本發(fā)明涉及一種基板升降裝置和基板加工方法。

背景技術(shù)：

1、在制造半導(dǎo)體器件的工藝中，半導(dǎo)體基板經(jīng)歷包括沉積材料層的工藝、蝕刻所沉積的材料層的工藝、清潔工藝和干燥工藝的幾個(gè)工藝。這些工藝在工藝腔室中執(zhí)行，該工藝腔室為半導(dǎo)體制造設(shè)備。

2、腔室為具有密封的內(nèi)部反應(yīng)區(qū)的反應(yīng)容器、并安裝有卡盤(pán)以固定位于內(nèi)部的半導(dǎo)體基板。在這種情況下，根據(jù)基板的夾持方法，卡盤(pán)可以分為使用真空的真空卡盤(pán)或使用靜電力的靜電卡盤(pán)。

3、通過(guò)基板傳送設(shè)備將基板傳送到腔室中或傳送出腔室?；宓膫魉褪窃谔嵘逡耘c卡盤(pán)間隔開(kāi)的狀態(tài)下進(jìn)行的。為了這個(gè)目的，卡盤(pán)設(shè)置有基板升降裝置以用于從卡盤(pán)提升或降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開(kāi)的方面提供了一種基板升降裝置和基板加工裝置，其中可以最小化或防止銷(xiāo)保持器的松動(dòng)。

2、本公開(kāi)的方面不限于以上提及的方面，并且本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將從以下描述中清楚地理解未提及的其他方面。

3、根據(jù)本公開(kāi)的方面，提供了一種基板升降裝置，該基板升降裝置包括：升降銷(xiāo)，該升降銷(xiāo)貫穿在加工空間中支承基板的基板支承單元、并提升和降低基板；銷(xiāo)保持器，升降銷(xiāo)的下部插入到該銷(xiāo)保持器中；以及波紋管(bellow)，該波紋管環(huán)繞銷(xiāo)保持器，其中，銷(xiāo)保持器形成有導(dǎo)向構(gòu)件(guide?member)，該導(dǎo)向構(gòu)件的下部與螺栓耦接(coupled)并沿加工空間的方向引導(dǎo)(guiding)在波紋管內(nèi)產(chǎn)生的氣流。

4、根據(jù)本公開(kāi)的另一方面，提供了一種基板加工裝置，該基板加工裝置包括：腔室，在該腔室中形成加工空間；基板支承單元，該基板支承單元設(shè)置在加工空間中并支承基板；真空泵，該真空泵在加工空間中產(chǎn)生真空氣氛；以及上文所描述的基板升降裝置。

5、根據(jù)本公開(kāi)的又一方面，提供了一種基板加工裝置，該基板加工裝置包括：腔室，在該腔室中形成通過(guò)等離子體蝕刻來(lái)加工基板的加工空間，該腔室形成基板通過(guò)其進(jìn)入和退出開(kāi)口、以及通過(guò)其將在加工空間中產(chǎn)生的副產(chǎn)品排放到外部的排出孔；基板支承單元，該基板支承單元設(shè)置在加工空間中并支承基板；真空泵，該真空泵在加工空間中產(chǎn)生真空氣氛；基板升降裝置，該基板升降裝置提升和降低基板；以及板，該板設(shè)置在腔室的底表面下方以能夠上下移動(dòng)來(lái)提升和降低基板升降裝置，其中，該基板升降裝置包括：升降銷(xiāo)，該升降銷(xiāo)貫穿基板支承單元和腔室的底表面、并且提升和降低基板；銷(xiāo)保持器，升降銷(xiāo)的下部插入到該銷(xiāo)保持器中、支承在板上、并且包括定位在上方的上部區(qū)域和定位在上部區(qū)域下方的下部區(qū)域，在上部區(qū)域中從頂部到底部形成切口槽(cut?groove)、以便于插入升降銷(xiāo)；以及波紋管，該波紋管環(huán)繞銷(xiāo)保持器、具有與銷(xiāo)保持器的外周表面接觸的內(nèi)側(cè)并支承在板上，并且銷(xiāo)保持器通過(guò)將下部與螺栓耦接而緊固到波紋管的內(nèi)下部，并且在銷(xiāo)保持器的下部區(qū)域中設(shè)置有凹螺旋槽(concave?spiral?groove)，該凹螺旋槽沿銷(xiāo)保持器的外周表面形成、以引導(dǎo)在加工空間產(chǎn)生真空氣氛時(shí)或在加工空間的空氣通過(guò)排出孔排放到外部時(shí)產(chǎn)生的氣流，并且具有沿與銷(xiāo)保持器組裝到螺栓的方向相同的方向向上傾斜的螺旋形狀。

6、其他示例性實(shí)施方案的細(xì)節(jié)包括在詳細(xì)描述和附圖中。

7、由于根據(jù)本公開(kāi)的基板升降裝置和基板加工裝置可以防止銷(xiāo)保持器的耦接變松，因此可以改善耐久性并且可以減少因螺栓松動(dòng)而產(chǎn)生的顆粒。

技術(shù)特征：

1.一種基板升降裝置，所述基板升降裝置包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板升降裝置，其中，所述導(dǎo)向構(gòu)件沿所述銷(xiāo)保持器的外周表面形成，并且形成沿與所述銷(xiāo)保持器裝配到所述螺栓的方向相同的方向向上傾斜的螺旋形狀。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板升降裝置，其中，所述導(dǎo)向構(gòu)件包括沿所述銷(xiāo)保持器的圓周的凹螺旋槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板升降裝置，其中，所述波紋管形成為使得所述波紋管的內(nèi)側(cè)與所述銷(xiāo)保持器的外周表面接觸。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板升降裝置，其中，所述導(dǎo)向構(gòu)件包括螺旋葉片，所述葉片在向外的方向上沿所述銷(xiāo)保持器的圓周延伸。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板升降裝置，其中，所述葉片的半徑小于所述銷(xiāo)保持器的半徑。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板升降裝置，其中，所述波紋管形成為使得所述波紋管的內(nèi)側(cè)與所述葉片的邊緣接觸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板升降裝置，其中，所述銷(xiāo)保持器包括定位在上方的上部區(qū)域和定位在所述上部區(qū)域下方的下部區(qū)域，

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板升降裝置，其中，在所述切口槽中形成其切割面積在下端擴(kuò)展的擴(kuò)展孔。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板升降裝置，其中，所述銷(xiāo)保持器具有形成在內(nèi)周表面上的螺紋、以耦接到螺栓，并且所述銷(xiāo)保持器設(shè)置有定位在下端處的凸片。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板升降裝置，其中，所述銷(xiāo)保持器與在所述波紋管的內(nèi)下部處的所述螺栓耦接，或者所述銷(xiāo)保持器與板上的所述螺栓耦接、所述板設(shè)置為能夠上下移動(dòng)以用于提升和降低所述升降銷(xiāo)。

12.一種基板加工裝置，所述基板加工裝置包括：

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板加工裝置，其中，所述基板加工裝置還包括：

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板加工裝置，其中，所述腔室形成有開(kāi)口以及排出孔，所述基板通過(guò)所述開(kāi)口進(jìn)入和退出，在加工空間中產(chǎn)生的副產(chǎn)品通過(guò)所述排出孔排放到外部，

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板加工裝置，其中，所述加工空間形成用于用等離子體蝕刻所述基板的蝕刻加工空間。

16.一種基板加工裝置，所述基板加工裝置包括：

技術(shù)總結(jié)
本公開(kāi)涉及基板升降裝置和包括該基板升降裝置的基板加工裝置。根據(jù)本公開(kāi)的基板升降裝置包括：升降銷(xiāo)，該升降銷(xiāo)貫穿在加工空間中支承基板的基板支承單元、并提升和降低基板；銷(xiāo)保持器，升降銷(xiāo)的下部插入到所述銷(xiāo)保持器中；以及波紋管，該波紋管環(huán)繞銷(xiāo)保持器，其中銷(xiāo)保持器形成有導(dǎo)向構(gòu)件，該導(dǎo)向構(gòu)件的下部與螺栓耦接并沿加工空間的方向引導(dǎo)在波紋管內(nèi)產(chǎn)生的氣流。

技術(shù)研發(fā)人員：黃文赫,崔漢彬
受保護(hù)的技術(shù)使用者：細(xì)美事有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15