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高徑厚比云母粉的制備方法與流程

文檔序號:11122572閱讀:989來源:國知局

本發(fā)明屬于精細化工材料領(lǐng)域,具體涉及一種高徑厚比云母粉的制備方法。



背景技術(shù):

目前,高徑厚比云母粉的制備方法有很多,其中比較普遍使用的一種制備方法是:先用氫氧化鈉對云母粉進行插層膨脹處理,然后再進行剝離和研磨處理。但是該方法存在很多的弊端,例如,在采用氫氧化鈉對云母粉進行插層膨脹處理的過程中,需要進行加熱和超聲波處理,這種工藝方法的技術(shù)難度大、成本高。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明提供一種高徑厚比云母粉的制備方法,該方法解決了采用氫氧化鈉對云母粉進行插層膨脹處理的過程中,需要進行加熱和超聲波處理,工藝技術(shù)難度大、成本高的問題。

為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:

它包括以下步驟:

A.將原料云母粉與水按固液比為1:3~5進行配漿,制得云母粉漿液;

B.向云母粉漿液中加入尿素過飽和溶液,制得云母粉插層液;其中,所述尿素過飽和溶液是由質(zhì)量不小于原料云母粉干重的尿素與水制成的過飽和溶液;

C.將云母粉插層液加水稀釋至固液比為18~25:100,制得云母粉插層稀釋液;

D.將云母粉插層稀釋液放入膠體磨中進行剝離和研磨處理。

上述技術(shù)方案中,更具體的技術(shù)方案還可以是:B步驟中,在加入尿素過飽和溶液后,攪拌均勻,靜置3天~5天。

更進一步的,所述膠體磨的磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)節(jié)至最小,變頻器頻率調(diào)節(jié)至50Hz。

由于采用上述技術(shù)方案,本發(fā)明得到的有益效果是:

1.本發(fā)明通過采用尿素作為插層劑,使得在對原料云母粉進行插層處理的過程中,無需進行加熱和超聲處理,從而降低技術(shù)難度和生產(chǎn)成本。

2.本發(fā)明通過將膠體磨的磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)節(jié)至最小,以及將變頻器輸出頻率調(diào)節(jié)至50Hz,提高膠體磨內(nèi)物料之間的雷諾系數(shù),從而提高其剝離效果。

具體實施方式

為了更好的說明本發(fā)明,以下結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進一步詳述,而本發(fā)明的保護范圍并非僅僅局限于以下實施例。

實施例1——高徑厚比云母粉的制備方法

它包括以下步驟:

A、將粒度分布為d90=61.84μm 、d50=31.98μm 、d10=16.54μm、比表面積為0.083的原料云母粉用水按固液比1:3配漿,攪拌均勻,制得云母粉漿液;

B、稱取與該原料云母粉干重相同的尿素,并用水按固液比1:1制備過飽和溶液,制得尿素過飽和溶液;

C、將尿素過飽和溶液倒入云母粉漿液中,攪拌均勻,然后靜置3天,完成插層處理,制得云母粉插層液;

D、將云母粉插層液用水稀釋到固體顆粒濃度為18g/100ml,制得云母粉插層稀釋液;

E、用清水清洗膠體磨,并將膠體磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)到最小,然后開機,并調(diào)節(jié)變頻器輸出頻率為50Hz;

F、將制得的云母粉插層稀釋液盡量以與膠體磨進料口中心保持豎直的狀態(tài)倒入上述膠體磨進料口反復(fù)進行剝片、破碎和磨圓棱角;同時對膠體磨內(nèi)的物料進行實時監(jiān)測取樣,并用馬爾文激光粒度儀檢測;

G、當(dāng)所述膠體磨內(nèi)的物料的粒度分布為d90=60.51μm 、d50=31.51μm 、d10=16.07μm、比表面積為0.0887時,關(guān)停所述膠體磨。

實施例2

A、將粒度分布為d90=62.07μm 、d50=32.06μm 、d10=16.47μm、比表面積為0.084的原料云母粉用水按固液比1:5配漿,攪拌均勻,制得云母粉漿液;

B、稱取該原料云母粉干重1.5倍的尿素,并用水按固液比1:1制備過飽和溶液,制得尿素過飽和溶液;

C、將尿素過飽和溶液倒入云母粉漿液中,攪拌均勻,然后靜置5天,完成插層處理,制得云母粉插層液;

D、將云母粉插層液用水稀釋到固體顆粒濃度為25g/100ml,制得云母粉插層稀釋液;

E、用清水清洗膠體磨,并將膠體磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)到最小,然后開機,并調(diào)節(jié)變頻器輸出頻率為50Hz;

F、將制得的云母粉插層稀釋液盡量以與膠體磨進料口中心保持豎直的狀態(tài)倒入上述膠體磨進料口反復(fù)進行剝片、破碎和磨圓棱角;同時對膠體磨內(nèi)的物料進行實時監(jiān)測取樣,并用馬爾文激光粒度儀檢測;

G、當(dāng)所述膠體磨內(nèi)的物料的粒度分布為d90=60.32μm 、d50=31.51μm 、d10=16.11μm、比表面積為0.089時,關(guān)停所述膠體磨。

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