本公開涉及一種基板待機(jī)部、基板處理系統(tǒng)以及基板處理方法。

背景技術(shù)：

1、已知一種具備批量處理部、單片處理部以及接口部的基板處理系統(tǒng)(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。接口部從批量處理部向單片處理部交接基板。接口部具有：純水供給部，其在基板的上表面形成純水的液膜；以及負(fù)荷傳感器，其測(cè)定形成于基板的上表面的液膜的質(zhì)量。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2023-129235號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、本公開提供一種能夠高精度地檢測(cè)涂布處理的不良的技術(shù)。

3、用于解決問題的方案

4、本公開的一個(gè)方式的基板待機(jī)部使在上表面和下表面附著有第一液膜的基板等待，所述基板待機(jī)部具備：處理液供給部，其對(duì)所述基板的上表面供給處理液；質(zhì)量測(cè)定部，其測(cè)定所述基板的質(zhì)量；第一攝像部，其獲取所述基板的上表面的圖像即上表面圖像；以及控制部，其中，所述控制部進(jìn)行以下控制：使所述處理液供給部對(duì)所述基板的所述上表面供給第一量的所述處理液來(lái)形成第二液膜；基于由所述質(zhì)量測(cè)定部測(cè)定的所述基板的質(zhì)量來(lái)計(jì)算所述第二液膜的質(zhì)量；使所述第一攝像部獲取所述上表面圖像；以及在所述第二液膜的質(zhì)量為第一閾值以上的情況下，基于所述上表面圖像來(lái)判定所述第二液膜的狀態(tài)。

5、發(fā)明的效果

6、根據(jù)本公開，能夠高精度地檢測(cè)涂布處理的不良。

技術(shù)特征：

1.一種基板待機(jī)部，其特征在于，使在上表面和下表面附著有第一液膜的基板等待，所述基板待機(jī)部具備：

2.一種基板待機(jī)部，使在上表面和下表面附著有第一液膜的基板等待，所述基板待機(jī)部具備：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板待機(jī)部，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板待機(jī)部，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板待機(jī)部，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板待機(jī)部，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板待機(jī)部，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板待機(jī)部，還具備：

9.根據(jù)權(quán)利要求2至8中的任一項(xiàng)所述的基板待機(jī)部，其中，

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板待機(jī)部，其中，

11.一種基板處理系統(tǒng)，

12.一種基板處理方法，包括：

技術(shù)總結(jié)
本公開提供一種基板待機(jī)部、基板處理系統(tǒng)以及基板處理方法，能夠提高生產(chǎn)能力?；宕龣C(jī)部使在上表面和下表面附著有第一液膜的基板等待，所述基板待機(jī)部具備：處理液供給部，其對(duì)所述基板的上表面供給處理液；質(zhì)量測(cè)定部，其測(cè)定所述基板的質(zhì)量；第一攝像部，其獲取所述基板的上表面的圖像即上表面圖像；以及控制部，其中，所述控制部進(jìn)行以下控制：使所述處理液供給部對(duì)所述基板的所述上表面供給第一量的所述處理液來(lái)形成第二液膜；基于由所述質(zhì)量測(cè)定部測(cè)定的所述基板的質(zhì)量來(lái)計(jì)算所述第二液膜的質(zhì)量；使所述第一攝像部獲取所述上表面圖像；以及在所述第二液膜的質(zhì)量為第一閾值以上的情況下，基于所述上表面圖像來(lái)判定所述第二液膜的狀態(tài)。

技術(shù)研發(fā)人員：平瀨圭太,田中幸二,木村裕二,武井獎(jiǎng)太,御所真高,戶川誠(chéng)司,北村和晃,萩島裕士,大原智章,江頭篤嗣
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15