單元的控制之下驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降。
[0031]可選的，所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸、電機(jī)以及升降平臺(tái)，所述控制單元包括電磁閥、第一感應(yīng)器以及第二感應(yīng)器，所述氣缸與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述電磁閥與所述氣缸連接，所述升降平臺(tái)分別與所述氣缸和所述電機(jī)連接，所述第一感應(yīng)器和所述第二感應(yīng)器設(shè)置在所述升降平臺(tái)與所述電機(jī)之間；
[0032]所述夾持設(shè)備的工作方法還包括:
[0033]所述第一感應(yīng)器控制所述升降平臺(tái)上升的最高位置；
[0034]所述第二感應(yīng)器控制所述升降平臺(tái)下降的最低位置。
[0035]本發(fā)明具有下述有益效果:
[0036]本發(fā)明提供的夾持設(shè)備及其工作方法、磁控濺射裝置之中，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍；所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離;所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)；所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)更換處理單元時(shí)將所述濺射腔室與處理單元分離。本發(fā)明提供的技術(shù)方案使用夾持機(jī)構(gòu)通過半自動(dòng)方式固定濺射腔室與靶材，在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。本發(fā)明提供的技術(shù)方案使用機(jī)械加緊，方便快捷，操作簡單，能夠節(jié)省拆卸和安裝螺絲需要耗費(fèi)的時(shí)間，從而提高了真空鍍膜效率。
【附圖說明】
[0037]圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種夾持設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖2為圖1所示夾持設(shè)備的俯視圖；
[0039]圖3為圖1所示夾持機(jī)構(gòu)的立體圖；
[0040]圖4為圖3所示夾持機(jī)構(gòu)的截面圖；
[0041 ]圖5為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種夾持設(shè)備的工作方法的流程圖；
[0042]圖6-10為實(shí)施例三中更換靶材的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0043]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明提供的夾持設(shè)備及其工作方法、磁控濺射裝置進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0044]實(shí)施例一
[0045]圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種夾持設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖1所示夾持設(shè)備的俯視圖。如圖1和圖2所示，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)201，所述夾持機(jī)構(gòu)201固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)201設(shè)置在濺射腔室(圖中未示出)的周圍。所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)201上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)201與所述濺射腔室固定或者分離。當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)201將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)，當(dāng)更換處理單元時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)201將所述濺射腔室與處理單元分離，從而通過半自動(dòng)方式固定濺射腔室與靶材，在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。
[0046]本實(shí)施例中，所述處理單元包括靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板1I。圖3為圖1所示夾持機(jī)構(gòu)的立體圖。如圖3所示，所述夾持機(jī)構(gòu)201包括固定板202和多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)203，所述凸起結(jié)構(gòu)203固定設(shè)置在所述固定板202上，所述處理單元上設(shè)置有多個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)，所述濺射腔室上設(shè)置有多個(gè)過孔，所述過孔與所述凹槽結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述凸起結(jié)構(gòu)通過所述過孔與所述凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，以使所述濺射腔室與處理單元固定或者分離。本實(shí)施例使用凸起結(jié)構(gòu)與凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，以使所述濺射腔室與處理單元固定或者分離，從而避免使用螺絲連接固定。因此，本實(shí)施例提供的技術(shù)方案使用機(jī)械加緊，方便快捷，操作簡單，能夠節(jié)省拆卸和安裝螺絲需要耗費(fèi)的時(shí)間，從而提高了真空鍍膜效率。
[0047]參見圖1和圖3，所述凸起結(jié)構(gòu)的數(shù)量為3個(gè)，所述平面防著板101設(shè)置在所述冷卻層102上，所述冷卻層102設(shè)置在所述絕緣板103上，所述絕緣板103設(shè)置在所述靶材104上，所述靶材104的下方設(shè)置有磁鐵105。當(dāng)進(jìn)行濺射工藝或者更換處理單元時(shí)，第一個(gè)凸起結(jié)構(gòu)與設(shè)置在所述靶材104上的凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，第二個(gè)凸起結(jié)構(gòu)與設(shè)置在所述絕緣板103上的凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，第三個(gè)凸起結(jié)構(gòu)與設(shè)置在所述冷卻層102上的凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，從而使得所述濺射腔室分別與所述靶材、絕緣板以及冷卻層固定或者分離，可以在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。
[0048]參見圖2，所述夾持機(jī)構(gòu)的數(shù)量為8個(gè)，這8個(gè)夾持機(jī)構(gòu)平均分成4組，每組包含兩個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述4組夾持機(jī)構(gòu)分別均勻設(shè)置在所述濺射腔室的四周。均勻分布的夾持機(jī)構(gòu)使得所述濺射腔室與所述處理單元的受力更加均勻，可以提高真空鍍膜效率。
[0049]圖4為圖3所示夾持機(jī)構(gòu)的截面圖。如圖4所示，所述夾持機(jī)構(gòu)的外部設(shè)置有絕緣材料層204。優(yōu)選的，所述絕緣材料層的構(gòu)成材料為聚四氟乙烯。本實(shí)施例中，所述絕緣材料層204的厚度范圍為1.5cm-5cm。優(yōu)選的，所述絕緣材料層204的厚度為10cm。本實(shí)施例使用絕緣材料層204保證夾持機(jī)構(gòu)201與濺射裝置之間的絕緣性，從而避免影響真空鍍膜效果。
[0050]參見圖1，所述升降機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)單元和控制單元，所述驅(qū)動(dòng)單元與所述夾持機(jī)構(gòu)201固定連接，所述控制單元與所述驅(qū)動(dòng)單元連接。所述驅(qū)動(dòng)單元在所述控制單元的控制之下驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降?？蛇x的，所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸301、電機(jī)302以及升降平臺(tái)303，所述控制單元包括電磁閥304、第一感應(yīng)器305以及第二感應(yīng)器306，所述氣缸301與所述夾持機(jī)構(gòu)201固定連接，所述電磁閥304與所述氣缸301連接，所述升降平臺(tái)303分別與所述氣缸301和所述電機(jī)302連接，所述第一感應(yīng)器305和所述第二感應(yīng)器306設(shè)置在所述升降平臺(tái)303與所述電機(jī)302之間。所述第一感應(yīng)器305控制所述升降平臺(tái)上升的最高位置，所述第二感應(yīng)器306控制所述升降平臺(tái)下降的最低位置。當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)，所述升降機(jī)構(gòu)上升以使得所述夾持機(jī)構(gòu)201與所述濺射腔室固定，此時(shí)所述第一感應(yīng)器305控制上升的最高位置。當(dāng)更換處理單元時(shí)，所述升降機(jī)構(gòu)下降，以使得所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室分離，此時(shí)所述第二感應(yīng)器306控制下降的最低位置。
[0051]本實(shí)施例提供的夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍；所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離;所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)；所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)更換處理單元時(shí)將所述濺射腔室與處理單元分離。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案使用夾持機(jī)構(gòu)通過半自動(dòng)方式固定濺射腔室與靶材，在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案使用機(jī)械加緊，方便快捷，操作簡單，能夠節(jié)省拆卸和安裝螺絲需要耗費(fèi)的時(shí)間，從而提高了真空鍍膜效率。
[0052]實(shí)施例二
[0053]本實(shí)施例提供一種磁控濺射裝置，包括實(shí)施例一提供的夾持設(shè)備，具體內(nèi)容可參照實(shí)施例一的描述，此處不再贅述。
[0054]本實(shí)施例提供的磁控濺射裝置之中，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍;所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離;所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)；所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)更換處理單元時(shí)將所述濺射腔室與處理單元分離。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案使用夾持機(jī)構(gòu)通過半自動(dòng)方式固定濺射腔室與靶材，在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案使用機(jī)械加緊，方便快捷，操作簡單，能夠節(jié)省拆卸和安裝螺絲需要耗費(fèi)的時(shí)間，從而提高了真空鍍膜效率。
[0055]實(shí)施例三
[0056]圖5為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種夾持設(shè)備的工作方法的流程圖。如圖5所示，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍。所述夾持設(shè)備的工作方法包括:
[0057]步驟1001、所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離。
[0058]步驟1002、當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)。
[0059]步驟1003、當(dāng)更換處理單元時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)將所述濺射腔室與處理單元分離。
[0060]參見圖1，當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)201將所述濺射腔室與處理單元固定，當(dāng)更換處理單元時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)201將所述濺射腔室與處理單元分離，從而通過半自動(dòng)方式固定濺射腔室與靶材，在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。
[0061]本實(shí)施例中，所述升降機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)單元和控制單元，所述驅(qū)動(dòng)單元與所述夾持機(jī)構(gòu)201固定連接，所述控制單元與所述驅(qū)動(dòng)單元連接。所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降的步驟包括:所述驅(qū)動(dòng)單元在所述控制單元的控制之下驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降。優(yōu)選的，所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸301、電機(jī)302以及升降平臺(tái)303，所述控制單元包括電磁閥304、第一感應(yīng)器305以及第二感應(yīng)器306，所述氣缸301與所述夾持機(jī)構(gòu)201固定連接，所述電磁閥304與所述氣缸301連接，所述升降平臺(tái)303分別與所述氣缸301和所述電機(jī)302連接，所述第一感應(yīng)器305和所述第二感應(yīng)器306設(shè)置在所述升降平臺(tái)303與所述電機(jī)302之間。所述夾持設(shè)備的工作方法還包括:所述第一感應(yīng)器控制所述升降平臺(tái)上升的最高位置;所述第二感應(yīng)器控制所述升降平臺(tái)下降的最低位置。當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)，所述升降機(jī)構(gòu)上升以使得所述夾持機(jī)構(gòu)201與所述濺射腔室固定，此時(shí)所述第一感應(yīng)器305控制上升的最高位置。當(dāng)更換處理單元時(shí)，所述升降機(jī)構(gòu)下降，以使得所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室分離，此時(shí)所述第二感應(yīng)器306控制下降的最低位置。
[0062]圖6-10為實(shí)施例三中更換靶材的示意圖。如圖6所示，更換靶材之前，將真空腔室打開，所述夾持機(jī)構(gòu)201的凸起結(jié)構(gòu)203與靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板101的凹槽結(jié)構(gòu)分離，使得所述夾持機(jī)構(gòu)201與靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板101松開。如圖7所示，所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)201整體下降，以使得所述夾持機(jī)構(gòu)201與所述靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板101分離。如圖8、圖9以及圖1所示，將所述靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板101取下，再依次設(shè)置更換之后的靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板101，最后所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)201整體上升，所述夾持機(jī)構(gòu)201的凸起結(jié)構(gòu)203設(shè)置在靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板101的凹槽結(jié)構(gòu)之內(nèi)，使得所述夾持機(jī)構(gòu)201與靶材104、絕緣板103、冷卻層102以及平面防著板101固定。再對(duì)真空腔室抽取真空，從而完成了對(duì)靶材的更換。因此，本實(shí)施例在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。
[0063]本實(shí)施例提供的夾持設(shè)備的工作方法之中，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍；所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離;所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)；所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)更換處理單元時(shí)將所述濺射腔室與處理單元分離。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案使用夾持機(jī)構(gòu)通過半自動(dòng)方式固定濺射腔室與靶材，在更換靶材的過程之中避免造成數(shù)量較多的顆粒，從而提高了真空鍍膜質(zhì)量。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案使用機(jī)械加緊，方便快捷，操作簡單，能夠節(jié)省拆卸和安裝螺絲需要耗費(fèi)的時(shí)間，從而提高了真空鍍膜效率。
[0064]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種夾持設(shè)備，其特征在于，包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍； 所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離； 所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)； 所述夾持機(jī)構(gòu)用于當(dāng)更換處理單元時(shí)將所述濺射腔室與處理單元分離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述夾持機(jī)構(gòu)包括固定板和多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)，所述凸起結(jié)構(gòu)固定設(shè)置在所述固定板上，所述處理單元上設(shè)置有多個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)，所述濺射腔室上設(shè)置有多個(gè)過孔，所述過孔與所述凹槽結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述凸起結(jié)構(gòu)通過所述過孔與所述凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，以使所述濺射腔室與處理單元固定或者分離。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述處理單元包括靶材、絕緣板、冷卻層以及平面防著板。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述凸起結(jié)構(gòu)的數(shù)量為3個(gè)，所述平面防著板設(shè)置在所述冷卻層上，所述冷卻層設(shè)置在所述絕緣板上，所述絕緣板設(shè)置在所述靶材上，所述3個(gè)凸起結(jié)構(gòu)分別與設(shè)置在所述靶材、絕緣板以及冷卻層上的凹槽結(jié)構(gòu)相互配合，以使所述濺射腔室分別與所述靶材、絕緣板以及冷卻層固定或者分離。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述夾持機(jī)構(gòu)的數(shù)量為8個(gè)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述8個(gè)夾持機(jī)構(gòu)平均分成4組，所述4組夾持機(jī)構(gòu)分別均勻設(shè)置在所述濺射腔室的四周。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)單元和控制單元，所述驅(qū)動(dòng)單元與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述控制單元與所述驅(qū)動(dòng)單元連接； 所述驅(qū)動(dòng)單元用于在所述控制單元的控制之下驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸、電機(jī)以及升降平臺(tái)，所述控制單元包括電磁閥、第一感應(yīng)器以及第二感應(yīng)器，所述氣缸與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述電磁閥與所述氣缸連接，所述升降平臺(tái)分別與所述氣缸和所述電機(jī)連接，所述第一感應(yīng)器和所述第二感應(yīng)器設(shè)置在所述升降平臺(tái)與所述電機(jī)之間； 所述第一感應(yīng)器用于控制所述升降平臺(tái)上升的最高位置； 所述第二感應(yīng)器用于控制所述升降平臺(tái)下降的最低位置。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述夾持機(jī)構(gòu)的外部設(shè)置有絕緣材料層。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述絕緣材料層的構(gòu)成材料為聚四氟乙稀。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述絕緣材料層的厚度范圍為1.5cm_5cm012.根據(jù)權(quán)利要求11所述的夾持設(shè)備，其特征在于，所述絕緣材料層的厚度為10cm。13.—種磁控濺射裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-12任一所述的夾持設(shè)備。14.一種夾持設(shè)備的工作方法，其特征在于，所述夾持設(shè)備包括升降機(jī)構(gòu)和多個(gè)夾持機(jī)構(gòu)，所述夾持機(jī)構(gòu)固定設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)上，所述夾持機(jī)構(gòu)設(shè)置在濺射腔室的周圍； 所述夾持設(shè)備的工作方法包括: 所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降，以使所述夾持機(jī)構(gòu)與所述濺射腔室固定或者分離； 當(dāng)進(jìn)行濺射工藝時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)將所述濺射腔室與處理單元固定，所述處理單元設(shè)置在所述濺射腔室內(nèi)； 當(dāng)更換處理單元時(shí)，所述夾持機(jī)構(gòu)將所述濺射腔室與處理單元分離。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的夾持設(shè)備的工作方法，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)單元和控制單元，所述驅(qū)動(dòng)單元與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述控制單元與所述驅(qū)動(dòng)單元連接； 所述升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降的步驟包括: 所述驅(qū)動(dòng)單元在所述控制單元的控制之下驅(qū)動(dòng)所述夾持機(jī)構(gòu)上升或者下降。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的夾持設(shè)備的工作方法，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸、電機(jī)以及升降平臺(tái)，所述控制單元包括電磁閥、第一感應(yīng)器以及第二感應(yīng)器，所述氣缸與所述夾持機(jī)構(gòu)固定連接，所述電磁閥與所述氣缸連接，所述升降平臺(tái)分別與所述氣缸和所述電機(jī)連接，所述第一感應(yīng)器和所述第二感應(yīng)器設(shè)置在所述升降平臺(tái)與所述電機(jī)之間； 所述夾持設(shè)備的工作方法還包括: 所述第一感應(yīng)器控制所述升降平臺(tái)上升的最高位置； 所述第二感應(yīng)器控制所述升降平臺(tái)下降的最低位置。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK105887033SQ201610388880
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2016年6月2日
【發(fā)明人】肖磊, 陳民, 陳一民, 田忠朋
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司