本技術(shù)涉及閥板上料領(lǐng)域，尤其涉及一種閥板上料機(jī)。

背景技術(shù)：

1、目前，對(duì)于閥板的上料采用上料機(jī)進(jìn)行，然而，目前對(duì)于閥板的上料采用兩個(gè)并排的料倉(cāng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，如公開日為：2022.02.08，公開號(hào)為：cn?114012423?a的發(fā)明專利，公開了一種閥板組裝機(jī)，包括閥板上料裝置，閥板上料裝置包括吸盤機(jī)械手、頂升機(jī)構(gòu)和閥板存放座，根據(jù)該文獻(xiàn)公開的附圖可見，閥板存放座設(shè)有兩個(gè)，并排設(shè)置分布，該閥板上料需要將兩個(gè)料倉(cāng)均裝滿閥板后，再利用吸盤機(jī)械手逐一抓取閥板進(jìn)行組裝，無(wú)法同步抓取其中一個(gè)料倉(cāng)內(nèi)的閥板，對(duì)另一個(gè)料倉(cāng)進(jìn)行上料，影響了閥板的上料效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為克服上述缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于一種提高閥板上料效率的閥板上料機(jī)。

2、為了達(dá)到以上目的，本實(shí)用新型采用的其中一種技術(shù)方案是：一種閥板上料機(jī)，包括：

3、旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)由驅(qū)動(dòng)源驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)開設(shè)有兩個(gè)倉(cāng)體，兩個(gè)所述倉(cāng)體相對(duì)設(shè)置，且每個(gè)所述倉(cāng)體的外側(cè)壁開設(shè)有貫穿倉(cāng)體的開口，所述倉(cāng)體內(nèi)設(shè)置有上下貫穿的閥板腔，所述倉(cāng)體的下端的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有支撐塊；

4、頂塊，通過旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)的旋轉(zhuǎn)，所述頂塊能伸至任意一個(gè)開口內(nèi)，所述頂塊由伺服直線模組驅(qū)動(dòng)升降，用以將每個(gè)所述閥板腔內(nèi)的閥板提升；

5、真空吸附上料模組，用以將閥板腔頂部的閥板吸附并移送。

6、優(yōu)選地，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)的上端和下端轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在機(jī)架上，所述機(jī)架上設(shè)置有限位件，用以對(duì)旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行限位，保證了真空吸附上料模組吸附閥板的精度，最終保證了閥板上料的精度。

7、優(yōu)選地，所述限位件包括兩個(gè)限位桿，兩個(gè)所述限位桿位于旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)底部的兩側(cè)，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)上設(shè)置有擋塊，當(dāng)所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)旋轉(zhuǎn)，所述擋塊能與任意一根限位桿發(fā)生抵接碰撞。通過機(jī)械式限位機(jī)構(gòu)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。

8、優(yōu)選地，所述伺服直線模組包括伺服電機(jī)、絲桿、導(dǎo)向桿以及導(dǎo)向套，所述導(dǎo)向桿和伺服電機(jī)均固定在機(jī)架上，所述絲桿轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在機(jī)架上，所述導(dǎo)向桿與絲桿相互平行且均呈豎直設(shè)置，所述伺服電機(jī)的輸出軸與絲桿的頂部連接固定，所述導(dǎo)向套固定在頂塊的一端，并套設(shè)在所述導(dǎo)向桿上，所述絲桿穿過頂塊且與其螺紋配合。導(dǎo)向桿給頂塊提供導(dǎo)向作用，伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)絲桿旋轉(zhuǎn)給頂塊的升降提供作用力，采用伺服電機(jī)作為驅(qū)動(dòng)源，具有可調(diào)控、精準(zhǔn)的優(yōu)點(diǎn)。

9、優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)源為旋轉(zhuǎn)氣缸，設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)的底部。旋轉(zhuǎn)氣缸下沉式設(shè)置，與頂部的伺服電機(jī)交錯(cuò)設(shè)置，使得結(jié)構(gòu)更為緊湊。

10、優(yōu)選地，所述機(jī)架上端的支撐板開設(shè)有弧形槽，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)位于弧形槽內(nèi)?；⌒尾鄣脑O(shè)置給旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)的旋轉(zhuǎn)提供讓位空間。

11、優(yōu)選地，所述真空吸附上料模組包括兩軸移動(dòng)模組、真空吸盤，所述真空吸盤由兩軸移動(dòng)模組驅(qū)動(dòng)平移、升降。

12、本實(shí)用新型閥板上料機(jī)的有益效果是：

13、將兩個(gè)倉(cāng)體相對(duì)設(shè)置，真空吸附上料模組在將其中一個(gè)倉(cāng)體內(nèi)的閥板吸附上料至下一個(gè)工位的過程中，人工或是機(jī)械手可以向另一個(gè)倉(cāng)體內(nèi)進(jìn)行上料，互不影響，提高了閥板的上料效率；頂塊的水平位置不動(dòng)僅升降，靠旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)的旋轉(zhuǎn)使得頂塊對(duì)其中一個(gè)倉(cāng)體內(nèi)的閥板上頂，結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小。

技術(shù)特征：

1.一種閥板上料機(jī)，其特征在于：包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥板上料機(jī)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)(10)的上端和下端轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在機(jī)架(60)上，所述機(jī)架(60)上設(shè)置有限位件。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的閥板上料機(jī)，其特征在于：所述限位件包括兩個(gè)限位桿(61)，兩個(gè)所述限位桿(61)位于旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)(10)底部的兩側(cè)，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)(10)上設(shè)置有擋塊(14)，當(dāng)所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)(10)旋轉(zhuǎn)，所述擋塊(14)能與任意一根限位桿(61)發(fā)生抵接碰撞。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥板上料機(jī)，其特征在于：所述伺服直線模組(40)包括伺服電機(jī)(41)、絲桿(42)、導(dǎo)向桿(43)以及導(dǎo)向套(44)，所述導(dǎo)向桿(43)和伺服電機(jī)(41)均固定在機(jī)架(60)上，所述絲桿(42)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在機(jī)架(60)上，所述導(dǎo)向桿(43)與絲桿(42)相互平行且均呈豎直設(shè)置，所述伺服電機(jī)(41)的輸出軸與絲桿(42)的頂部連接固定，所述導(dǎo)向套(44)固定在頂塊(30)的一端，并套設(shè)在所述導(dǎo)向桿(43)上，所述絲桿(42)穿過頂塊(30)且與其螺紋配合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥板上料機(jī)，其特征在于：所述驅(qū)動(dòng)源(20)為旋轉(zhuǎn)氣缸，設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)(10)的底部。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的閥板上料機(jī)，其特征在于：所述機(jī)架(60)上端的支撐板(62)開設(shè)有弧形槽(63)，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)(10)位于弧形槽(63)內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥板上料機(jī)，其特征在于：所述真空吸附上料模組(50)包括兩軸移動(dòng)模組(51)、真空吸盤(52)，所述真空吸盤(52)由兩軸移動(dòng)模組(51)驅(qū)動(dòng)平移、升降。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種閥板上料機(jī)，包括：旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)由驅(qū)動(dòng)源驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)開設(shè)有兩個(gè)倉(cāng)體，兩個(gè)所述倉(cāng)體相對(duì)設(shè)置，且每個(gè)所述倉(cāng)體的外側(cè)壁開設(shè)有貫穿倉(cāng)體的開口，所述倉(cāng)體內(nèi)設(shè)置有上下貫穿的閥板腔，所述倉(cāng)體的下端的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有支撐塊；頂塊，通過旋轉(zhuǎn)料倉(cāng)的旋轉(zhuǎn)，所述頂塊能伸至任意一個(gè)開口內(nèi)，所述頂塊由伺服直線模組驅(qū)動(dòng)升降，用以將每個(gè)所述閥板腔內(nèi)的閥板提升；真空吸附上料模組，用以將閥板腔頂部的閥板吸附并移送。本技術(shù)提高了閥板的上料效率。

技術(shù)研發(fā)人員：王科杰,程忠春,汪武
受保護(hù)的技術(shù)使用者：無(wú)錫薈川智能科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240809
技術(shù)公布日：2025/5/15